【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种气体进出量的调节装置,特别是一种可以调节多晶硅CVD炉混合气进出量的调节装置,属于新能源太阳能光伏产业
技术介绍
多晶硅是半导体、大规模集成电路和太阳能产业的重要原材料,在太阳能光伏产业市场的拉动及巨大利润诱导下,各地多晶硅项目纷纷上马,多晶硅产业前景广阔,发展迅猛,在中国已经成为投资的热点。目前,生产多晶硅的工艺主要以“改良西门子法”(即SiHCl3还原法)为主流技术, 其关键设备就是多晶硅CVD炉。SiHCl3和H2按照一定比例通入到多晶硅CVD炉中,一定压力和温度的环境条件下,在导电硅芯上进行还原反应沉积多晶硅。同时,多晶硅也是一个高能耗、高污染的产业,这对多晶硅生产企业的扩建和发展有了一定制约。如何生成高效率、高品质、低能耗的多晶硅已成为多晶硅市场的需求,所有多晶硅生产企业要求多晶硅CVD炉能高效率、低能耗地生产更多高品质的多晶硅。
技术实现思路
为了提高多晶硅的生产质量和生产效率,降低多晶硅生产成本,本专利技术提供一种多晶硅CVD炉混合气进出气量调节装置与调节方法,能有效提高多晶硅产品质量,提高多晶硅生产效率,同时降低多晶硅生产成本。为了实现上述目的,本专利技术多晶硅CVD炉混合气进出量调节装置,包括进气量调节装置与/或者出气量调节装置。作为本专利技术的一种优选方案,所述进气量调节装置包括进气口与进气量调节阀。作为本专利技术的一种优选方案,所述进气口分为若干个进气孔。作为本专利技术的一种优选方案,出气量调节装置进一步包括中心口出气量调节装置和非中心出口出气量调节装置。作为本专利技术的一种优选方案,所述中心口出气调节装置包 ...
【技术保护点】
1.多晶硅CVD炉混合气进出量调节装置,其特征在于:包括进气量调节装置、或者出气量调节装置。
【技术特征摘要】
1.多晶硅CVD炉混合气进出量调节装置,其特征在于:包括进气量调节装置、或者出气量调节装置。2.根据权利要求1所述的多晶硅CVD炉混合气进出量调节装置,其特征在于:所述进气量调节装置包括进气口与进气量调节阀。3.根据权利要求2所述的多晶硅CVD炉混合气进出量调节装置,其特征在于:所述进气口分为若干个进气孔。4.根据权利要求1所述的多晶硅CVD炉混合气进出量调节装置,其特征在于:所述出气量调节装置包括中心口出气调节装置与非中心口出气调节装置。5.根据权利要求4所述的多晶硅CVD炉混合气进出量调节装置,其特征在于:所述中心口出气调节装置包括中心口出气量调节阀与中心出气口,所述非中心口出气调节装置包括非中心口出气量调节阀与非中心出气口。6.根据权利要求5所述的多晶硅CVD炉混合气进出量调节装置,其特征在于:所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:李严州,张华芹,程佳彪,茅陆荣,
申请(专利权)人:上海森松化工成套装备有限公司,
类型:发明
国别省市:31
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