一种镀膜装置，其包括第一镀膜腔及承载组件。承载组件包括操作杆及两个固定于操作杆上并以操作杆对称分布的承载座。每个承载座用于固定一镀膜基板。第一镀膜腔包括两个并排设置的第一子腔体及第二子腔体。第一子腔体及第二子腔体与第一镀膜腔的底壁共同形成沿该第一子腔体及该第二子腔体排列方向延伸的第一通道，操作杆固定承载座的一端收容在第一通道内。第一子腔体及第二子腔体的底壁均开设有与第一通道相通的镀膜口。操作杆带动承载座在第一通道内以平行于第一镀膜腔的底壁旋转，并带动承载座沿垂直于第一镀膜腔的底壁移动，使两个承载座密封两个镀膜口并且使镀膜基板从镀膜口暴露在第一子腔体及第二子腔体内。所述镀膜装置能提升镀膜良率。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种镀膜技术，尤其涉及一种镀膜装置。
技术介绍
一般，对镀膜基板进行不同种类镀膜时，如先对镀膜基板进行底漆或面漆喷涂，接 着对镀膜基板进行溅镀(sputtering)，或者对镀膜基板进行喷雾热解(Spray pyrolysis) 等等，需要采用不同的镀膜工艺对该镀膜基板进行镀膜。由于镀膜基板的镀膜均是在真空 条件下进行的，因此，每当完成一次镀膜，就必须将该镀膜基板从对应的镀膜腔体中撤出， 转移至下一个镀膜腔体中进行另一次镀膜。但是，在这个转移过程中，由于该镀膜基板暴露 在空气中，容易造成该镀膜基板刚镀上的薄膜层被氧化。因此，该镀膜基板镀膜完成后，会 造成该镀膜基板的薄膜层品质不佳，从而造成镀膜良率下降。
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供一种能提升镀膜良率的镀膜装置。一种镀膜装置，其包括一个第一镀膜腔及一个承载组件。该承载组件包括一个操 作杆及两个固定于该操作杆上并以该操作杆对称分布的承载座，每个承载座用于固定一镀 膜基板。该第一镀膜腔包括两个并排设置的第一子腔体及第二子腔体，该第一子腔体及该 第二子腔体与该第一镀膜腔的底壁共同形成一个沿该第一子腔体及该第二子腔体排列方 向延伸的第一通道。该第一子腔体及该第二子腔体的底壁均开设有一个与该第一通道相通 的镀膜口。该操作杆固定该承载座的一端收容在该第一通道内，该操作杆带动该承载座在 该第一通道内以平行于该第一镀膜腔的底壁旋转，并带动该承载座沿垂直于该第一镀膜腔 的底壁移动，使该两个承载座密封两个镀膜口并且使该镀膜基板从该镀膜口暴露在该第一 子腔体及该第二子腔体内。与现有技术相比，所述镀膜装置，通过操作杆带动镀膜基板旋转及移动使镀膜基 板在第一子腔体及该第二子腔体内进行镀膜，从而可避免将该镀膜基板从镀膜腔中取出而 带来氧化问题，进而提升了镀膜良率。附图说明图1为本专利技术第一实施方式提供的一种镀膜装置的立体示意图。图2为图1中的镀膜装置的承载组件的结构示意图。图3为图1中的镀膜装置的承载组件的状态示意图。图4为图1中的镀膜装置的承载组件的另一种状态示意图。图5为图1中的镀膜装置的承载组件的又一种状态示意图。图6为图1中的镀膜装置的承载组件的再一种状态示意图。图7为本专利技术第二实施方式提供的一种镀膜装置的部分剖面示意图。具体实施例方式下面将结合附图对本专利技术实施方式作进一步的详细说明。请一并参阅图1及图2，为本专利技术第一实施方式提供的镀膜装置100，其用于对镀 膜基板200进行镀膜。该镀膜装置100包括一个第一镀膜腔10、一个第二镀膜腔90、一个 承载组件20、一个腔门30、一个凸杆40、一个马达50及一个升降台60。该第一镀膜腔10包括两个并排设置的第一子腔体11及第二子腔体12及一个与 该第一子腔体11、该第二子腔体12相对的底壁103，该第二镀膜腔90包括两个并排设置的 第三子腔体14及第四子腔体16及一个与该第三子腔体14、该第四子腔体16相对的顶壁 903。该第一子腔体11、该第二子腔体12、该第三子腔体13及该第四子腔体14呈田字 型分布，该第三子腔体13与该第一子腔体11相对应，该第四子腔体14与该第二子腔体12 相对应。该第一子腔体11及该第二子腔体12与该第一镀膜腔10的底壁103之间形成一 个第一通道17。该第一子腔体11与该第二子腔体12、该第三子腔体13与该第四子腔体14 之间形成一个与该第一通道17垂直相通的第二通道18，当然，该第三子腔体13与该第四子 腔体14之间的第二通道18可以为实体。该第三子腔体13与该第一子腔体11、该第四子腔 体14与该第二子腔体12之间形成一个与该第一通道17平行且与该二通道18相通的第三 通道19。该第一子腔体11与该第一镀模腔10项对的侧壁为底壁110，该第二子腔体12与 该第一镀模腔10项对的侧壁为底壁120，该第三子腔体13与该第一子腔体11相对的侧壁 为底壁130，该第四子腔体14与该第二子腔体12相对的侧壁为底壁140。该底壁110、底 壁120、底壁130及底壁140均开设有一个镀膜口 101。第一子腔体11及该第二子腔体12 对应的镀膜口 101与该第一通道17相通，第三子腔体13及该第四子腔体14对应的镀膜口 101与该第三通道19相通。可以理解，该镀膜装置100的子腔体数量不限于本实施方式中 的四个，可以在第一镀膜腔10与第二镀膜腔90的垂直高度上再增加多个第二镀膜腔90。该承载组件20包括一个操作杆21及两个固定于该操作杆21上并以该操作杆21 对称分布的承载座22，每个承载座22用于固定一镀膜基板200，优选地，每个承载座22分 别开设有一个用于收容镀膜基板200的凹槽220。该操作杆21固定在该承载座22的一端 及该两个承载座22均收容在该第一通道17内。旋转该操作杆21，使该操作杆21带动该承 载座22在该第一通道17内以平行于该第一镀膜腔10的底壁103旋转；沿垂直于该第一镀 膜腔10的底壁103移动该操作杆21，使该操作杆21带动该承载座22沿垂直于该第一镀膜 腔10的底壁103移动。该第一镀膜腔10的底壁103开设有一个供该操作杆21通过的条 形通孔105，该操作杆21没有该承载座22的一端通过该条形通孔105延伸在该第一镀膜腔 10夕卜。该操作杆21在该第一通道17内旋转及移动，使其中一个承载座22密封第一子腔 体11的镀膜口 101并且使对应的镀膜基板200从该镀膜口 101暴露在该第一子腔体11内， 另外一个承载座22密封第二子腔体12的镀膜口 101并且使对应的镀膜基板200从该镀膜 口 101暴露在该第二子腔体12内。该操作杆21在该第一通道17内旋转可使该两个承载 座22收容于该第二通道18，该操作杆21在该第二通道18内移动可使该两个承载座22收 容于该第三通道19，从而该操作杆21带动该承载座22从该第一通道17沿第二通道18移动至该第三通道19。该操作杆21在该第三通道19内旋转及移动，使其中一个承载座22密 封第三子腔体13的镀膜口 101并且使对应的镀膜基板200从该镀膜口 101暴露在该第三 子腔体13内，另外一个承载座22密封第四子腔体14的镀膜口 101并且使对应的镀膜基板 200从该镀膜口 101暴露在该第四子腔体14内。相反，该操作杆21在该第三通道19内移 动可使该两个承载座22收容于该第二通道18，该操作杆21在该第二通道18内旋转可使该 两个承载座22收容于该第一通道17。该腔门30用于封闭该第一镀膜腔10及该第二镀膜腔90，该凸杆40设置在该腔门 30相对该第一镀膜腔10及该第二镀膜腔90的一侧上。该凸杆40包括一个第一杆41及两 个垂直固定在该第一杆41上的第二杆43，该腔门30封闭该第一镀膜腔10及该第二镀膜腔 90时，该第二通道18紧密收容该第一杆41，该第一通道17及该第二通道19分别紧密收容 该两个第二杆43。该马达50固定在该升降台60上，且该马达50具有一个第一转轴51，该第一转轴 51的一端固定在该操作杆21上。该升降台60带动该马达50与该操作杆21，使该操作杆 21带动该承载座22密封该镀膜口 101及使该操作杆21带动该承载座22沿该第二通道18 移动。当然，该马达50还可以镶嵌在该操作杆21中本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种镀膜装置，其特征在于，该镀膜装置包括一个第一镀膜腔及一个承载组件，该承载组件包括一个操作杆及两个固定于该操作杆上并以该操作杆对称分布的承载座，每个承载座用于固定一镀膜基板，该第一镀膜腔包括两个并排设置的第一子腔体及第二子腔体，该第一子腔体及该第二子腔体与该第一镀膜腔的底壁共同形成一个沿该第一子腔体及该第二子腔体排列方向延伸的第一通道，该第一子腔体及该第二子腔体的底壁均开设有一个与该第一通道相通的镀膜口，该操作杆固定该承载座的一端收容在该第一通道内，该操作杆带动该承载座在该第一通道内以平行于该第一镀膜腔的底壁旋转，并带动该承载座沿垂直于该第一镀膜腔的底壁移动，使该两个承载座密封两个镀膜口并且使该镀膜基板从该镀膜口暴露在该第一子腔体及该第二子腔体内。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：裴绍凯，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]
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