The present invention provides a thin film transistor liquid crystal display pixel structure includes a data line, a grid scanning line and a pixel area, the data line and the grid scanning wire are overlapped to form an overlapped area, which is characterized in that the pixel structure includes electrostatic eliminating region, the electrostatic eliminating region followed by the gate metal layer, scanning line connected with the grid scan line for the grid scanning line and the data line metal layer metal layers are not mutually connected, the isolation layer and the data line metal layer is connected with the data line form. The invention also provides a thin film transistor array substrate for liquid crystal display device, the overlapping area of the pixel structure and the array substrate can protect the grid scanning lines and data lines, reduce the probability of breakdown of the overlapped area between the.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及薄膜晶体管(TFT)液晶显示器(LCD)阵列基板,尤其涉及 薄膜晶体管液晶显示器像素结构及阵列基板。
技术介绍
目前,世界已进入信息革命时代,显示技术及显示器件在信息技术的发展 过程中占据了十分重要的地位。而由于平板显示具有重量轻、厚度薄、体积小、 无辐射、不闪烁等优点,已成为显示技术发展的方向。在平板显示技术中,TFTLCD具有功耗低、无辐射等特点,因此,在平板 显示器巿场中占据了主导地位。图1为传统TFT LCD阵列基板像素结构示意图,如图1所示,数据线2 和栅极扫描线1存在交叠区域7。众所周知,在像素区外围的短路环(图中未 示出),分别与图示的栅极扫描线1和数据线2相连,以防止栅极扫描线1和数 据线2中的电荷不平衡,发生击穿。但是,该短路环(图中未示出)是在TFTLCD 阵列基板的最后工艺中形成,在之前的工艺中并不能对栅极扫描线1和数据线 2起保护作用,因此,在前工艺的基板搬送、清洗等工艺环节所造成的数据线2、 以及栅极扫描线1上的静电累积,将无法得到释放平衡,在实际的生产中,常 发生栅极扫描线l和数据线2的交叠区域7发生击穿的现象,甚至在沟道部分 (图中未示出)发生击穿。一旦交叠区域7发生击穿,通常的维修方法是先用激光(Laser)断掉部分 数据线2,后通过化学气相沉积(CVD)修复桥接,以使阵列基板能够正常使 用,维修过程比较复杂。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术的主要目的在于提供一种薄膜晶体管液晶显示器像素结 构及阵列基板,能够保护栅极扫描线和数据线的交叠区域,降低所述交叠区域 发生击穿的概率。为达到上述目的,本专利技术的技术方 ...
【技术保护点】
薄膜晶体管液晶显示器像素结构,包括数据线、栅极扫描线、以及像素区域,数据线与栅极扫描线交叠形成交叠区域,其特征在于,该像素结构还包括静电消除区域,该静电消除区域依次由与栅极扫描线连接的栅极扫描线金属层、用于使所述栅极扫描线金属层与数据线金属层互不连接的隔绝层、以及与数据线连接的数据线金属层构成。
【技术特征摘要】
1、薄膜晶体管液晶显示器像素结构,包括数据线、栅极扫描线、以及像素区域,数据线与栅极扫描线交叠形成交叠区域,其特征在于,该像素结构还包括静电消除区域,该静电消除区域依次由与栅极扫描线连接的栅极扫描线金属层、用于使所述栅极扫描线金属层与数据线金属层互不连接的隔绝层、以及与数据线连接的数据线金属层构成。2、 根据权利要求l所述的像素结构,其特征在于,所述静电消除区域中栅极扫描线金属层与数据线金属层之间的距离,不大于交叠区域中数据线与栅极 扫描线之间的距离。3、 根据权利要求2所述的像素结构,其特征在于,所述隔绝层为位于栅 极扫描线金属层与数据线金属层之间的栅极绝缘层;或者,所述隔绝层为位于所述栅极扫描线金属层之上的栅极绝缘层、以及位于 栅极绝缘层与数据线金属层之间的有源层组合成的复合层。4、 根据权利要求1至3任一项所述的像素结构,其特征在于,所述静电消 除区域位于数据线与栅极扫描线的交叠区域附近。5、 根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员:彭志龙,
申请(专利权)人:北京京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]
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