【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及的等离子处理装置，并不局限于图l所示的那种在石英板 15的正上方配置感应线圈20的结构，可以自由地变更感应线圈的设置位 置。例如为了更加容易地控制生成的等离子的形状，而形成附图说明图17所示的 那种具有直径朝着被处理物扩大的圆锥台形状的等离子生成容器的等离 子处理装置，已经广为人知。毫无疑问，也可以在这种生成容器的外侧设置本专利技术涉及的感应线圈20 (但是感应线圈20采用上述变形例2的结构 时除外)。另外，可以在本专利技术涉及的等离子处理装置中，遍及多级地设 置多个感应线圈20。在图17的等离子处理装置中，配置4个感应线圈20。 此外，在图17中，对于等离子用高频电源17及接地的结构，没有绘出。 等离子生成容器是圆锥台形状时，各线圈要素的内面部及给电部最好采用下述结构在上下方向(对于被处理物而言的垂线方向)或者沿着等离子生成容器的外壁面的上下方向，具有其宽度(厚度)。(线圈要素的数量) 能够适当设定各感应线圈的线圈要素的数量。但是，线圈要素的数量 越少，各线圈要素的下面部的中心角就越大，该下面部的两端的电压差也 越大。下面部的两端的电压差越大...
【技术保护点】
一种等离子处理装置，其特征在于：在被处理物的上方具备感应线圈，该感应线圈由具有相同形状的ｎ个线圈要素构成，ｎ为２以上，所述ｎ个线圈要素以被处理物的表面的法线为轴配置成旋转对称，而且各线圈要素被电性地并联连接； 所述感应线圈的各线圈要素 ， 在向被处理物的投影面中的相同部位的下侧具有接地端、上侧具有给电端地围绕着所述轴旋转， 所述感应线圈的各线圈要素，具有： 下面部，该下面部是一端具备接地端且具有规定的宽度的弧状，该弧的中心角为３６０°／ｎ；和 给电 部，该给电部是一端具备给电端且具有规定的宽度的弧状，与所述下面部相比设...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：仲上慎二，中野博彦，
申请(专利权)人：莎姆克株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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