新的咪唑化合物、表面处理剂、印刷电路基板及其制造方法技术

技术编号:4194101 阅读:175 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供对于有机酸水溶液的溶解性高、由处理液的pH的变化或蒸发等引起的咪唑类化合物的析出得到抑制、对于印刷布线板或软蚀刻处理导致的杂质离子的混入也可稳定地继续使用的适合于表面处理剂的咪唑化合物。本发明专利技术提供以下述通式表示的新的咪唑化合物。R1表示氢、碳数1~11的直链或支链的烷基。R2相互独立地表示碳数1~11的直链或支链的烷氧基。R3相互独立地表示碳数1~11的直链或支链的烷基、氯或溴。m为1~4的整数,n为0~4的整数。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及以下述通式表示的新的咪唑化合物。 式中,&表示氢、碳数1 11的直链或支链的烷基。R2相互独立地表示碳数1 11的直链或支链的烷氧基。R3相互独立地表示碳数1 11的直链或支链的烷基、氯或溴。m为1 4的整数,n为0 4的整数。 本专利技术还涉及金属的表面处理剂,其特征在于,包含所述咪唑化合物。 本专利技术还涉及印刷电路基板,其特征在于,具备通过涂布该表面处理剂而形成的防锈膜。 本专利技术还涉及印刷电路基板的金属的表面处理方法,其特征在于,在印刷电路基 板的金属膜上通过涂布所述表面处理剂而形成防锈膜。 如果采用本专利技术,则可以提供对于有机酸水溶液的溶解性高、由处理液的pH的变 化或蒸发等引起的咪唑类化合物的析出得到抑制、对于印刷布线板或软蚀刻处理导致的杂 质离子的混入也可稳定地继续使用的适合于表面处理剂的咪唑化合物。 此外,如果采用本专利技术,则可以使用采用该咪唑化合物的金属表面处理剂,形成具 有耐热性且暴露于高湿度下后也具有非常良好的的耐湿性的被膜。 此外,如果采用本专利技术,则通过将这样的表面处理剂用于印刷电路基板,可以使熔 融焊锡对于被高温加热而劣化的焊盘也很好地浸润扩散。附图说明 图1表示加热劣化试验中的热风回流炉的温度曲线。 具体实施例方式[新的咪唑化合物] 式中,&表示氢、碳数1 11的直链或支链的烷基。在这里,&的烷基的碳数较 好是1 7,更好是1 4。特别好是&为氢。 !^相互独立地表示碳数1 11的直链或支链的烷氧基。在这里,1 2的碳数较好是 1 7,更好是1 4。特别好是&;为甲氧基。 R3相互独立地表示碳数1 11的直链或支链的烷基、氯或溴。在这里,R3的碳数 较好是1 7,更好是1 4。特别好是R3为甲基。 m为1 4的整数,特别好是1 2。此外,n为0 4的整数。特别好是0 1 。 [咪唑化合物的合成] (方法1) 本专利技术的咪唑化合物中,&为氢时,例如可以按照(工序1)合成。 <formula>formula see original document page 5</formula> 式中,R2相互独立地表示碳数1 11的直链或支链的烷氧基。R3相互独立地表示 碳数1 11的直链或支链的烷基、氯或溴。m为1 4的整数,n为0 4的整数。 g卩,在第1阶段,用溴化剂或氯化剂由乙酰苯衍生物(化学式2)来合成a -溴乙 酰苯类或a-氯乙酰苯类(化学式3)。作为溴化剂,可以使用一般的溴化剂,可例举溴、三 溴化吡啶鎗、N-溴琥珀酰亚胺等,较好是溴。作为氯化剂,可以使用一般的氯化剂,可例举 氯、亚硫酰氯、硫酰氯、光气、草酰氯、磷酰氯、五氯化磷、三氯化磷等,较好是亚硫酰氯、硫酰氯。这些卤化剂通常可以使用市售的试剂。这些卤化反应可以任意地使用路易斯酸或布朗 斯台德酸作为催化剂。卤化可以在没有溶剂的情况下进行,或者在至少l种溶剂的存在下 进行。特别适合作为反应溶剂的溶剂可以例举例如甲醇、乙醇、1,2_乙二醇、正丙醇、2-丙 醇、正丁醇等醇类,正己烷、正戊烷、环己烷、苯、甲苯、二甲苯等脂肪族烃或芳香族烃,二氯 甲烷、氯仿、1,2-二氯乙烷,氯苯等芳香族烃,乙醚、四氢呋喃、2-甲基四氢呋喃、二噁烷等 脂肪族醚或脂环式醚。此外,也可以使用甲酸、乙酸、丙酸等有机酸。 在第2阶段,可使上述a-氯乙酰苯类(化学式3)在碱的存在下与苄脒反应以获 得目标物。苄脒还可以使用盐酸盐或硫酸盐等对应的与无机酸和/或有机酸的盐。特别适 合作为反应溶剂的溶剂可以例举例如乙酸乙酯、乙酸丁酯等乙酸酯类,甲醇、乙醇、1,2-乙 二醇、正丙醇、2_丙醇、正丁醇等醇类,正己烷、正戊烷、环己烷、苯、甲苯、二甲苯等脂肪族烃 或芳香族烃,二氯甲烷、氯仿、1,2-二氯乙烷,氯苯等芳香族烃,乙醚、四氢呋喃、2-甲基四 氢呋喃、二噁烷等脂肪族醚或脂环式醚。此外,无论是哪个阶段,反应温度和浓度都可以任 意地设定。 (方法2) 此外,本专利技术的咪唑化合物中作为原料的乙酰苯类在市场上没有销售等的情况 下,例如也可以按照(工序2)合成。 (工序2) <formula>formula see original document page 6</formula> 式中,&表示氢、碳数1 11的直链或支链的烷基。R2相互独立地表示碳数1 11的直链或支链的烷氧基。R3相互独立地表示碳数1 11的直链或支链的烷基、氯或溴。 m为1 4的整数,n为0 4的整数。 g卩,&为H时,第1阶段中,使卤代乙酰氯(X-CH2_C0C1, X为氯或溴)或卤代乙酰 溴(X-CH2-C0Br,X为氯或溴)与取代苯类(化学式4)反应,合成a -卤代乙酰苯类(化学 式3)。该反应较好是弗瑞德_克来福特酰基化反应,可以在适合于该反应的例如氯化铝等 一般的路易斯酸的存在下进行反应。作为卤代乙酰氯,可例举氯乙酰氯、溴乙酰氯,作为卤 代乙酰溴,可例举氯乙酰溴、溴乙酰溴等,较好是氯乙酰氯。 此夕卜,&为碳数1 11的直链或支链的烷基时,可以用对应的酰氯或酰溴与上述 同样地进行弗瑞德_克来福特酰基化反应后,以与方法1同样的方法通过溴化剂或氯化剂 制成乙酰苯衍生物(化学式3)。在第2阶段,也可以自苄脒的步骤起通过同样的方法合成。 此外,无论是哪个阶段,反应温度和浓度都可以任意地设定。[OO43][金属的表面处理剂] 本专利技术的表面处理剂包含新的咪唑化合物。 优选的实施方式中,使用作为必需成分包含0.01 10质量%、较好是0.05质 量%以上或5质量%以下的咪唑化合物的水溶液的表面处理剂。通过使咪唑化合物的含量 在0. 01 %以上,容易形成防锈膜等涂膜。如果其含量超过10质量% ,则不溶成分容易增多, 成本方面不佳。 由于所述咪唑化合物对于中性的水是难溶性的,因此使用有机酸使其具有水溶 性。此外,这时可以并用水溶性的有机溶剂。 作为这时可使用的有机酸,可以例举甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛 酸、壬酸、癸酸、月桂酸、肉豆蔻酸、棕榈酸、硬脂酸、花生酸、山嵛酸、二十四烷酸、a -亚麻 酸、4,8, 12, 15-十八碳四烯酸、二十碳五烯酸、二十二碳六烯酸、亚油酸、Y _亚麻酸、二高 Y -亚麻酸、花生四烯酸、油酸、芥酸、乙醇酸、乳酸、2_羟基丁酸、3_羟基丁酸、苹果酸、酒石酸、柠檬酸、异柠檬酸、氯乙酸、二氯乙酸、三氯乙酸、溴乙酸、甲氧基乙酸、丙烯酸、苯甲酸、 对硝基苯甲酸、对丁基苯甲酸、对甲苯磺酸、苦味酸、间甲苯酸、琥珀酸、水杨酸、马来酸、富马酸、己二酸、戊二酸、乙酰丙酸等,特别好是甲酸、乙酸。这些酸的含量较好是1 40质 量% 。此外,作为这时可并用的水溶性有机溶剂,可以例举甲醇、乙醇、1, 2-乙二醇、正丙醇、 2-丙醇、正丁醇等醇类,丙酮、N, N-二甲基甲酰胺等。 作为用表面处理剂所处理的金属,可以例示铜、铜与磷和镍的合金、镍、锡、银-钯 合金及以这些金属为主要成分的合金。 本专利技术的表面处理剂(较好是水溶性预焊剂)中还可以添加作为与铜的配位被膜 形成助剂的如下所示的化合物甲酸铜、氯化亚铜、氯化铜、乙二酸铜、乙酸铜、氢氧化铜、氧 化亚铜、本文档来自技高网...

【技术保护点】
以下述通式表示的新的咪唑化合物;  ***  式中,R↓[1]表示氢、碳数1~11的直链或支链的烷基,R↓[2]相互独立地表示碳数1~11的直链或支链的烷氧基,R↓[3]相互独立地表示碳数1~11的直链或支链的烷基、氯或溴,m为1~4的整数,n为0~4的整数。

【技术特征摘要】
JP 2008-10-2 2008-257323以下述通式表示的新的咪唑化合物;式中,R1表示氢、碳数1~11的直链或支链的烷基,R2相互独立地表示碳数1~11的直链或支链的烷氧基,R3相互独立地表示碳数1~11的直链或支链的烷基、氯或溴,m为1~4的整数,n为0~4的整数。F2009102050199C0000011.tif2. 金属的表面处理剂,其特征在于,包含权利要求1所述的咪唑化合物。3. 如权利要求2...

【专利技术属性】
技术研发人员:成濑章一郎中波一贵清田达也
申请(专利权)人:田村化研株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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