本实用新型专利技术公开了一种连续性镀膜生产线活动挡板装置，包括设置于真空镀膜室壳体内的活动挡板机构和调节机构。活动挡板机构包括与调节机构相连接的并在调节机构带动下转动的丝杆和通过螺母与丝杆相连接的挡板。本实用新型专利技术还公开了一种真空镀膜设备，该镀膜设备的真空镀膜室内部设置有上述活动挡板装置。采用本实用新型专利技术的活动挡板装置的真空镀膜设备在进行真空镀膜过程中出现膜厚不均匀时不需要破空，也无需关靶处理，可直接在真空镀膜室外部通过旋转转轴对挡板进行调节。由于挡板为三角形，挡板的上下运动量的不同所挡住的溅射区域的面积也是不同的，可以根据上下膜厚不均匀的情况，调节挡板上下运动量，以调节膜厚的均匀性。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜辅件，尤其涉及一种连续性镀膜生产线活动挡板装置。
技术介绍
镀膜的基本过程是玻璃工件经清洗、烘干、抽气、镀膜、输出。其中，镀膜是在真空溅射镀膜室进行。在真空镀膜室内设有溅射靶，从溅射靶溅射出来的金属或者金属化合物沉寂于玻璃表面形成膜层，镀膜完成后玻璃由传动装置输出。整个生产过程是半连续或连续的，在溅射靶源周围设置有调节膜层厚度的挡板，现有技术中由于考虑到真空容器的密闭问题，都采取固定挡板的方式。但是采用固定挡板在真空状态的环境下无法自主调整挡板以达到调节膜厚均勻性的目的，只有等到下次破空再根据光学数据修正挡板，这样会造成大量的财力浪费，也会导致工艺调试的时间较长。
技术实现思路
本技术实施例所要解决的技术问题在于，提供一种连续性镀膜生产线活动挡板装置及真空镀膜设备，以解决现有技术镀膜过程中由于采用固定挡板造成的大量的财力浪费和工艺调试的时间较长的问题。为了解决上述技术问题，本技术实施例提出了一种连续性镀膜生产线活动挡板装置，包括设置于真空镀膜室壳体内的活动挡板机构和与所述活动挡板机构相连接且一端伸出真空镀膜室壳体外部以便对活动挡板机构进行调节的调节机构，所述活动挡板机构包括与所述调节机构相连接的并在所述调节机构带动下转动的丝杆、螺合于丝杆上而可在丝杆带动下沿丝杆轴向移动的螺母以及与螺母固定连接的挡板。进一步地，所述螺母为滚珠丝杆螺母。进一步地，所述挡板为三角形。进一步地，所述调节机构包括一端与所述丝杆相连接另一端伸出真空镀膜室壳体外部的转轴、对转轴与真空镀膜室壳体相接触处进行密封的轴封、套设于所述转轴上的轴承以及与所述真空镀膜室壳体相连接的用于固定轴承和轴封的固定件。本技术还提供了一种真空镀膜设备，在真空镀膜设备的真空镀膜室内部设置有用于调整镀膜厚度的挡板，所述挡板为上述的连续性镀膜生产线活动挡板装置。本技术的活动挡板装置和采用该活动挡板装置的真空镀膜设备在进行真空镀膜过程中出现膜厚不均勻时不需要破空，也无需关靶处理，可直接在真空镀膜室外部通过旋转转轴对挡板进行调节。由于挡板为三角形，挡板的上下运动量的不同所挡住的溅射区域的面积也是不同的，可以根据上下膜厚不均勻的情况，调节挡板上下运动量，以调节膜厚的均勻性。附图说明图1是本技术的连续性镀膜生产线活动挡板装置的结构示意图。图2是本技术的连续性镀膜生产线活动挡板装置的分解图。具体实施方式图1、图2所示分别为本技术实施例的连续性镀膜生产线活动挡板装置的结构示意图和分解图，如图所示该活动挡板装置包括设置于真空镀膜室壳体30内的活动挡板机构10和与活动挡板机构10相连接且一端伸出真空镀膜室壳体30外部以便对活动挡板机构10进行调节的调节机构20。活动挡板机构10包括与调节机构20相连接的丝杆1、螺母2以及挡板3。其中丝杆1在调节机构20带动下可转动，螺母2与挡板3固定连接，螺母2螺合套设在丝杆1 上，当丝杆1转动时螺母2沿丝杆1轴向上下移动，进而带动挡板3上下移动。如图2所示调节机构20包括转轴11、轴封12、轴承13和固定件14。其中，转轴 11的一端与丝杆1相连接，转轴11另一端伸出真空镀膜室壳体30外部。轴封12套设在转轴11上用于对转轴11与真空镀膜室壳体30相接触处进行密封。轴承13和固定件14均套设在转轴11上，固定件14设置有与真空镀膜室壳体30相配合的螺纹，当固定件14扣合到真空镀膜室壳体30时可将轴承13和轴封12固定。本实施例中螺母2采用滚珠丝杆螺母，具体实施时也采用其他形式的丝杆螺母。 本实施例中挡板3为三角形，由于挡板3的形状为三角形，挡板3的上下运动量的不同所挡住的溅射区域的面积也是不同的，可以根据上下膜厚不均勻的情况，调节挡板3上下运动量，以调节膜厚的均勻性。本技术还提供了一种真空镀膜设备，在该真空镀膜设备的真空镀膜室内部设置有用于调整镀膜厚度的挡板，该挡板采用上述图1和图2所示的连续性镀膜生产线活动挡板装置，具体结构参见图1和图2这里不再赘述。本技术的真空镀膜设备在进行真空镀膜过程中出现膜厚不均勻时不需要破空，也无需关靶处理，利用两个轴封12同向密封，加装转轴11和丝杆1，根据上下膜厚不均勻的情况可直接在真空镀膜室壳体30外部调节挡板3，控制挡板3的上下运动量。以上所述是本技术的具体实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本技术的保护范围。权利要求1.一种连续性镀膜生产线活动挡板装置，其特征在于，包括设置于真空镀膜室壳体内的活动挡板机构和与所述活动挡板机构相连接且一端伸出真空镀膜室壳体外部以便对活动挡板机构进行调节的调节机构，所述活动挡板机构包括与所述调节机构相连接的并在所述调节机构带动下转动的丝杆、螺合于丝杆上而可在丝杆带动下沿丝杆轴向移动的螺母以及与螺母固定连接的挡板。2.如权利要求1所述的连续性镀膜生产线活动挡板装置，其特征在于，所述螺母为滚珠丝杆螺母。3.如权利要求1所述的连续性镀膜生产线活动挡板装置，其特征在于，所述挡板为三角形。4.如权利要求1所述的连续性镀膜生产线活动挡板装置，其特征在于，所述调节机构包括一端与所述丝杆相连接另一端伸出真空镀膜室壳体外部的转轴、对转轴与真空镀膜室壳体相接触处进行密封的轴封、套设于所述转轴上的轴承以及与所述真空镀膜室壳体相连接的用于固定轴承和轴封的固定件。5.一种真空镀膜设备，其特征在于，在真空镀膜设备的真空镀膜室内部设置有用于调整镀膜厚度的挡板，所述挡板为权利要求1 4中任意一项所述的连续性镀膜生产线活动挡板装置。专利摘要本技术公开了一种连续性镀膜生产线活动挡板装置，包括设置于真空镀膜室壳体内的活动挡板机构和调节机构。活动挡板机构包括与调节机构相连接的并在调节机构带动下转动的丝杆和通过螺母与丝杆相连接的挡板。本技术还公开了一种真空镀膜设备，该镀膜设备的真空镀膜室内部设置有上述活动挡板装置。采用本技术的活动挡板装置的真空镀膜设备在进行真空镀膜过程中出现膜厚不均匀时不需要破空，也无需关靶处理，可直接在真空镀膜室外部通过旋转转轴对挡板进行调节。由于挡板为三角形，挡板的上下运动量的不同所挡住的溅射区域的面积也是不同的，可以根据上下膜厚不均匀的情况，调节挡板上下运动量，以调节膜厚的均匀性。文档编号C23C14/56GK202157118SQ20112025495公开日2012年3月7日 申请日期2011年7月18日 优先权日2011年7月18日专利技术者徐日宏, 李小军, 罗高军, 郑芳平 申请人:深圳市三鑫精美特玻璃有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种连续性镀膜生产线活动挡板装置，其特征在于，包括：设置于真空镀膜室壳体内的活动挡板机构和与所述活动挡板机构相连接且一端伸出真空镀膜室壳体外部以便对活动挡板机构进行调节的调节机构，所述活动挡板机构包括与所述调节机构相连接的并在所述调节机构带动下转动的丝杆、螺合于丝杆上而可在丝杆带动下沿丝杆轴向移动的螺母以及与螺母固定连接的挡板。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：徐日宏，郑芳平，李小军，罗高军，
申请(专利权)人：深圳市三鑫精美特玻璃有限公司，
类型：实用新型
国别省市：94
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