【技术实现步骤摘要】
本专利技术是有关于一种像素结构的制作方法及像素结构，且特别是有关于一 种以三道掩模制程形成的半穿透半反射式的像素结构的制作方法及像素结构。
技术介绍
近年来，随着光电技术与半导体制造技术的日益成熟，平面显示器(Flat Panel Display)便蓬勃发展起来，其中液晶显示器基于低电压操作、无辐射线 散射、重量轻以及体积小等优点，而广泛地应用在许多可携式的电子装置，如 笔记型电脑、移动电话、个人数字助理中。然而， 一般穿透型的液晶显示器应用于上述携带式的装置中，若是在户外 或是外部光源较强的环境中使用，将会因为外部光源过强而无法看清楚液晶显 示器所显示的画面。因此， 一般会采用半穿透半反射式的液晶显示器， 一方面 可利用本身的背光源提供光源， 一方面又利用环境光源提供一反射光源，以增 加液晶显示器的亮度。如此一来，半穿透半反射式的液晶显示器不仅具有在强 光下可视的优点，有效利用环境光源来作为背光源亦可达到省电的功效。图1A至图1D为现有半穿透半反射式液晶显示器的像素结构的制造流程 图。首先，请参照图1A，提供一基板110，基板110上包括一有源元件区Al 与像...
【技术保护点】
一种像素结构的制作方法，包括： 提供一基板，其包括一有源元件区、一像素穿透区以及一像素反射区； 依序形成一透明导电层与一第一导电层于该基板上； 于该第一导电层上形成一第一光刻胶层，该第一光刻胶层具有一第一区与一第二区，该第一光刻胶层的该第一区与该第二区的厚度不同； 以该第一光刻胶层为罩幕，移除部分的该第一导电层与该透明导电层，以于该有源元件区中形成一复合栅极； 移除该第一光刻胶层的该第一区，以暴露出位于该像素穿透区的该第一导电层以及位于该像素反射区内部份或全部的该第一导电层； 以该第一光刻胶层的该第二区为罩幕，移除被暴露的该第一导电层，以使该像素穿透区的该透明导电层以及该像...
【技术特征摘要】
1.一种像素结构的制作方法，包括提供一基板，其包括一有源元件区、一像素穿透区以及一像素反射区；依序形成一透明导电层与一第一导电层于该基板上；于该第一导电层上形成一第一光刻胶层，该第一光刻胶层具有一第一区与一第二区，该第一光刻胶层的该第一区与该第二区的厚度不同；以该第一光刻胶层为罩幕，移除部分的该第一导电层与该透明导电层，以于该有源元件区中形成一复合栅极；移除该第一光刻胶层的该第一区，以暴露出位于该像素穿透区的该第一导电层以及位于该像素反射区内部份或全部的该第一导电层；以该第一光刻胶层的该第二区为罩幕，移除被暴露的该第一导电层，以使该像素穿透区的该透明导电层以及该像素反射区内部份或全部的该透明导电层暴露出来；移除该第一光刻胶层的该第二区；依序于该基板上形成一栅绝缘层与一半导体层；形成一第二光刻胶层于该半导体层上，该第二光刻胶层具有一第三区与一第四区，该第二光刻胶层的该第三区与该第四区的厚度不同；以该第二光刻胶层为罩幕，移除部分的该半导体层与该栅绝缘层，以形成一接触开口，其暴露出部分的该透明导电层；移除该第二光刻胶层的该第三区，暴露出位于该像素反射区与该像素穿透区中的该半导体层；移除被暴露出的该半导体层，留下位于该有源元件区的该半导体层以作为一通道层；移除该第二光刻胶层的该第四区；以及于该基板上形成一图案化第二导电层，其包括一源极、一漏极与一反射图案，其中该源极与该漏极位于该通道层的上方，该反射图案位于该像素反射区的该透明导电层上方。2. 如权利要求l所述的像素结构的制作方法，其特征在于，以该第一光刻胶层的该第二区为罩幕，移除被暴露的该第一导电层的步骤中，会使该像素穿 透区的该透明导电层以及该像素反射区的全部的该透明导电层皆暴露出来。3. 如权利要求1所述的像素结构的制作方法，其特征在于，以该第一光刻 胶层的该第二区为罩幕，移除被暴露的该第一导电层的步骤中，会使该像素穿 透区的该透明导电层以及该像素反射区的部份的该透明导电层暴露出来，而于 该像素反射区中所留下来的该第一导电层会构成多个凸起物。4. 如权利要求1所述的像素结构的制作方法，其特征在于，该第...
【专利技术属性】
技术研发人员：张锡明，
申请(专利权)人：中华映管股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。