【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
在器件的高性能化和小型化中薄膜形成技术正在广泛地展开。器件中的薄膜应用不仅对使用者直接给予好处,从地球资源的保护、消耗电力的降低这样的环境的方面来看也在发挥着重要的作用。在这样的薄膜形成技术的进展中,满足薄膜制造方法的高效化、稳定化、高生产率化和低成本化这样的来自产业应用方面的要求是必不可少的,面向于此的努力正在继续。为了提高薄膜的生产率,必需可以长时间地维持高沉积速度的成膜形成技术。作为这样的技术,在采用真空蒸镀法的薄膜制造中,在耐热性坩埚内保持了蒸镀材料的电子束蒸镀法是有效的。作为构成耐热性坩埚的材料,为了防止与蒸镀材料的不必要的反应,可使用氧化铝、氧化镁、氧化锆、碳、氮化硼等。专利文献1曾公开了 在蒸镀的途中将蒸发源坩埚倾动10 20度左右,将浮游在坩埚内的蒸镀材料的熔液表面的杂质排出除去到坩埚外。专利文献2曾公开了 在蒸镀的途中以3 45度的倾斜角度倾动蒸发源坩埚,使坩埚内的蒸镀材料的熔液表面的氧化物等的浮游物附着到坩埚的内壁面,由此除去熔液表面的浮游物。专利文献3曾公开了 从坩埚的内壁混入的氧化物因电子束而受到冲击,瞬时地以 ...
【技术保护点】
1.一种薄膜的制造装置,具有:成膜源,其为了保持成膜材料而具有收容部,所述收容部在上部具备开口部;电子枪,其通过对所述收容部中的所述成膜材料照射电子束来将所述成膜材料熔融而形成熔液,并且使所述成膜材料蒸发;倾动机构,其通过使所述成膜源从成膜时的姿势倾动到不能够在所述收容部内保持所述熔液的倾斜姿势而从所述收容部排出所述熔液;真空槽,其用于收容所述成膜源和所述倾动机构,并在内部在基板上形成薄膜;和真空泵,其将所述真空槽内排气,倾动所述成膜源的轨迹或者所述电子束的轨道被控制,以使得将所述成膜源从所述成膜时的姿势倾动到所述倾斜姿势的期间继续地对所述收容部中的所述熔液照射所述电子束。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:本田和义,
申请(专利权)人:松下电器产业株式会社,
类型:发明
国别省市:JP
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