多晶硅还原炉用新型法兰结构制造技术

一种多晶硅还原炉用新型法兰结构，由法兰盘构成，法兰盘的上端面中沿圆周方向设置有一个环状槽，环状槽内侧的法兰盘上端面上焊接有多晶硅还原炉内筒体，环状槽外侧的法兰盘上端面上焊接有多晶硅还原炉夹套筒体。环状槽的截面底部呈曲线过渡。法兰盘中设置有内侧衬筒和底部衬环，内侧衬筒设置在法兰盘内壁上，底部衬环设置在法兰盘下表面上，内侧衬筒和底部衬环连接在一起，内侧衬筒的上端应高于法兰和内筒体连接的环向焊缝。在此结构的基础上可以采用整体法兰厚度计算方法，筒体厚度为内筒和夹套厚度的叠加值，可以减小设备法兰的计算厚度，进而减小螺栓、螺母、垫圈的规格和数量，节约材料。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及化学领域，尤其涉及多晶硅还原炉，特别是一种多晶硅还原炉用新型法兰结构。技术背景 太阳能多晶硅的生产目前以改良西门子法为主，多晶硅还原炉是改良西门子法生产太阳能多晶硅的核心。多晶硅还原炉使用条件苛刻，法兰上受力复杂。鉴于多晶硅还原炉都采用带夹套结构，因此用在多晶硅还原炉上的法兰不仅要连接到内筒体，而且还要连接到夹套上，结构比较复杂。现有技术中，多晶硅还原炉上的法兰厚度很厚或者内筒体厚度很厚，受力不合理，所受轴向应力过大，而径向应力和环向应力却很小，进而导致所需螺栓面积增大，恶化设计条件，浪费材料。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种多晶硅还原炉用新型法兰结构，所述的这种多晶硅还原炉用新型法兰结构不合理的技术问题。 本技术的这种多晶硅还原炉用新型法兰结构由法兰盘构成，其中，所述的法兰盘的上端面中沿圆周方向设置有一个环状槽，法兰盘中设置有内侧衬筒和底部衬环，内侧衬筒焊接在法兰盘内壁上，底部衬环设置在法兰盘下表面上，内侧衬筒和底部衬环连接在一起，内侧衬筒的上端高于连接法兰盘和内筒体的焊缝。 进一步的，环状槽内侧的法兰盘上端面上焊接有多晶硅还原炉内筒体，环状槽外侧的法兰盘上端本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多晶硅还原炉用新型法兰结构，由法兰盘构成，其特征在于：所述的法兰盘的上端面中沿圆周方向设置有一个环状槽，法兰盘中设置有内侧衬筒和底部衬环，内侧衬筒焊接在法兰盘内壁上，底部衬环设置在法兰盘下表面上，内侧衬筒和底部衬环连接在一起，内侧衬筒的上端高于连接法兰盘和内筒体的焊缝。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郑飞龙，周积卫，张华芹，陈杰，
申请(专利权)人：上海森松新能源设备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]