吡啶化合物或其盐和含有它们的除草剂制造技术

通式（Ⅰ）所示的吡啶化合物或其盐：其中Ｒ↑［１］是氢或任选的取代的烷基；Ｒ↑［２］是任选的取代的烷基、任选的取代的链烯基、任选的取代的炔基、任选的取代的环烷基等；Ｒ↑［３］是任选的取代的烷基等；Ｒ↑［４］是氢、烷基、卤代烷基、卤素、－ＯＲ↑［８］、或－ＳＲ↑［８］；Ｒ↑［５］、Ｒ↑［６］和Ｒ↑［７］每个是氢、卤素、或烷基；Ｒ↑［８］是任选的取代的烷基、任选的取代的链烯基、任选的取代的炔基、或任选的取代的环烷基；和Ｘ是ＣＯ、ＣＳ、或ＳＯ↓［２］。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用作除草剂活性成分的新的吡啶化合物。
技术介绍
JP-A-9-328471公开了4-二氟卤代烷基-3-取代的吡啶衍生物，但没有公开与下文通式(I)吡啶化合物相似的特异化合物。此外，WO01/17975公开了嘧啶衍生物，但与下文通式(I)吡啶化合物的化学结构不同。
技术实现思路
为了发现更加良好的除草剂，进行了多项研究，结果本专利技术的专利技术人发现了具有良好除草活性的特异的吡啶化合物，完成了本专利技术。即，本专利技术涉及通式(I)所示的吡啶化合物 其中R1代表氢或可被取代的烷基；R2代表可被取代的烷基、可被取代的链烯基、可被取代的炔基、可被取代的环烷基、可被取代的环烯基、可被取代的烷氧基、可被取代的烷硫基、可被取代的单或二烷氨基、可被取代的苯氨基、可被取代的环烷氨基、可被取代的芳基、或可被取代的环醚基；R3代表可被取代的烷基、可被取代的环烷基、可被取代的芳基、或可被取代的杂芳基；R4代表氢、烷基、卤代烷基、卤素、-OR8、或-SR8；R5、R6和R7每个基团代表氢、卤素、或烷基；R8代表可被取代的烷基、可被取代的链烯基、可被取代的炔基、或可被取代的环烷基；和X代表CO、CS、或SO2，其中R4不是氯二氟甲基、溴二氟甲基，也不是碘二氟甲基，或其盐，制备它们的方法，以及含有它们的除草剂。在上文通式(I)中，R1、R2、R3或R8中含有的可被取代的烷基、可被取代的链烯基、可被取代的炔基、可被取代的环烷基、可被取代的环烯基、可被取代的烷氧基、可被取代的烷硫基、可被取代的单或二烷氨基、可被取代的环烷氨基和可被取代的环醚基中的取代基的实例包括，卤素、烷基、烷氧基、烷硫基、二烷氨基、三甲基甲硅烷基、环烷基、环烯基、烷基羰基、烷氧基羰基、环醚、可再被取代的芳基、可再被取代的芳氧基、可再被取代的芳硫基、可再被取代的杂芳基等。上述取代基的取代数目可以是1或2或多个。当该数目是2或多个时，取代基相互之间相同或不同。当一个基团被2或多个烷基取代时，上述烷基可相互结合形成碳环。另外，在上述取代基中，可再被取代的芳基、可再被取代的芳氧基、可再被取代的芳硫基、和可再被取代的杂芳基，可被卤素、烷基、卤代烷基、烷氧基、烷硫基、烷氧基羰基、硝基、氰基、三甲基甲硅烷基、烷氧基亚氨基、苯基等取代。在上文通式(I)中，R2或R3中含有的可被取代的苯氨基、可被取代的芳基、和可被取代的杂芳基中的取代基的实例包括，卤素、烷基、卤代烷基、烷氧基、烷硫基、烷氧基羰基、硝基、氰基、三甲基甲硅烷基、烷氧基亚氨基、苯基等。上述取代基的取代数目可以是1或2或多个。当数目是2或多个时，取代基相互之间相同或不同。另外，在上述取代基中，苯基可被卤素、烷基、卤代烷基、烷氧基、烷硫基、烷氧基羰基、硝基、氰基、烷氧基亚氨基、三甲基甲硅烷基等取代。上文的烷基或烷基部分可以是直链的或支链的，含有1-8个碳原子，实例包括甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基等。上文的链烯基或链烯基部分可以是直链的或支链的，含有2-8个碳原子，实例包括乙烯基、丙烯基、异丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基等。上文的炔基或炔基部分可以是直链的或支链的，含有2-8个碳原子，实例包括乙炔基、丙炔基、丁炔基、异丁炔基、戊炔基、己炔基等。上文的环烷基可含有3-6个碳原子，实例包括环丙基、环丁基、环戊基、环己基等。另外，它可与苯环稠合，如茚满基。上文的环烯基可含有4-6个碳原子，实例包括环丁烯基、环戊烯基、环己烯基等。另外，它可以与苯环稠合，如茚基。上文的环烷氨基可含有2-6个碳原子，实例包括吖丙啶基、氮杂环丁烷基、吡咯烷基、哌啶基等。上文的芳基包括苯基、萘基等。另外，它可与环烷烃稠合，如茚满基。上文的杂芳基是5或6元的含有1-3个选自氧、硫和氮的杂原子的芳基，或者是与苯环稠合的芳基，实例包括噻吩基、呋喃基、噻唑基、异噻唑基、噁唑基、异噁唑基、咪唑基、吡唑基、三唑基、吡啶基、哒嗪基、嘧啶基、吡嗪基、苯并噻吩基、苯并呋喃基、吲哚基、苯并噻唑基、苯并异噻唑基、苯并噁唑基、苯并异噁唑基、苯并咪唑基、吲唑基、喹啉基、异喹啉基、酞嗪基、喹唑啉基、喹喔啉基等。上文的卤素包括氟原子、氯原子、溴原子和碘原子。在上文的卤代烷基中含有的卤素数目可以是1或2或多个。当该数目是2或多个时，卤素相互之间是相同的或不同的。另外，卤素的取代基位置可以是任一位置。上文的环醚可含有2-4个碳原子，实例包括环氧基、四氢呋喃基、1，3-二氧戊环基、1，3-二噁烷基等。通式(I)的吡啶化合物能形成盐。该盐可以是任一盐，只要它是农业上可接受的，实例包括碱金属盐如钠盐和钾盐；碱土金属盐如镁盐和钙盐；铵盐如二甲基胺盐和三乙胺盐；等等。在通式(I)的吡啶化合物中可存在光学异构体或几何异构体，本专利技术包括两种单个的异构体和异构体的混合物。在通式(I)的吡啶化合物中，其中X是CO的化合物可根据方法[A]来制备 其中R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7与上文所述意思相同；Y1代表OH、氯、溴、或R2COO。即，通式(I-1)的吡啶化合物可通过通式(II)的胺衍生物与通式(III-1)的羧酸衍生物反应来制备。上述反应在碱的存在下进行。关于碱，可使用任一无机碱和有机碱。无机碱包括碱金属碳酸盐如碳酸钠和碳酸钾；碱金属氢氧化物如氢氧化钠和氢氧化钾；碱金属氢化物如氢化钠和氢化钾；等等。有机盐包括有机锂化合物如正丁基锂和苯基锂；叔胺如三乙胺；吡啶；等。当Y1是OH时，上述反应在缩合剂的存在下进行。缩合剂包括N，N′-二环己基碳二酰亚胺、N，N′-羰基二咪唑等。上述反应在溶剂中进行。溶剂可是任一溶剂，只要它对反应是惰性的，实例包括极性非质子溶剂如乙腈、N，N-二甲基甲酰胺和二甲亚砜；醚如乙醚、四氢呋喃和二噁烷；卤代烃如二氯甲烷和氯仿；芳香烃如苯和甲苯；等等。可任选地选择上述溶剂中的一种或两种或多种。另外，如果需要，上述反应在惰性气体下进行。关于惰性气体，例如，使用氮气、氦气或氩气。反应温度通常为-20℃至120℃，优选-10℃至50℃。反应时间优选为30分钟至48小时。在通式(I)的吡啶化合物中，其中X是SO2的化合物可根据方法[B]来制备 其中R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7与上文所述意思相同；Y2代表氯、溴、或R2SO2O。即，通式(I-2)的吡啶化合物可通过通式(II)的胺衍生物与通式(III-2)的磺酸衍生物反应来制备。上述反应可根据上文方法[A]相似的方法进行。在通式(I)的吡啶化合物中，其中X是CS的化合物可根据方法[C]来制备 其中R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7与上文所述意思相同。即，通式(I-3)的吡啶化合物可通过通式(I-1)化合物与硫化剂反应来制备。硫化剂的实例包括五硫化二磷、Lawesson试剂[2，4-双(4-甲氧基苯基)-1，3-二硫代-2，4-二磷杂环丁烷-2，4-二硫化物]，等。上述反应在溶剂中进行。溶剂可以是任一溶剂，只要它对反应是惰性的，实例包括芳香烃如甲苯和二甲苯；等等。反应温度通常为80℃至150℃，优选110℃至130℃。反应时间优选为30分钟至24小时。通式(II)的胺衍生物包括新化合物，可通过例如下面的方法[D]至[L]来制备 其中R1、R3、R4、R5、R6和R7与上文所述意思相同；R本文档来自技高网...

【技术保护点】
通式（Ⅰ）所示的吡啶化合物：＊＊＊（Ⅰ）其中Ｒ↑［１］代表氢或可被取代的烷基；Ｒ↑［２］代表可被取代的烷基、可被取代的链烯基、可被取代的炔基、可被取代的环烷基、可被取代的环烯基、可被取代的烷氧基、可被取代的烷硫基、可被取 代的单或二烷氨基、可被取代的苯氨基、可被取代的环烷氨基、可被取代的芳基、或可被取代的环醚基；Ｒ↑［３］代表可被取代的烷基、可被取代的环烷基、可被取代的芳基、或可被取代的杂芳基；Ｒ↑［４］代表氢、烷基、卤代烷基、卤素、－ＯＲ↑［８］、或－ＳＲ↑［８］；Ｒ↑［５］、Ｒ↑［６］和Ｒ↑［７］每个基团代表氢、卤素、或烷基；Ｒ↑［８］代表可被取代的烷基、可被取代的链烯基、可被取代的炔基、或可被取代的环烷基；和Ｘ代表ＣＯ、ＣＳ、或ＳＯ↓［２］，其中Ｒ↑［４］不是氯二氟甲基、溴二氟甲基，也不是碘二氟甲基，或其盐。

【技术特征摘要】
JP 2002-4-26 125603/20021.通式(I)所示的吡啶化合物 其中R1代表氢或可被取代的烷基；R2代表可被取代的烷基、可被取代的链烯基、可被取代的炔基、可被取代的环烷基、可被取代的环烯基、可被取代的烷氧基、可被取代的烷硫基、可被取代的单或二烷氨基、可被取代的苯氨基、可被取代的环烷氨基、可被取代的芳基、或可被取代的环醚基；R3代表可被取代的烷基、可被取代的环烷基、可被取代的芳基、或可被取代的杂芳基；R4代表氢、烷基、卤代烷基、卤素、-OR8、或-SR8；R5、R6和R7每个基团代表氢、卤素、或烷基；R8代表可被取代的烷基、可被取代的链烯基、可被取代的炔基、或可被取代的环烷基；和X代表CO、CS、或SO2，其中R4不是氯二氟甲基、溴二氟甲基，也不是碘二氟甲基，或其盐。2.权利要求1的吡啶化合物，其中，R1、R2、R3或R8中含有的可被取代的烷基、可被取代的链烯基、可被取代的炔基、可被取代的环烷基、可被取代的环烯基、可被取代的烷氧基、可被取代的烷硫基、可被取代的单或二烷氨基、可被取代的环烷氨基、或可被取代的环醚基中的取代基是选自卤素、烷基、烷氧基、烷硫基、二烷氨基、三甲基甲硅烷基、环烷基、环烯基、烷基羰基、烷氧基羰基、环醚、可再被取代的芳基、可再被取代的芳氧基、可再被取代的芳硫基、和可再被取代的杂芳基中的至少一个；其中，R2或R3中含有的可被取代的苯氨基、可被取代的芳基、或可被取代的杂芳基中的取代基选自卤素、烷基、卤代烷基、烷氧基、烷硫基、烷氧基羰基、硝基、氰基、三甲基甲硅烷基、烷氧基亚氨基、和可再被取代的苯基，或其盐。3.权利要求1的吡啶化合物，其中，R1、R2、R3或R8中含有的可被取代的烷基、可被取代的链烯基、可被取代的炔基、可被取代的环烷基、可被取代的环烯基、可被取代的烷氧基、可被取代的烷硫基、可被取代的单或二烷氨基、可被取代的环烷氨基、或可被取代的环醚基中的取代基是选自卤素、烷基、烷氧基、烷硫基、二烷氨基、三甲基甲硅烷基、环烷基、环烯基、烷基羰基、烷氧基羰基、环醚、可再被取代的芳基、可再被取代的芳氧基、可再被取代的芳硫基、和可再被取代的杂芳基中的至少一个，其中，可再被取代的芳基、可再被取代的芳氧基、可再被取代的芳硫基、或可再被取代的杂芳基中的取代基选自卤素、烷基、卤代烷基、烷氧基、烷硫基、烷氧基羰基、硝基、氰基、三甲基甲硅烷基、烷氧基亚氨基、和苯基；和R2或R3中含有的可被取代的苯氨基、可被取代的芳基、或可被取代的杂芳基中的取代基选自卤素、烷基、卤代烷基、烷氧基、烷硫基、烷氧基羰基、硝基、氰基、三甲基甲硅烷基、烷氧基亚氨基、和可再被取代的苯基，其中，可再被取代的苯基中的取代基选自卤素、烷基、卤代烷基、烷氧基、烷硫基、烷氧基羰基、硝基、氰基、三甲基甲硅烷基、烷氧基亚氨基、和苯基，或其盐。4.权利要求1的吡啶化合物，其中，环烷氨基是吖丙啶基、氮杂环丁烷基、吡咯烷基、或哌啶基；芳基是苯基、萘基、或茚满基；环醚是环氧基、四氢呋喃基、1，3-二氧戊环基、或1，3-二噁烷基；和杂芳基是含有1-3个选自氧、硫和氮的杂原子的5元或6元芳基，或与苯环稠合的芳基，或其盐。5.权利要求1的吡啶化合物，其中，R4是氢、烷基、...

【专利技术属性】
技术研发人员：小柳彻，菊川弘司，宫下圣子，永山宗一郎，佐野真喜子，久松彰弘，
申请(专利权)人：石原产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]