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像素结构的制作方法以及像素结构技术
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文档序号:4191505
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本发明揭示一种像素结构的制作方法以及像素结构,该制作方法包括下列步骤。首先,依序形成透明导电层与第一导电层于基板上。利用第一光刻胶层具有不同厚度的第一区与第二区为罩幕,移除部分的第一导电层与透明导电层,以形成复合栅极,并且使像素穿透区的透明...
该专利属于中华映管股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中华映管股份有限公司授权不得商用。
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