2,2'-二芳基-4,4',5,5'-联苯四酸二酐单体合成方法技术

2,2'-二芳基-4,4',5,5'-联苯四酸二酐单体合成方法，以3,3',4,4'-联苯四酸二酐为原料，首先与脂肪胺反应生成3,3',4,4'-联苯二酰亚胺；然后在浓酸性条件下与I2/KIO3反应生成2,2'-二碘-4,4',5,5'-联苯二酰亚胺；进一步，将联苯二酰亚胺转化为2,2'-二碘-4,4',5,5'-联苯四酯；然后，2,2'-二碘-4,4',5,5'-联苯四酯与大共轭芳基硼酸进行Suzuki反应，得到含大共轭基团的2,2'-二芳基-4,4',5,5'-联苯四酯；最后，2,2'-二芳基-4,4',5,5'-联苯四酯水解酸化脱水为2,2'-二芳基-4,4',5,5'-联苯四酸二酐。

【技术实现步骤摘要】
,'-二芳基-4,4',5,5'-联苯四酸二酐单体合成方法
本专利技术属于有机芳香酸酐领域，具体涉及一类，’ - 二芳基-4，4’，5，5’ -联苯四 酸二酐单体合成方法。
技术介绍
聚酰亚胺(PI)是一类高性能聚合物材料，具有优异的机械性能、电性能、耐辐射 性能和耐热性能，广泛应用于航空航天、微电子和通讯等高
，成为很有发展前景的 材料之一。但多数聚酰亚胺具有不溶不熔的特性，加工成型十分困难，一定程度上限制了其 应用范围。普通的聚酰亚胺既难熔融也难溶解的特点使它们难以加工和成型，从而严重影响 其应用价值。引入大共轭侧基不仅提高聚酰亚胺材料的溶解性，同时也改善了其在紫外光 区透光性差等缺点。特别的，引入含氟的基团，可以提高材料的透光性，降低介电常数，应用 于光波导材料可以降低在通讯波段的吸收损耗。而且大侧基的引入可以降低以往聚酰亚胺 材料的双折射值，从而可进一步降低材料在使用中带来的偏振损耗。与本专利技术相近的现有技术是一篇发表在Polymer，vol. 37,5049-5057 (1996)上， 题为“Organo-soIub 1 e Polyimid本文档来自技高网...

【技术保护点】
２，２’－二芳基－４，４’，５，５’－联苯四酸二酐单体合成方法，其特征在于合成步骤为：＊＊＊，其中，Ｒ↓［１］ＮＨ↓［２］为Ｃ１～Ｃ８的脂肪胺；Ｒ↓［２］ＯＨ为Ｃ１～Ｃ８的醇；Ａｒ取自下述基团中的任一种：＊＊＊。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：沈应中，李月琴，
申请(专利权)人：南京航空航天大学，
类型：发明
国别省市：84