The invention provides a device for decomposition of trace impurities analysis in three methyl three methyl aluminum aluminum HCl, including HCl gas generator and sample decomposition chamber, connecting the HCl gas generating device of high purity nitrogen protection device, HCl gas generating device installed on the sulfuric acid separating funnel, HCl gas generating device is communicated with the concentrated sulfuric acid drying bottle sulfuric acid, dry bottle connected sample decomposition chamber, sample decomposition chamber is provided with a sampling bottle, sample decomposition chamber buffer bottle, bottle is communicated with NaOH buffer solution absorption tank. The insoluble Al2O3 produced in the oxidation decomposition method can avoid the deviation of the analysis result, and has the advantages of simple process, easy operation, smooth reaction and good repeatability of the same sample analysis result.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于三甲基铝中微量杂质分析的三甲基铝HCl分解装置。
技术介绍
三甲基铝(TMAl)是LED外延生长用非常重要的一种金属有机化合物。其化学性 质非常活泼，遇水爆炸、遇氧燃烧。所以必须在特定的气氛中将其分解成性质温和的无机物 才能进入仪器进行杂质元素测定，根据方程式2 (CH3) 3A1+1202 = A1203+9H20+6C02 ；TMAl在少量空气中会缓慢氧化成Al2O3，分解过程中会形成不同晶型的Al2O3，有些 晶型的Al2O3无法完全溶解，从而造成分析结果的偏差。根据方程式(CH3) 3A1+3HC1 = A1C13+3CH4 ；采用HCl气体与TMAl反应生成可溶性的AlCl3,用于后续的杂质元素分析。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服现有技术存在的不足，提供一种用HCl分解三甲基铝样品的 装置，用于TMAl中微量杂质元素分析。本专利技术的目的通过以下技术方案来实现用于三甲基铝中微量杂质分析的三甲基铝HCl分解装置，特点是包括HCl气体发 生装置和样品分解室，高纯氮气保护装置连接HCl气体发生装置，HCl气体发生装置上安装 浓硫酸分液漏斗，HCl气体发生装置连通浓硫酸干燥瓶，浓硫酸干燥瓶连通样品分解室，样 品分解室中设有取样瓶，样品分解室连通缓冲瓶，缓冲瓶连通NaOH溶液吸收罐。进一步地，上述的用于三甲基铝中微量杂质分析的三甲基铝HCl分解装置，其中， 所述样品分解室为密闭的手套箱。本专利技术技术方案的实质性特点和进步主要体现在采用HCl分解TMA1，形成可溶性的AlCl3,装置结构简单、分解速度快、反应平和、 易于操作...
【技术保护点】
１．用于三甲基铝中微量杂质分析的三甲基铝ＨＣｌ分解装置，其特征在于：包括ＨＣｌ气体发生装置和样品分解室，高纯氮气保护装置连接ＨＣｌ气体发生装置，ＨＣｌ气体发生装置上安装浓硫酸分液漏斗，ＨＣｌ气体发生装置连通浓硫酸干燥瓶，浓硫酸干燥瓶连通样品分解室，样品分解室中设有取样瓶，样品分解室连通缓冲瓶，缓冲瓶连通ＮａＯＨ溶液吸收罐。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：孙明璐，潘兴华，邱良德，徐春菊，王佳铭，吕宝源，
申请(专利权)人：江苏南大光电材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：32
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