本申请涉及干燥基板的方法和使用该方法制造图像显示装置的方法。该干燥基板的方法包括：斜向下地将第一气流(4)供给到基板上；斜向上地将第二气流5供给到基板上，同时相对地移动基板及上吹送部分和下吹送部分，以使得基板从作为基板的前面的端部区域经过上吹送部分与下吹送部分之间；控制第一气流和第二气流，以使得第二气流在与虚拟平面垂直的向上方向上的速度分量比第一气流在与虚拟平面垂直的向下方向上的速度分量小。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种通过将气体吹送到基板上来干燥基板的方法和制造图像显示装置的方法，特别地涉及一种使用气刀来干燥基板的方法。
技术介绍
在例如平板显示器的图像显示装置中，由抗蚀剂膜形成玻璃基板上的电路图案等。在抗蚀剂膜形成之后，有必要对抗蚀剂膜进行诸如显影的化学液体处理，在化学液体处理之后通过使用冲洗水(纯水)冲洗基板，然后干燥基板。对于基板的一系列处理通常是当在一个室中通过诸如辊传送器的移动单元移动基板的同时进行，所述处理包括化学液体处理、冲洗和干燥。日本专利申请公开No. 2003-133217公开了气刀通常被使用来干燥基板，干燥空气通过气刀被同时吹送到基板的上表面和下表面上，从而将冲洗水从基板的表面吹掉并移除，气刀由一对上气刀和下气刀形成，气刀的布置和空气的流速应该严格垂直对称。在上述一系列处理中，放置基板，以使得其上形成有抗蚀剂图案的表面变为上表面。已知的是，当基板被干燥时，如果干燥空气被太强烈地吹送到基板的上表面上，则发生抗蚀剂图案的破坏，日本专利申请公开No. 2007-149987公开了这样一种技术，该技术吹送干燥空气，然后吹送热空气到基板上来结束干燥，以防止抗蚀剂图案的破坏。日本专利申请公开No. 2007-144314公开了一种通过设计喷嘴的形状来用少量空气干燥基板的技术。以下将参照附图对上述的抗蚀剂图案的破坏现象进行描述。图IOA和IOB示意性地示出当通过使用气刀将干燥空气吹送到基板上时发生的抗蚀剂图案破坏的状态。图 IOA是从基板的上侧观看的基板的平面图(plan view)，图IOB是从横向方向观看的基板的侧视图。抗蚀剂表面难溶层9的剥离发生在与从气刀供给的空气的方向相同的方向上， 剥离部分9a沉积在抗蚀剂图案8上以形成条带形缺陷10。抗蚀剂表面难溶层9是指这样的层，即，由于由未曝光抗蚀剂的表面与显影剂(例如TMAH(四甲基氢氧化铵)的水溶液) 接触而引起的树脂和感光剂的偶氮偶合反应，而导致未曝光抗蚀剂的表面变为在TMAH的水溶液中难溶。已知的是，抗蚀剂表面难溶层9通常被形成为具有从抗蚀剂9b的表面起的 50-200nm的厚度。已知的是，当基板经过气刀时，条带形缺陷10仅发生在基板的端部区域3中。这里，基板的端部区域3是指就从基板的上表面(其上形成有抗蚀剂图案的表面)的顶侧的端部21测量的距离而言大约10-20mm的范围。当有效图案区域22存在于端部区域3中时， 如果这样的缺陷发生在有效图案区域22中，则缺陷导致引起产量的降低。这里，有效图案区域22是指这样的区域，在该区域中，具有固定厚度的抗蚀剂膜形成在基板的表面上并且可形成图案，有效图案区域22通常是指在距基板的端部固定距离的内侧中的区域。抗蚀剂膜的厚度在有效图案区域22的外侧不固定的原因包括当用旋涂法涂布抗蚀剂时基板的端部中的表面张力的影响和当用狭缝涂布法涂布抗蚀剂时涂布操作的开始时间和结束时间4中的抽吸操作的不稳定性。条带形缺陷由冲洗液的雾与基板表面的碰撞形成，所述冲洗液的雾是在当用气刀干燥端部区域3时形成并经过了干燥空气。专利文档2和3中所述的方法难以防止基板的端部区域3中的抗蚀剂表面难溶层9剥离并再沉积到抗蚀剂图案8上，并且这些方法难以解决上述问题。本专利技术的目的是提供一种干燥基板的方法和制造图像显示装置的方法，所述干燥基板的方法可抑制条带形缺陷的发生，所述条带形缺陷由基板的端部区域中的、被吹送的气体剥离的抗蚀剂表面难溶层的再沉积形成。
技术实现思路
根据本专利技术的一方面，一种通过吹送气体来干燥基板的方法，所述基板在包括所述基板的上表面的端部区域在内的所述上表面上涂布有抗蚀剂，在抗蚀剂的表面上涂布有表面难溶层，然后被冲洗，所述方法包括以下步骤从位于虚拟平面上方的上吹送部分斜向下地将第一气流供给到基板上以用于干燥基板，所述虚拟平面包括位于基板的厚度中心的中心平面；从位于虚拟平面下方的下吹送部分斜向上地将第二气流供给到基板上以用于干燥基板，同时相对移动基板与上吹送部分和下吹送部分，以使得基板从作为基板的前面的端部区域经过上吹送部分与下吹送部分之间；和控制第一气流和第二气流，以使得第二气流在与所述虚拟平面垂直的向上方向上的速度分量比第一气流在与所述虚拟平面垂直的向下方向上的速度分量小。在干燥基板时，产生冲洗中所用的冲洗液的雾。通过控制第一气流和第二气流以使得第二气流在与所述虚拟平面垂直的向上方向上的速度分量比第一气流在向下方向上的速度分量小，从而抑制雾，以使其不朝向基板的上表面。因此，将减少通过组合气流流动的并与基板的端部区域碰撞的雾，从而抑制有效图案区域中的条带形缺陷的形成。根据本专利技术的其它实施例，控制第一气流和第二气流，以使得来自定位的上吹送部分的第一气流的方向与虚拟平面之间的第一角度比来自定位的下吹送部分的第二气流的方向与虚拟平面之间的第二角度大。根据本专利技术的另外的实施例，一种图像显示装置的制造方法包括以下步骤按照根据以上干燥方法的方法对涂布有抗蚀剂的基板进行干燥；根据对所述基板上的抗蚀剂的蚀刻来形成布线图案；和在所述布线图案上布置图像显示器件。根据本专利技术，可提供一种干燥基板的方法和制造图像显示装置的方法，所述干燥基板的方法可抑制条带形缺陷的发生，所述条带形缺陷由基板的端部区域中的、被吹送的气体剥离的抗蚀剂表面难溶层的再沉积形成。从以下参照附图对示例性实施例的描述，本专利技术的进一步的特征将变得清楚。 附图说明图IA和IB是示出抗蚀剂显影装置的构造的概念图。图2A、2B和2C是示出气刀的布置的平面图和侧视图。图3是示出当从气刀吹送的干燥空气的速度被设置为垂直不对称时的气流状态的视图。图4是示出当从下侧气刀吹送的干燥空气的速度变化时的缺陷的长度的图表。图5是示出当由各个气刀形成与虚拟平面形成的角度被设置为垂直不对称时的气流状态的视图。图6是示出当第二角度变化时的缺陷的长度的图表。图7A和7B是示出当从上侧气刀吹送的干燥空气的速度和基板的输送速度变化时的缺陷的长度的图表。图8A和8B是示出图像显示器件的矩阵布线结构的视图。图9是示出在常规示例中的因从气刀供给的干燥空气而导致的气流的状态的视图。图IOA和IOB是在抗蚀剂膜的表面上出现的条带形缺陷的示意图。 具体实施例方式现在，将根据附图对本专利技术的优选实施例进行详细描述。以下将参照附图对根据本专利技术的干燥基板的方法的实施例进行描述。作为本专利技术的对象的基板可以是用于任何应用的任何基板，但是作为示例，包括用于在其中形成电子发射器件的平板型图像显示装置的玻璃基板。用于形成图案的抗蚀剂被涂布在基板的要形成图案的面(face)的整个表面上。抗蚀剂也涂布在端部区域上，所述端部区域是沿着基板的端部的带状区域，但是由于端部区域的膜厚度不稳定，所以端部区域不被用作用于在其中形成图案的区域。就在与端部垂直的方向上从端部测量的距离而言，端部区域的宽度为例如大约10-20mm。要涂布在基板上的抗蚀剂期望是包含作为主要成分的酚醛基树脂的正性抗蚀剂，并且涂布的抗蚀剂的膜厚度期望被设置为3 μ m或更小。保持基板的其上涂布有抗蚀剂的面在后面的步骤中向上。由于此，其上涂布有抗蚀剂的面导致成为基板的上表面。通过使用曝光设备将其上涂布有抗蚀剂的基板曝光，以在其上形成预定图案。将曝光的基板输送到抗蚀剂显影装置中，并本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：内海一成，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：
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