镀膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种镀膜装置，包括第一镀膜腔体、第二镀膜腔体、缓冲腔体、阻隔体、直线驱动装置，该缓冲腔体与该第一镀膜腔体、第二镀膜腔体相连，该缓冲腔体包括与第一镀膜腔体、第二镀膜腔体相对的主腔体以及与该主腔体相连通的辅腔体，该阻隔体收容在该辅腔体内，该直线驱动装置固定于该辅腔体并与该阻隔体相连接，该直线驱动装置驱动该阻隔体移动至该主腔体内以阻断第一镀膜腔体与第二镀膜腔体之间的气体流通。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及镀膜技术，特别涉及一种用于基板表面镀膜的镀膜装置。
技术介绍
随着各种电子产品的飞速发展，消费群体对电子产品的要求越来越高，例如电子 产品外观色彩、电磁屏蔽功能、防氧化腐蚀功能等等。因此，电子产品各零组件的镀膜处理 技术显得越来越重要，镀膜品质的好坏直接影响着电子产品上述各种性能的优劣。并且，随着对镀膜质量的要求不断提高，对一些较为重要的零组件，需要镀上两种 或两种以上不同的膜层，以使得电子产品具有更优越的性能。目前，在需要镀多种膜层时， 一般为先在一个镀膜装置中镀上第一膜层，然后再拿出来放到另一个镀膜装置中镀上第二 膜层。然而，由于镀膜基板在镀上第一膜层与第二膜层之间需要暴露在外界空气中，因此很 可能造成第一膜层与第二膜层之间的结合力不佳，进而影响膜层质量及其性能，并且其镀 膜效率相对较低。因此，有必要提供一种镀膜效率较高、膜层质量及性能较佳的镀膜装置。
技术实现思路
下面将以具体实施例说明一种镀膜装置。一种镀膜装置，包括第一镀膜腔体、第二镀膜腔体、缓冲腔体、阻隔体、直线驱动装 置，该缓冲腔体与该第一镀膜腔体、第二镀膜腔体相连，该缓冲腔体包括与第一镀膜腔体、 第二镀膜腔体相对的主腔体以及与该主腔体相连通的辅腔体，该阻隔体收容在该辅腔体 内，该直线驱动装置固定于该辅腔体并与该阻隔体相连接，该直线驱动装置驱动该阻隔体 移动至该主腔体内以阻断第一镀膜腔体与第二镀膜腔体之间的气体流通。相对于现有技术，本技术方案的镀膜装置利用缓冲腔体连接在第一镀膜腔体与第 二镀膜腔体之间，其中该缓冲腔体包括与第一镀膜腔体、第二镀膜腔体相对的主腔体以及 与该主腔体相连通的辅腔体，利用直线驱动装置可驱动收容在辅腔体内的阻隔体移动至主 腔体内以阻断第一镀膜腔体与第二镀膜腔体之间的气体流通，使得待镀基板在第一腔体镀 完第一膜层后可进入到第二腔体内继续镀上第二膜层，从而可实现连续镀膜的目的，提高 镀膜效率；并且，由于阻隔体的阻隔作用，在第一镀膜腔体或第二镀膜腔体镀膜过程中可有 效防止两个腔体之间的相互污染。附图说明图1是本技术方案实施例提供的镀膜装置的组装图。图2是图1的镀膜装置的第一分解示意图。图3是图1的镀膜装置的第二分解示意图。图4是本技术方案实施例提供的镀膜装置的第一镀膜状态示意图。图5是本技术方案实施例提供的镀膜装置的第二镀膜状态示意图。图6是本技术方案实施例提供的镀膜装置的第三镀膜状态示意图。 具体实施例方式下面将结合附图和实施例对本技术方案的镀膜装置作进一步详细说明。本技术方案实施例提供的镀膜装置100，包括第一镀膜腔体10、第二镀膜腔体20、 缓冲腔体30、阻隔体40、直线驱动装置50。缓冲腔体30与第一镀膜腔体10、第二镀膜腔体 20相连通。缓冲腔体30包括与第一镀膜腔体10、第二镀膜腔体20相对的主腔体32以及 与该主腔体相连通的辅腔体34。阻隔体40收容在辅腔体34内。直线驱动装置50固定于 辅腔体34并与阻隔体40相连接，直线驱动装置50驱动阻隔体40移动至主腔体32内以阻 断第一镀膜腔体10与第二镀膜腔体20之间的气体流通。具体地，请参阅图1-4，第一镀膜腔体10具有与缓冲腔体30相对的侧壁11以及与 侧壁11相连接的底壁12。第一镀膜腔体10的侧壁11与底壁12围合形成一收容腔101。 本实施例中，底壁12上开设有用于放置镀膜材料的凹槽122。第一镀膜腔体10的侧壁11上设置有第一旋转螺杆61。第一旋转螺杆61可相对 第一镀膜腔体10转动。第一旋转螺杆61沿第一镀膜腔体10的中心轴线向缓冲腔体30方 向延伸，且第一旋转螺杆61不超出第一镀膜腔体10。第一旋转螺杆61表面设置有外螺纹。第一镀膜腔体10还设置有第一伸缩杆71。第一伸缩杆71的一端固定在侧壁11 上。第一伸缩杆71位于第一旋转螺杆61的一侧，第一伸缩杆71可沿平行于第一镀膜腔体 10中心轴线的方向伸缩。第一伸缩杆71设置的数量并无特殊限定，其可为一个、两个或多 于两个。本实施例中的镀膜装置100设置有两个第一伸缩杆71。收容腔101内收容有基板固定座80。基板固定座80开设有与第一旋转螺杆61相 螺合的螺纹孔802，以及与第一伸缩杆71相配合的固定孔804。基板固定座80通过螺纹孔 802螺合固定至第一旋转螺杆61，从而基板固定座80可在第一旋转螺杆61的带动下以该 第一旋转螺杆61为轴转动。第一伸缩杆71伸长卡合在固定孔804后，由于基板固定座80 不能转动，基板固定座80可向缓冲腔体10方向移动并逐渐与第一旋转螺杆61相分离。基板固定座80上还开设有多个基板收容槽806。基板收容槽806与底壁12上的 凹槽122相对，用于收容待镀膜的基板(图未示)。本实施例中，该多个基板收容槽806设 置成两排，该两排基板收容槽806分别位于基板固定座80相对的两侧。当然，该基板固定 座80上还可开设一排或多于两排的基板收容槽806，其并无特殊限定。另外，该多个基板收 容槽806还可以不规则的排布方式开设在基板收容座80上。第二镀膜腔体20与第一镀膜腔体10的结构类似。第二镀膜腔体20同样具有底壁21以及与底壁21相连接的侧壁22。底壁21与 侧壁22围合形成一收容腔201。本实施例中，侧壁22上开设有用于放置镀膜材料的凹槽 222。第二镀膜腔体20的侧壁21上设置有第二旋转螺杆62。第二旋转螺杆62可相对 第二镀膜腔体20转动。第二旋转螺杆62沿第二镀膜腔体20的中心轴线向缓冲腔体30方 向延伸，且第二旋转螺杆62不超出第二镀膜腔体20。第二旋转螺杆62表面设置有外螺纹。第二镀膜腔体20还设置有第二伸缩杆72。第二伸缩杆72的一端固定在侧壁21 上。第二伸缩杆72位于第二旋转螺杆62的一侧，第二伸缩杆72可沿平行于第二镀膜腔体20中心轴线的方向伸缩。第二伸缩杆72设置的数量也并无特殊限定，其可为一个、两个或 多于两个。本实施例中的镀膜装置100设置有两个第二伸缩杆72。当第一旋转螺杆61与第一伸缩杆71配合将基板固定座80移动至缓冲腔体30时， 第二伸缩杆72伸长至与基板固定座80的固定孔804内，第二旋转螺杆62开始与基板固定 座80的螺纹孔802相螺合。基板固定座80与第一旋转螺杆61及第一伸缩杆71相分离， 并在第二旋转螺杆62与第二伸缩杆72的配合下向第二镀膜腔体20移动至基板固定座80 完全收容在收容腔201内，最后第二伸缩杆72收缩并与固定孔804相分离。本实施例中，缓冲腔体30包括一个与第一镀膜腔体10、第二镀膜腔体20相对的 主腔体32以及与主腔体32相连通的两个辅腔体34。两个辅腔体34对称设置在主腔体32 相对的两侧。主腔体32的两端分别与第一镀膜腔体10、第二镀膜腔体20相连。基板固定座80 通过主腔体32从第一镀膜腔体10移动至第二镀膜腔体20，或者从第二镀膜腔体20移动至 第一镀膜腔体10。辅腔体34具有与主腔体32相对的底壁341以及连接该底壁341的侧壁342。本 实施例中，辅腔体34与主腔体32轴线垂直的一个侧壁342上开设有通孔302。通孔302的 横截面为半圆形。当然，该通孔302的开设并不是必需的，其也可以没有通孔302。本实施例中，阻隔体40为两个，其分别收容在两个辅腔体34内。两个阻隔体4本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀膜装置，包括第一镀膜腔体、第二镀膜腔体、缓冲腔体、阻隔体、直线驱动装置，该缓冲腔体与该第一镀膜腔体、第二镀膜腔体相连，该缓冲腔体包括与第一镀膜腔体、第二镀膜腔体相对的主腔体以及与该主腔体相连通的辅腔体，该阻隔体收容在该辅腔体内，该直线驱动装置固定于该辅腔体并与该阻隔体相连接，该直线驱动装置驱动该阻隔体移动至该主腔体内以阻断第一镀膜腔体与第二镀膜腔体之间的气体流通。

【技术特征摘要】
1.一种镀膜装置，包括第一镀膜腔体、第二镀膜腔体、缓冲腔体、阻隔体、直线驱动装 置，该缓冲腔体与该第一镀膜腔体、第二镀膜腔体相连，该缓冲腔体包括与第一镀膜腔体、 第二镀膜腔体相对的主腔体以及与该主腔体相连通的辅腔体，该阻隔体收容在该辅腔体 内，该直线驱动装置固定于该辅腔体并与该阻隔体相连接，该直线驱动装置驱动该阻隔体 移动至该主腔体内以阻断第一镀膜腔体与第二镀膜腔体之间的气体流通。2.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，该第一镀膜腔体内设置有第一旋转螺 杆，第一旋转螺杆沿第一镀膜腔体的中心轴线向缓冲腔体方向延伸且第一旋转螺杆不超出 第一镀膜腔体，第一旋转螺杆可相对第一镀膜腔体转动，该第二镀膜腔体内设置有第二旋 转螺杆，第二旋转螺杆沿第二镀膜腔体的中心轴线向缓冲腔体方向延伸且第二旋转螺杆不 超出第二镀膜腔体，第二旋转螺杆可相对第二镀膜腔体转动。3.如权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，该第一镀膜腔体具有与缓冲腔体相对 的侧壁以及与该侧壁相连接的底壁，该第二镀膜腔体也具有与缓冲腔体相对的侧壁以及与 侧壁相连接的底壁，该第一旋转螺杆设置在第一镀膜腔体的侧壁上，该第二旋转螺杆设置 在第二镀膜腔体的侧壁上。4.如权利要求3所述的镀膜装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：裴绍凯，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]