一种真空磁控镀膜工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种真空磁控镀膜工艺，本发明专利技术利用多弧离子磁控镀膜机进行镀膜，镀膜过程中通过调节充入到真空室内的放电介质气体的成分、比例或流量而使同一种金属靶材镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果；本发明专利技术工艺简单，易于实施，成本低，能够用一种单纯的靶材而达到五颜六色的镀膜效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及镀膜工艺
，特指一种真空磁控镀膜工艺。
技术介绍
传统的真空磁控镀膜和离子镀膜技术，如专利公开号为“CN1137572”、为 “柱形靶电弧汽相淀积装置及方法”的中国专利，以及专利公开号为“CN101182634”、专利名 称为“一种真空多弧离子镀膜机智能一体化控制器”的中国专利所示，现有技术中，利用空 磁控镀膜和离子镀膜技术只能够把靶材的材料原原本本的镀到产品表面，色彩单一，镀膜 效果较差。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对现有技术的不足提供一种真空磁控镀膜工艺，本专利技术工艺 简单，易于实施，成本低，能够用一种单纯的靶材而达到五颜六色的镀膜效果。为实现上述目的，本专利技术是通过以下技术方案实现的 一种真空磁控镀膜工艺，包括以下步骤选用多弧离子磁控镀膜机，选用金属靶材进行镀膜； 将产品放入多弧离子磁控镀膜机的真空室；多弧离子磁控镀膜机对真空室进行抽真空，在真空室的真空度达到10X10_2Pa 2 X10_2Pa后，关闭光栅阀；向真空室充入至少一种放电介质气体，使真空室的真空度达到1 5Pa ； 进行镀膜，镀膜过程中通过调节充入到真空室内的放电介质气体的成分、比例或流量 而使同一种金属靶材镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果； 镀膜时间为10 50分钟； 完成镀膜，取出产品。所述金属靶材选用钛靶、不锈钢靶、铬靶、镍靶、钛合金靶中的一种。所述放电介质气体为惰性气体和非惰性气体的混合气体或者单一惰性气体。所述放电介质气体为氩气，镀膜过程中通过调节充入到真空室内的氩气的流量而 使镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果。所述放电介质气体为氩气和氮气的混合气体，镀膜过程中通过调节充入到真空室 内的氩气和氮气的比例、流量而使镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果。所述放电介质气体为氩气和氧气的混合气体，镀膜过程中通过调节充入到真空室 内的氩气和氧气的比例、流量而使镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果。在镀膜过程中，真空室内的压力为3-5Kg/cm2，温度为200 350°C。在向真空室充入放电介质气体前，真空室的真空度达到5X10_2Pa。在向真空室充入放电介质气体后，真空室的真空度达到2Pa。所述镀膜时间为15 45分钟。本专利技术的有益效果本专利技术利用多弧离子磁控镀膜机进行镀膜，镀膜过程中通过 调节充入到真空室内的放电介质气体的成分、比例或流量而使同一种金属靶材镀覆在产品 表面的镀膜具有不同的色彩效果；本专利技术工艺简单，易于实施，成本低，能够用一种单纯的 靶材而达到五颜六色的镀膜效果。具体实施例方式实施例一。一种真空磁控镀膜工艺，包括以下步骤选用多弧离子磁控镀膜机，选用金属靶材进行镀膜；于较佳实施方式中，金属靶材选用 99. 99%的钛靶；当然，金属靶材亦可以选用不锈钢靶、铬靶、镍靶、钛合金靶中的一种。选用不同类型的 金属靶材可以得到不同色彩效果的镀膜。将产品放入多弧离子磁控镀膜机的真空室。多弧离子磁控镀膜机对真空室进行抽真空，在真空室的真空度达到IOX 10_2Pa 2 X10_2Pa后，关闭光栅阀；于较佳实施方式中，在向真空室充入放电介质气体前，真空室的真空度的较佳值为 8\10-牛3 4\10-牛3，真空室的真空度的最佳值为5X10_2Pa。向真空室充入至少一种放电介质气体，放电介质气体为惰性气体和非惰性气体的 混合气体或者单一惰性气体；惰性气体包括氖、氩、氙和氡等； 非惰性气体包括氧和氮等。向真空室充入放电介质气体，使真空室的真空度达到1 5Pa ；于较佳实施方式中，在向真空室充入放电介质气体后，真空室的真空度的较佳值为 2 4 Pa，真空室的真空度的最佳值为2Pa。进行镀膜，镀膜过程中通过调节充入到真空室内的放电介质气体的成分、比例或 流量而使同一种金属靶材镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果。本专利技术的工艺既可以是在对同一个产品的镀膜过程中调节充入到真空室内的放 电介质气体的成分、比例或流量，使产品上镀有五颜六色的镀膜，亦可以针对不同的产品调 节充入到真空室内的放电介质气体的成分、比例或流量，使不同的产品具有不同颜色的镀 膜。镀膜时间为10 50分钟；其中，较佳的镀膜时间为15 45分钟，最佳镀膜时间为20 25分钟； 在镀膜过程中，真空室内的压力为3-5Kg/cm2，温度为200 350°C。完成镀膜，镀膜完成后按照标准的停机程序停机即可，取出产品。本专利技术是在现有真空磁控镀的基础上，利用辉光放电的原理，通过改变放电介质 气体的成分和比例来达到合镀膜具有各种不同的色彩效果，能够用一种单纯的靶材而达到 五颜六色的镀膜效果。本专利技术的工艺能够做出传统镀膜无法达到的效果，而且成本低廉，能 够广泛应用与各种金属产品、玻璃制品和塑胶制品。实施例二。一种真空磁控镀膜工艺，包括以下步骤选用多弧离子磁控镀膜机，多弧离子磁控镀膜机选用1. 2米直径真空镀膜机，选用 99. 99%的钛靶。将产品放入多弧离子磁控镀膜机的真空室。多弧离子磁控镀膜机对真空室进行抽真空，在真空室的真空度达到IOX 10_2Pa 2 X10_2Pa后，关闭光栅阀。向真空室充入放电介质气体，放电介质气体为氩气，使真空室的真空度达到1 5Pa，放电介质气体的流量在100-400ml/s，镀膜过程中通过调节充入到真空室内的氩气的 流量而使镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果。 镀膜时间为15 45分钟；在镀膜过程中，真空室内的压力为3-5Kg/cm2，温度为200 350°C。温度的变化尤其 对五金类产品有影响，温度的选择有利于覆加镀膜在产品上的附着力，特别是对于铝、不锈 钢、碳素钢、合金钢等产品，温度为200 350°C能进一步提高镀膜的附着力。完成镀膜，取出产品。实施例三。一种真空磁控镀膜工艺，包括以下步骤选用多弧离子磁控镀膜机，多弧离子磁控镀膜机选用1. 2米直径真空镀膜机，选用 99. 99%的钛靶。将产品放入多弧离子磁控镀膜机的真空室。多弧离子磁控镀膜机对真空室进行抽真空，在真空室的真空度达到IOX 10_2Pa 2 X10_2Pa后，关闭光栅阀。向真空室充入放电介质气体，放电介质气体为氩气和氧气的混合气体，放电介质 气体的流量在50-300ml/s，于较佳实施方式中，两种气体的比例从2 :1至1 :3之间的范围 内选择；随着氧气比例的增加，颜色由灰白色向绿色，紫色变化。镀膜过程中通过调节充入到真空室内的氩气和氧气的比例、流量而使镀覆在产品 表面的镀膜具有不同的色彩效果。镀膜时间为15 45分钟；在镀膜过程中，真空室内的压力为3-5Kg/cm2，温度为200 350°C。温度的变化尤其 对五金类产品有影响，温度的选择有利于覆加镀膜在产品上的附着力，特别是对于铝、不锈 钢、碳素钢、合金钢等产品，温度为200 350°C能进一步提高镀膜的附着力。完成镀膜，取出产品。实施例四。一种真空磁控镀膜工艺，包括以下步骤选用多弧离子磁控镀膜机，多弧离子磁控镀膜机选用1. 2米直径真空镀膜机，选用 99. 99%的钛靶。将产品放入多弧离子磁控镀膜机的真空室。多弧离子磁控镀膜机对真空室进行抽真空，在真空室的真空度达到IOX 10_2Pa 2 X10_2Pa后，关闭光栅阀。向真空室充入放电介质气体，放电介质气体为氩气和氮气的混合气本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄伟雄，
申请(专利权)人：东莞星晖真空镀膜塑胶制品有限公司，
类型：发明
国别省市：44