离子注入装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种离子注入装置，能够大幅度提高单位时间可处理基板的张数和单位时间的离子注入量，此外，能够应对近年来基板的大型化，以防止装置整体过大。离子注入装置包括：运送机构(3)，具有相互分离且平行的一对轨道(31、32)，沿着各所述轨道(31、32)使同一形状的基板(2)的面板部与所述轨道(31、32)平行、且使各轨道上的各基板(2)保持相互平行的姿势，并且使各基板(2)分别向相反方向前进；以及一对离子束照射机构(5)，从与所述面板部垂直的方向观察，当各轨道上的基板(2)到达规定的重合位置时，各所述基板(2)基本重合，并且各离子束(B)避开位于所述重合位置的基板、且分别通过所述基板(2)的前进方向一侧和与前进方向相反一侧。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于将离子注入基板的离子注入装置。
技术介绍
例如，为了把期望的特性附加在平板显示器所使用的玻璃基板等部件上，通常利用带形的离子束对基板进行扫描来注入离子。在如上所述的离子注入过程中，预先利用束断面的长边尺寸大于基板面板部的最大尺寸的带形离子束进行照射，再通过运送机构使基板的面板部的整个区域横切离子束 (参照专利文献1 日本专利公开公报特开平7-992M号)。通过采用这种离子注入装置能使离子束照射在基板的面板部的整个区域，从而增加单位时间可处理基板的张数和离子注入量。然而，对于如上所述的一根离子束，在一张一张地横切基板的离子注入装置中，如果在此基础上想要提高离子注入的处理能力，则通过改变各种参数，例如加快运送速度等， 能够小幅度改善却难以大幅度提高处理能力。另一方面，这种离子注入装置至少需要保持与现有装置大体相同的处理能力，还要求能应对近年来的基板的大型化。即，平板显示器逐渐向大型化发展，相应地所需的玻璃基板的尺寸也逐渐大型化，例如约为2200_X 2500_。对于这种情况，现有的离子注入装置照射的离子束的束断面长边的长度尺寸大约在IOOOmm左右，因此不能像现有装置那样将离子束照射在基板的面板部整个区域来注入离子。如果仅通过增加带形离子束的束断面的长边长度来应对基板大型化，则与离子束大型化的量相比，离子束照射装置本身会变得过大。由此，难以使离子注入装置的重量保持在设置有所述离子注入装置的工厂等的地面的承重范围内。
技术实现思路
鉴于上述问题，本专利技术的目的在于提供能够同时解决上述问题的离子注入装置， 本专利技术的第一技术课题是大幅度提高单位时间可处理基板的张数和单位时间的离子注入量，此外，本专利技术的第二技术课题是可以应对近年来基板的大型化，以防止装置整体过大。S卩，本专利技术的离子注入装置包括运送机构，具有相互分离且平行的一对轨道，沿着各所述轨道使同一形状的基板的面板部与所述轨道平行、且使各轨道上的各基板保持相互平行的姿势，并且使各基板分别向相反方向前进；以及一对离子束照射机构，将带形的离子束照射在离子束主表面由所述轨道上前进的基板横切的位置，所述主表面是与所述离子束前进方向平行的侧面中较大的表面，从与所述面板部垂直的方向观察，当各轨道上的基板到达规定的重合位置时，各所述基板基本重合，并且各所述离子束避开位于所述重合位置的基板、且分别通过所述基板的前进方向一侧和与前进方向相反一侧。按照上述结构，各基板分别向相反方向前进，各所述离子束避开位于所述重合位置的基板、且分别通过所述基板的前进方向一侧和与前进方向相反一侧，因此，能够防止从照射各离子束一侧观察位于前侧的基板挡住位于后侧的基板，从而防止离子束照射不到位于后侧的基板，并且能保证重合位置以外的位置始终有两根离子束分别照射在各基板上。因此，由于同时运送两张基板，且在所述重合点以外的位置始终通过两根离子束同时对不同的基板注入离子，所以与现有的通过一根离子束一张一张地进行离子注入的离子注入装置相比，能够大幅度提高单位时间可处理基板的张数和单位时间的离子注入量。此外，通过使用两根离子束，能将各离子束照射基板的位置设定成不同的位置，例如能将基板分成上半部和下半部这两个区域，并通过各离子束对各区域进行离子注入，其结果，通过一次基板运送也能对基板的面板部整个区域进行离子注入。因此，无需将束断面的长边方向过长的带形离子束照射在大型基板上。无需使用过大的离子束照射装置，而可以使用与离子束的大小相比为小型的两台离子束照射装置，从而能将离子注入装置整体的重量保持在地面的承重范围内。例如，如果直线排列两根离子束而形成一根长带形的离子束，则由于需要上下排列离子束照射机构，所以受到分析磁铁和开口部等的影响，在中央部产生难以照射离子束的区域，导致不能将离子束均勻地照射在基板的面板部整个区域上。而在本专利技术中，由于将各离子束分开照射，所以无需重叠各离子束照射机构，就能将离子均勻地注入基板的面板部的整个区域。作为仅使用小型的离子束照射机构且仅使大型的基板移动一次、就能将离子束照射在面板部的整个区域的具体实施方式，从与所述面板部平行且与所述轨道平行的方向观察，各离子束相互错开。为了不浪费带形的离子束，能最大面积地注入离子，并且保证面板部的整个区域的离子注入量均勻，从与所述面板部平行且与所述轨道平行的方向观察，各离子束相邻且基本连接在一起。在离子注入装置中减小被真空排气的房间的体积，使所述房间容易保证真空度， 另外，为了尽可能减小离子注入装置整体的设置面积，各所述离子束用于在真空排气后的处理室内照射基板，所述运送机构使所述基板在所述处理室内从一个轨道移动至另一个轨道。为了防止混入处理室内的大气等造成的污染，且容易保证处理室内的真空度，所述离子注入装置还包括真空预备室和待机室，从大气压下将基板运入所述真空预备室，所述待机室设置在所述真空预备室和所述处理室之间。为了可靠地防止混入处理室内的大气造成的污染、以及防止处理室中产生的气体等排放到大气中，在所述待机室和所述处理室之间设置有真空阀。为了尽量减少用于将基板运入所述处理室内的隔壁或真空阀的开闭次数，并且容易保持处理室内的真空度和清洁度，所述运送机构用于使基板沿着一个轨道从所述待机室内前进至所述处理室内，并且使所述基板沿着另一个轨道从所述处理室内前进至所述待机室内，能够同时将各轨道上的基板运出和运入所述处理室。如上所述，按照本专利技术，由于使各基板分别向相反方向前进，且使离子束在重合位置避开各基板，在前进方向一侧和与前进方向相反一侧分别照射各基板，所以能防止因一个基板将另一个基板挡住导致照射不到离子束。因此，两根离子束通常能将离子注入给不同的基板，从而能大幅度提高一次运送的基板的处理量和注入量。另外，由于使用两根离子束，所以能够使照射所述基板的位置错开，即使是大型的基板，也能通过对两个区域分别进行离子注入，从而一次就能将离子注入整个区域。由于可以使用较小型的离子束照射装置， 所以不会造成装置的过度大型化，从而能够应对基板大型化。附图说明图1是表示本专利技术第一实施方式的离子注入装置的示意图。图2是说明第一实施方式的带形离子束的示意图。图3是表示第一实施方式的离子注入过程中的动作的示意性动作图。图4是表示本专利技术第二实施方式的离子注入装置的示意图。图5是表示第二实施方式的离子注入过程中的动作的示意性动作图。图6是表示基于第二实施方式的比较例的注入装置的示意图。图7是表示基于第二实施方式的比较例的动作的示意性动作图。附图标记说明100离子注入装置5离子束照射机构3运送机构31、32 轨道34重合位置B离子束具体实施例方式以下，参照附图对本专利技术的第一实施方式进行说明。如图1所示，第一实施方式的离子注入装置100用于对平板显示器等所使用的大型基板2在被真空排气后的处理室10内照射离子束B、来进行离子注入。在此，本实施方式的基板2例如包括玻璃基板、涂有配向膜的玻璃基板、半导体基板、以及其他照射离子束B 的基板。此外，虽然本实施方式中的基板2的形状为长方形的薄板形状，但也可以是圆形。所述离子注入装置100包括处理室10，是被真空排气后的房间，用于将离子束B 照射在基板2上；待机室8，是与所述处理室10邻接的房间，使等待处理的基板2待机；真空预备室6，本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种离子注入装置，其特征在于包括：运送机构，具有相互分离且平行的一对轨道，沿着各所述轨道使同一形状的基板的面板部与所述轨道平行、且使各轨道上的各基板保持相互平行的姿势，并且使各基板分别向相反方向前进；以及一对离子束照射机构，将带形的离子束照射在离子束主表面由所述轨道上前进的基板横切的位置，所述主表面是与所述离子束前进方向平行的侧面中较大的表面，从与所述面板部垂直的方向观察，当各轨道上的基板到达规定的重合位置时，各所述基板基本重合，并且各所述离子束避开位于所述重合位置的基板、且分别通过所述基板的前进方向一侧和与前进方向相反一侧。

【技术特征摘要】
2010.05.26 JP 2010-1200531.一种离子注入装置，其特征在于包括运送机构，具有相互分离且平行的一对轨道，沿着各所述轨道使同一形状的基板的面板部与所述轨道平行、且使各轨道上的各基板保持相互平行的姿势，并且使各基板分别向相反方向前进；以及一对离子束照射机构，将带形的离子束照射在离子束主表面由所述轨道上前进的基板横切的位置，所述主表面是与所述离子束前进方向平行的侧面中较大的表面，从与所述面板部垂直的方向观察，当各轨道上的基板到达规定的重合位置时，各所述基板基本重合，并且各所述离子束避开位于所述重合位置的基板、且分别通过所述基板的前进方向一侧和与前进方向相反一侧。2.根据权利要求1所述的离子注入装置，其特征在于，从与所述面板部平行且与所述轨道平行的方向观察，各离子束相互错开。3.根据权利要求2所述的离子注入装置，其特征在于，从与所述面板部平行且与所述轨道平行的方向观察，各离子束相邻且基本连接在一起。4.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：奥手康弘，立道润一，
申请(专利权)人：日新离子机器株式会社，
类型：发明
国别省市：JP