c-ski基因及其多肽在制备促进组织修复及减轻瘢痕形成药物中的应用制造技术

本发明专利技术涉及生物医学领域，具体说是涉及ｃ－ｓｋｉ基因和该基因多肽在制备促进组织修复及减轻瘢痕形成药物中的应用。体外及体内试验证明转染ｃ－ｓｋｉ基因和应用其多肽产物，能使成纤维细胞增殖能力显著增加，凋亡率下降，促进皮肤伤口愈合速度，而且在促愈的同时还具有生长因子不具备的降低皮肤伤口愈合后瘢痕形成的功能。因此，ｃ－ｓｋｉ基因和该基因多肽具有重要的药用价值，以其主要活性成分与多种载体结合或与赋形剂联合，制备成针剂、水剂、乳剂、霜剂、膏剂等制剂形式应用于皮肤等上皮组织和其他组织损伤的治疗，具有既促进损伤愈合又减轻瘢痕形成双重功效的特点。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及生物医学领域，具体地说涉及c-ski基因和该基因表达的多肽用于促进组织修复及减轻瘢痕形成作用的医药的生产，该医药用于动物或人的组织损伤修复的治疗。
技术介绍
组织损伤特别是创伤是影响机体健康的一个重要的病征，在我国每年因创伤致伤的人有数百万，创伤者中几乎都具有不同程度的皮肤创伤，更让人担忧的是，专家们预测，进入21世纪以后，创伤人数可能成倍地增长。为此，如何加快创伤后组织修复的同时降低修复后的瘢痕形成，是临床上的一个重要问题，也是提高损伤康复生活质量的需要。虽然，目前人们研究并发现了许多促修复因子，其中最有代表性是生长因子(bFGF、KGF等)，但是，由于这些因子中有的受到创面受体表达缺乏、变异、蛋白酶浓度升高及生长因子比例失衡等因素的影响，难以达到理想的促愈效果，有的甚至有增加瘢痕形成的副作用，使这些因子的应用受到很大的限制；而且当前对于如何防治过度瘢痕的形成仍缺乏有效手段，而过度的瘢痕形成，不仅影响美观，严重的还可以影响机体的功能，给人们的生活和工作及交往带来不便。因此，如何在促进愈合的同时防止过度瘢痕的形成，目前仍是医学界的难题。组织损伤愈合的本质是细胞周期和凋本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种已知基因ｃ－ｓｋｉ在制备促进组织损伤修复和／或减轻瘢痕形成药物中的应用，其中ｃ－ｓｋｉ基因特征包含选自下组中的一种：（１）人的ｃ－ｓｋｉ基因，核苷酸序列为：ＳＥＱＩＤＮＯ：１；（２）含有特征（１）中部分或全部序列 的基因；（３）在特征（１）序列基础上有个别或多个核苷酸的取代、缺失和插入的基因；（４）各种与人ｃ－ｓｋｉ基因同源性大于６０％的同源物。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周元国，刘霞，李平，王华，陈星云，刘苹，周萍，张恩，
申请(专利权)人：中国人民解放军第三军医大学野战外科研究所，
类型：发明
国别省市：85[中国|重庆]