本发明专利技术提供一种基板处理装置，其抑制装置的大型化、抑制占地面积的增大。在维持为真空环境的真空搬送室(13)的周围，设置对基板进行真空处理的多个处理室(30)。上述处理室(30)构成为利用盖体(32)开闭容器主体(31)的上部开口。盖体开闭机构(6)以一边通过多个处理室(30)的各个盖体(32)的开闭位置一边沿着上述真空搬送室(13)的外周移动的方式设置。在上述盖体(32)上设置有被保持部(5)，通过使设置于盖体开闭机构(6)的盖体保持机构(7)在上述开闭位置上升，从处理室(30)抬起盖体(32)。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种在真空搬送室连接用于处理基板的多个处理室的基板处理装置。
技术介绍
公知有例如，在FPD(Flat Panel Display)的制造工序中，在真空搬送室的周围设置多个处理室，通过设置于搬送室内的搬送臂，在真空搬送室与处理室之间进行玻璃基板等基板的交接的基板处理装置。作为用上述处理室对作为被处理体的基板进行的处理，可以举例出蚀刻、灰化(ashing)、成膜等处理。例如，上述处理室由载置基板并且上部开口的容器主体和可开闭该容器主体的开口部的盖体构成，其在进行处理室内的维护、盖体的维护之时，能够将盖体从容器主体取出。在盖体上设置供给处理气体的气体喷头，作为盖体的维护作业的之一，有气体喷头的部件的交换等。在专利文献1中关于该盖体的开闭动作提出了一种方案。在该结构中，在利用设置于每个处理室的盖体的开闭机构使盖体从容器主体上升后，使盖体从容器主体滑动到偏离位置。接着，在使盖体下降之后使盖体反转。在该手法中，通过使盖体沿着与朝向处理室的基板的搬送方向正交的方向滑动，能够减小盖体的开闭动作需要的面积。然而，由于FPD基板为大型基板，故处理室也形成为俯视形状的一边的大小、例如分别为3m、3. 5m的大型的方筒型容器。因此，在针对每个处理室均需要开闭盖体以及使盖体反转的机构与空间的结构中，如果增加处理室，则难以确保反转盖体的空间，如果意欲确保空间，则担心装置进一步大型化。另外，由于针对每个处理室都设置有盖体的开闭机构， 故如果处理室增加，则会引起装置的制造成本上涨。专利文献1 日本特开2007-67218号公报(参照图1、图19)
技术实现思路
本专利技术是基于上述的事情而形成的，其目的在于提供一种在真空搬送室连接用于处理基板的多个处理室的基板处理装置中，抑制装置的大型化、抑制占地面积的增大的技术。由此，本专利技术的基板处理装置的特征在于，具备真空搬送室，其设置有基板搬送机构，并且被维持为真空环境；预备真空室，其与该真空搬送室的侧面连接；用于处理基板的多个处理室，它们为以与上述预备真空室在周向分离的方式与上述真空搬送室的侧面连接且相互配置于周向，并且在各个容器主体上设置盖体；引导部件，其被设置为沿着上述真空搬送室的周向延伸；移动体，其沿着该引导部件被引导；盖体保持机构，其以通过该移动体的移动经过上述处理室的上方的方式设置于该移动体，保持盖体并使该盖体升降，以便相对于上述容器主体装拆盖体；驱动部，其用于使上述移动体沿着上述引导部件移动。另外，也可以构成为在上述盖体上设置有在横向延伸、包括在下方形成有空间的卡止部分的被保持部，在上述盖体保持机构上设置有保持部，该保持部一边沿着上述引导部件移动一边进入上述卡止部分的下方侧的空间，之后上升并从下方侧将上述卡止部分上推来抬起盖体。进一步，上述引导部件也可以构成为具备内侧引导部件，其设置于上述真空搬送室上或者设置于上述真空搬送室与处理室之间；外侧引导部件，其设置在相对于上述处理室而与上述真空搬送室相反的一侧。更进一步，也可以构成为上述真空搬送室的俯视形状形成为多边形，在上述真空搬送室的侧面当中除了在上述真空搬送室的外方侧用于确保维护区域的侧面之外的其他侧面上，分别连接上述预备真空室与处理室。此时，在上述维护区域，也可以设置有保持从上述盖体保持机构交接来的盖体并使该盖体反转的盖体反转机构。更进一步，也可以构成为上述真空搬送室具有六个侧面，在上述侧面连接一个上述预备真空室与四个处理室。根据本专利技术，相对于沿着真空搬送室的周围配置的多个处理室，使用于保持盖体从而装拆(开闭)的盖体保持机构共同化。并且，由于以能够将该盖体保持机构沿着处理室的排列在处理室的上方区域移动的方式构成，故在盖体的装拆时不需要真空处理室的横向的空间。因此，能够抑制装置的大型化，抑制设置面积(占地面积)的增大。附图说明图1是表示本专利技术所涉及的基板处理装置的实施方式的立体图。图2是表示上述基板处理装置的内部的横剖俯视图。图3是表示设置于上述基板处理装置的处理室的一例的剖面图。图4是表示上述基板处理装置的一部分的俯视图。图5是表示上述基板处理装置的一部分的侧视图。图6是表示上述基板处理装置的一部分的侧视图。图7是用于说明上述基板处理装置的作用的侧视图。图8是用于说明上述基板处理装置的作用的侧视图。图9是表示上述基板处理装置的其他实施方式的俯视图。图10是表示上述基板处理装置的其他实施方式的侧视图。图11是表示上述基板处理装置的进一步的其他实施方式的侧视图。附图标记说明S:FPD基板；13 搬送室；30 处理室；31 容器主体；32 盖体；4 盖体反转机构；5 被保持部；50 卡止部分；6 盖体开闭机构；62、91 内侧轨道；63、92 外侧轨道；67A、67B 车轮；68A、68B 移动马达；7 盖体保持部；70 水平部分。具体实施例方式以下，针对本专利技术的基板处理装置的一个实施方式中，说明对FPD基板进行处理的情况。作为进行的处理，例如蚀刻处理。图1是表示该基板处理装置1的概观的立体图， 图2是表示该基板处理装置1的内部的横剖俯视图。图中1A、1B是用于载置从外部收纳多个FPD基板(以下称为“基板”)S的托架C1、C2的托架载置部。例如，这些托架载置部1A、 IB构成为利用升降机构11升降托架Cl、C2，可以在一方的托架Cl收纳有未处理基板Si， 在另一方的托架C2收纳有已处理的基板S2。另外，在托架载置部1A、1B的里侧，设置有形成预备真空室的加载互锁真空室4(load lock chamber) 12以及真空搬送室13。另外，在托架载置部1A、IB之间，用于在上述 2个托架C1、C2与加载互锁真空室12之间进行基板S的交接的基板搬送单元21被设置于支承台14上。例如，该基板搬送单元21具备上下设置的2个臂22、以及进退自由及旋转自由地支承这些臂22的基台23。上述加载互锁真空室12构成为其环境可以在真空环境与常压环境之间切换，如图2所示，加载互锁真空室12的内部配设有用于支承基板S的缓冲器架15。附图中16为定位器(positioner)。上述真空搬送室13的俯视形状构成为多边形状，例如正六边形状，在真空搬送室 13的侧面配设有多个处理室30，多个处理室30以与上述加载互锁真空室12在周向分离的方式连接在真空搬送室13的侧面且相互配置于周向。在该例中，在与真空搬送室13内的 4个边对应的侧面分别气密地连接有4个处理室30。另外，在与真空搬送室13的其余2边的一方对应的侧面，气密地连接有上述加载互锁真空室12，与另一方对应的侧面的外方侧确保有维护区域M，在该维护区域M设置有盖体反转机构4。在该例中，加载互锁真空室12与盖体反转机构4以相互对置的方式被设置。上述真空搬送室13构成为维持为真空环境，如图2所示，在真空搬送室13的内部配设有基板搬送机构25。并且，利用该基板搬送机构25，可以在上述加载互锁真空室12以及4个处理室30之间搬送基板S。并且，气密地密封上述加载互锁真空室12与真空搬送室13之间、在真空搬送室13 与处理室30之间、以及连通加载互锁真空室12与外侧的大气环境的开口部，并且分别介插有构成为可开闭的闸门阀(gate valve)GV。接着，参照图3，对上述处理室30进行简单的说明。例如本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种基板处理装置，其特征在于，具备：真空搬送室，其设置有基板搬送机构，并且被维持为真空环境；预备真空室，其与该真空搬送室的侧面连接；用于处理基板的多个处理室，它们以与所述预备真空室在周向分离的方式与所述真空搬送室的侧面连接且相互配置于周向，并且在各个容器主体上设置盖体；引导部件，其被设置为沿着所述真空搬送室的周向延伸；移动体，其沿着该引导部件被引导；盖体保持机构，其以通过该移动体的移动而经过所述处理室的上方的方式设置于该移动体，保持盖体并使该盖体升降，以便相对于所述容器主体装拆盖体；驱动部，其用于使所述移动体沿着所述引导部件移动。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：田中善嗣，羽鸟一成，笠原稔大，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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