一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置制造方法及图纸

一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置，包括注液槽与回收槽、注液嘴、刮板和其他必要的辅助装置。注液管将磁流变抛光液注入注液槽，注液槽与注液嘴连通，注液嘴将磁流变抛光液加注到抛光轮上，刮板将磁流变抛光液与抛光轮分离，并将磁流变抛光液引导至回收槽中。抽液管将回收槽中的磁流变抛光液抽走。本实用新型专利技术所涉及到的用于公自转磁流变抛光中的循环装置，在与公自转磁流变抛光方法配合使用的前提下，能够解决磁流变抛光液的循环问题，保证抛光去除函数的稳定性，使公自转抛光发挥其优势。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利属于光学曲面精密加工
，特别涉及一种磁流变抛光液循环装置。
技术介绍
光学零件的磁流变抛光技术是一种新兴的确定性抛光技术。磁流变液是一种由磁性颗粒、载液和其他添加成分组成的智能材料。由于其中的磁性材料在磁场中会进行重新排列，磁流变液在磁场的作用下会在毫秒时间量级内发生流变，由液态变为类固态。发生流变后的磁流变液具有较高的剪切屈服强度。在磁流变液中加入抛光磨料后可形成磁流变抛光液，在磁场作用下，磁流变抛光液发生流变，形成抛光模，带动抛光磨料实现对光学玻璃等非导磁性材料的抛光。与传统光学抛光技术相比，磁流变抛光技术在对工件面形进行修正和降低工件表面粗糙度的基础上，不会产生亚表面损伤。美国QED Technology公司与Rochester大学的光学制造中心合作，把磁流变抛光技术和数控技术相结合，研制出一系列可用于光学零件抛光的QED数控磁流变抛光机床， 这种数控磁流变抛光技术是目前最常用的磁流变抛光技术。图1为常用的磁流变抛光技术原理示意图。磁流变抛光液储存在储液罐10中，输送泵9连接到储液罐10底部，并将磁流变抛光液输入到循环管道中。管道中有压力流量测量装置7，用于对磁本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置，该装置包括安装底座（１５）、固定在安装底座（１５）上的轴承座（１６）、抛光轮（１）以及循环系统；所述的安装底座（１５）做公转运动；所述的抛光轮（１）安装在轴承座（１６）上，该抛光轮做自转运动且同时随安装底座（１５）做公转运动；所述的循环系统含有储液罐（１０）、设置在储液罐（１０）中的搅拌器（１１）、抽液管（１３）、注液管（８）和注液嘴（６），在所述的抽液管（１３）上设有抽吸泵（１２），在所述的注液管（８）上设置有输送泵（９）和压力流量测量装置（７），注液管（８）的入口端与储液罐（１０）的底部连接，其特征在于：所述的循环系统还包含注液槽（１７）、支架（２...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张云，王于岳，祝徐兴，冯之敬，左巍，赵广木，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：实用新型
国别省市：11