【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于供应源的设备和具有所述设备的用于沉积薄膜的设备，且更特定来 说，涉及可定量供应作为沉积材料的粉末源的用于供应源的设备，和具有所述设备的用 于沉积薄膜的设备。
技术介绍
大体上，将用于形成薄膜的方法分类为物理气相沉积(PVD)方法(例如使用物理 轰击形成薄膜的溅射方法)和使用化学反应形成薄膜的化学气相沉积(CVD)方法。在CVD方法中， 一般使用处于气体状态的反应源来沉积薄膜。然而，当由于反应 源中含有具有较大原子量的重元素而难以制备处于气体状态的反应源时，使用在蒸发处于固体状态的粉末源之后蒸发的源气体来沉积薄膜。举例来说，在有机发光二极管 (OLED)中，使用处于固体状态的粉末源来沉积充当发光层的有机薄膜。因此，用于使 用CVD方法沉积有机薄膜的设备一般具备至少一个用于供应源的设备，其将储存在额 外罐中的粉末源供应到腔室中。同时，在用于供应源的一般设备中，通过使用压力差的方法或使用螺纹的方法将储 存在罐中的粉末源供应到腔室内。首先，在使用压力差的方法中，通过将第一气体注入 罐内而在罐与腔室之间产生压力差，且随后由于压力差而将粉末源排放到罐的外部...
【技术保护点】
一种用于供应源的设备，其包括： 水平通道，其在一个方向上延伸； 抽吸口和转移口，其延伸穿过所述水平通道，所述抽吸口和转移口彼此间隔开； 转移轴，其插入所述水平通道内以在其中往复运动；以及 储存室，其连接到所述抽吸口的 一侧，所述储存室储存和供应粉末源， 其中所述转移轴包括至少一个转移孔，以用于允许经由所述抽吸口供应的所述粉末源填充于其中且经由所述转移口转移到外部设备。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：李圭桓，李亨燮，
申请(专利权)人：周星工程股份有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]
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