【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及基板处理装置、基板处理装置的控制方法、物品制造方法以及计算机可读介质。
技术介绍
1、在用于制造半导体器件或液晶显示器件等物品的装置中，能够由搬送机构搬送基板。当搬送机构用保持部保持并搬送基板时的保持力不充分时停止对基板的搬送，并能够促使操作者进行回收。作为对基板的保持力不充分的原因，例如能够举出基板的背面的污染、基板的翘曲、搬送机构的劣化、真空吸引用的压力的异常等。
2、在专利文献1中记载了对保持被搬送物的保持部的保持力进行检测，并选择与其保持力对应的搬送特性。
3、在搬送机构用保持部保持并搬送基板的期间，有时基板会相对于保持部而移动。在那样的情况下，无法将基板准确地搬送到目标位置，因此可能会发生基板与其它构件碰撞等搬送错误。
4、现有技术文献
5、专利文献
6、专利文献1：日本特开2001-219390号公报
技术实现思路
1、本专利技术的一个方面提供有利于减少发生搬送错误的技术。
2、本专利技术的第一方面涉及对基板进行处理的基板处理装置，所述基板处理装置具备：对齐部，其测量所述基板的位置偏差以及基于所述测量而对所述基板进行对齐；搬送系统，其搬送所述基板；以及控制部，其执行评价处理，所述评价处理是在由所述搬送系统将被所述对齐部进行了所述对齐的所述基板搬送通过既定路径之后由所述对齐部对所述基板的位置偏差再进行测量的处理，所述控制部基于由所述评价处理获得的所述位置偏差来控制所述搬送系统对所述基板的
3、本专利技术的第二方面涉及基板处理装置的控制方法，所述基板处理装置具备：对齐部，其测量基板的位置偏差以及基于所述测量而对所述基板进行对齐；以及搬送系统，其搬送所述基板，所述控制方法包括；第一工序，控制所述对齐部使得对所述基板进行对齐；第二工序，在所述第一工序之后，控制所述搬送系统使得将所述基板搬送通过既定路径；第三工序，在所述第二工序之后，控制所述对齐部使得测量所述基板的位置偏差；以及第四工序，基于在所述第三工序中获得的所述位置偏差来控制所述搬送系统对所述基板的搬送。
4、本专利技术的第三方面涉及物品制造方法，所述物品制造方法包括对形成有所述图案的所述基板进行处理由此获得物品的工序，形成所述图案的工序包括；第一工序，控制所述对齐部使得对所述基板进行对齐；第二工序，在所述第一工序之后，控制所述搬送系统使得将所述基板搬送通过既定路径；第三工序，在所述第二工序之后，控制所述对齐部使得测量所述基板的位置偏差；第四工序，基于在所述第三工序中获得的所述位置偏差来控制所述搬送系统对所述基板的搬送；以及第五工序，在所述搬送系统对所述基板的保持力大于规定值的情况下，控制所述搬送系统使得将所述基板搬送到图案形成部，在所述保持力小于所述规定值的情况下，实施所述第一工序、所述第二工序、所述第三工序以及所述第四工序。
5、本专利技术的第四方面涉及计算机可读介质，其存储有使基板处理装置的控制部动作使得执行控制所述基板处理装置的控制方法的程序，所述基板处理装置具备：对齐部，其测量基板的位置偏差以及基于所述测量而对所述基板进行对齐；以及搬送系统，其搬送所述基板，所述控制方法包括：第一工序，控制所述对齐部使得对所述基板进行对齐；第二工序，在所述第一工序之后，控制所述搬送系统使得将所述基板搬送通过既定路径；第三工序，在所述第二工序之后，控制所述对齐部使得测量所述基板的位置偏差；以及第四工序，基于在所述第三工序中获得的所述位置偏差来控制所述搬送系统对所述基板的搬送。
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1.一种基板处理装置，其对基板进行处理，所述基板处理装置的特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
5.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，
8.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
9.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，
11.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
12.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
13.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
14.一种基板处理装置的控制方法，所述基板处理装置具备：对齐部，其测量基板的位置偏差以及基于所述测量而对所述基板进行对齐；以及搬送
15.根据权利要求14所述的基板处理装置的控制方法，其特征在于，
16.根据权利要求15所述的基板处理装置的控制方法，其特征在于，
17.根据权利要求16所述的基板处理装置的控制方法，其特征在于，
18.一种物品制造方法，其特征在于，包括：
19.一种计算机可读介质，其存储有使基板处理装置的控制部动作来执行所述基板处理装置的控制方法的程序，所述基板处理装置具备：对齐部，其测量基板的位置偏差以及基于所述测量而对所述基板进行对齐；以及搬送系统，其搬送所述基板，在所述计算机可读介质中，
...【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其对基板进行处理，所述基板处理装置的特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
5.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，
8.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
9.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，
11.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
12.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
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【专利技术属性】
技术研发人员：川岛纯，佐藤秀司，杉浦聪，田村刚一，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：
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