提供了一种具有非磁性基底的磁记录介质。在非磁性基底的至少一侧上形成用于使磁性层磁性分离的磁性图形。磁性图形由磁性区域和形成为围绕磁性区域的非磁性区域形成。非磁性区域形成相对于磁性图形的凹部，并且磁性图形包括数据区域和伺服信息区域。数据区域中的凹部的面积比率与伺服信息区域中的凹部的面积比率之差在正／负１０％以内。磁性区域由颗粒状结构的磁性层构成，在颗粒状结构中，磁性颗粒被氧化剂所围绕，或者磁性区域由两层结构的磁性层形成，该两层结构由颗粒状结构和形成在颗粒状结构上的非颗粒状结构形成。该磁记录介质呈现稳定的磁头悬浮，这可以降低磁头悬浮高度，从而实现优良的记录密度特性。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于诸如硬盘装置的磁记录/再现装置的磁记录介质。还涉及磁记录 /再现装置。
技术介绍
近年来，诸如磁盘装置、软盘装置和磁带装置的磁记录装置被广泛地应用，其重要 性也日益增加。在磁记录装置中使用的磁记录介质的记录密度也被极大地提高。特别地， 因为MR头和PRML技术的发展，面记录密度日益增加。最近，已经开发了 GMR头和TMR头， 并且面记录密度以约每年100%的速率增加。对于进一步增加记录密度的需求仍然日益增 加，因此，热切需要具有更高矫顽力和更高信噪比(SNR)以及高分辨率的磁性层。同样正在进行通过增加磁道密度和增加线记录密度来提高面记录密度的尝试。在近期的磁记录装置中，磁道密度已达到约llOkTPI。然而，随着磁道密度的增加， 磁记录信息倾向于在相邻的磁道之间彼此干扰，并且作为噪声源的在其边界区域中的磁化 过渡区倾向于损害SNR。这些问题导致误码率的降低并阻碍了记录密度的提高。为了提高面记录密度，需要使每一个记录位的尺寸变小并使每一个记录位具有最 大饱和磁化和磁性膜厚度。然而，随着位尺寸的减小，每位的最小磁化体积变小，并且所记 录的数据往往会因为由热波动造成的磁化反转而消失。此外，为了减小相邻磁道之间的距离，磁记录装置需要高精度磁道伺服系统技术， 并且通常采用这样的操作，其中，进行宽幅记录而进行窄幅再现，以使相邻磁道之间的影响 最小化。该操作的优点为可以使相邻磁道的影响最小化，而缺点为再现输出相当低。这还 导致难以将SNR提高到希望的高水平。为了减小热波动、保持希望的SNR并获得希望的再现输出，已经有这样的提议，其 中形成沿磁记录介质表面上的磁道延伸的凸起和凹陷，以便通过凹陷来分离位于凸起上的 每一个构图的磁道，由此增加磁道密度。下文中，将该类型的磁记录介质称为离散磁道介 质，并且将用于提供该类型的磁记录介质的技术称为离散磁道方法。离散磁道介质的一个实例为在例如专利文件1中公开的磁记录介质，其被这样制 造，提供具有在其表面上形成的凸起和凹陷的非磁性基底，并且在非磁性基底上形成具有 对应的表面结构的磁性层，以便产生物理离散的磁记录磁道和伺服信号图形(参见，例如， 专利文件1)。上述磁记录介质具有的多层结构使得可以通过在其表面上形成有凸起和凹陷的 图形的非磁性基底上的软磁性衬层(underlayer)来形成铁磁性层，并在铁磁性层上形成 外涂层(overcoat)。磁记录构图区域在与周围区域物理分离的凸起上形成磁记录区域。在上述磁记录介质中，可以防止或最小化在软磁性衬层中铁磁畴壁的出现，因此 减小了由热波动造成的影响，并且使相邻信号之间的干扰最小化，从而提供具有呈现大SNR 的高记录密度的磁记录介质。离散磁道方法包括两种方法第一种方法为在形成包括几个层叠的膜的多层磁记录介质之后形成磁道的方法；第二种方法为直接在基底上或在用于在其上形成磁道的膜层 上形成具有凸起和凹陷的图形且然后使用构图的基底或构图的膜层形成多层磁记录介质 的方法(参见，例如，专利文件2和专利文件幻。第一种方法通常称为磁性层处理型方法， 第二种方法通常称为压纹(embossing)型方法。提出了另一离散磁道方法，在该方法中，例如，对预先形成的磁性层进行氮离子或 氧离子注入或者利用激光进行辐射，由此形成在离散磁道介质中分离磁道的区域(参见， 例如，专利文件4)。此外，还提出了一种制造磁记录介质的方法，其包括使用碳掩模对磁性层进行离 子铣削的步骤(参见专利文件5)。此外，在专利文件6中提出了另一种形成磁性图形的方法，其包括形成包含选自 Fe、Co和Ni的至少一种元素的铁磁性层的步骤，选择性地掩蔽铁磁性层的表面的步骤，以 及以下步骤，即，将铁磁性层的表面的通过选择性掩蔽所暴露的区域暴露到包含卤素的反 应气体，由此在铁磁性层的将成为非铁磁性区的所述暴露的区域中使铁磁性层和衬层与反 应气体中的活性成分化学反应。专利文件7教导了在磁盘中磁性图形对非磁性区域的面积比率的沿径向的变化 能够抑制或最小化再现错误。专利文件1JP2004--164692 Al专利文件2JP2004--178793 Al专利文件3JP2004--178794 Al专利文件4JPH5-205257 Al专利文件5JP2006--31849 Al专利文件6JP2002--359138 Al专利文件7JP2006--48751 Al
技术实现思路
本专利技术所要解决的问题为了制造离散型或位图形型(bit pattern type)磁记录介质，通常采用这样的方 法，其中，在磁记录介质的表面上形成具有凸起和凹陷的磁性层，并且将非磁性材料填充在 凹陷中以使表面平整和光滑。还可以采用另一方法，其中，在磁性层上形成具有与磁性图形 对应的图形的掩模层，例如，通过离子注入而使磁性层的特定部分退磁或使该部分的磁特 性改性，以在磁性层上形成磁性图形。根据后一方法，即使没有采用用非磁性材料填充凹陷 的工序，所产生的具有磁记录图形的磁记录介质也具有平坦且光滑的表面。关于在磁性层上形成具有与磁性图形对应的图形的掩模层并使磁性层的特定部 分退磁或使该部分的特性改性以在磁性层上形成磁性图形的上述方法，本专利技术人开发了这 样的方法，其包括在磁性层上形成具有与磁性图形对应的图形的掩模层的步骤以及使磁 性层的暴露的表面与例如氧气反应以由此使磁性层的特定部分退磁或使该部分的特性改 性的步骤。在该方法中已经发现，通过在反应之前去除磁性层的暴露的表面的表面层部分， 可以增强磁性层与氧气的反应性。通过该方法制造的磁记录介质具有稍微有点不平整的表 面，因此，优选用非磁性材料填充在该不平整表面上的凹陷以使该表面平整和光滑。然而，用非磁性材料填充表面凹陷的表面光滑化工序倾向于沾污磁记录介质的表 面，并使制造工艺复杂且成本高。本专利技术的主要目的为提供一种离散型或位图形型磁记录介质，该磁记录介质即使 在其表面上残留有凹陷的情况下也呈现出稳定的磁头悬浮特性和优良的磁性图形可分离 性，且不受相邻图形之间的信号干扰的影响并呈现高记录密度。解决向题的手段为了解决上述问题，专利技术人进行了大量的研究并完成了本专利技术。由此，根据本专利技术，提供了以下磁记录介质(1)到(6)以及以下磁记录/再现装置 ⑵。(1) 一种磁记录介质，具有形成在非磁性基底的至少一个表面上的使磁性层磁性 分离的磁性图形，其特征在于，所述磁性图形由磁性区域和围绕每一个所述磁性区域的非 磁性区域构成，其中所述非磁性区域相对于所述磁性图形形成凹陷，所述磁性图形包括数 据区域和伺服信息区域，并且所述数据区域中的所述凹陷的面积比率与所述伺服信息区域 中的所述凹陷的面积比率之差的绝对值不大于10%。(2)根据上述(1)的磁记录介质，其中所述数据区域中的所述凹陷的面积比率在 10%到50%的范围内。(3)根据上述⑴或(2)的磁记录介质，其中所述数据区域形成构成所述数据区域 中的磁道的凸起。(4)根据上述⑴到(3)中任一项的磁记录介质，其中所述数据区域中的所述凹陷 和所述伺服信息区域中的所述凹陷具有范围在0. Inm到15nm的深度。(5)根据上述(1)到(4)中任一项的磁记录介质，其中所述磁性区域包括具有颗粒 状结构的磁性层，所述颗粒状结构由每一个都被氧化物所围绕的磁性颗粒构成。(6本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种磁记录介质，其具有形成在非磁性基底的至少一个表面上的使磁性层磁性分离的磁性图形，其特征在于，所述磁性图形由磁性区域和围绕每一个所述磁性区域的非磁性区域构成，其中所述非磁性区域相对于所述磁性图形形成凹陷，所述磁性图形包括数据区域和伺服信息区域，并且所述数据区域中的所述凹陷的面积比率与所述伺服信息区域中的所述凹陷的面积比率之差的绝对值不大于１０％。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：福島正人，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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