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一种等离子处理装置，在被处理物的上方具备感应线圈，该感应线圈由具有相同形状的ｎ个线圈要素构成，ｎ为２以上，ｎ个线圈要素以被处理物的表面的法线为轴配置成旋转对称，而且各线圈要素被电性地并联连接。各线圈要素，在向被处理物的投影面中的相同部位的下...
该专利属于莎姆克株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过莎姆克株式会社授权不得商用。

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