具有移动式泄液槽的清洗蚀刻机台制造技术

技术编号:4122900 阅读:205 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种具有移动式泄液槽的清洗蚀刻机台。清洗蚀刻机台的转盘保持在固定水平上,而泄液槽(drain?tank)则可以上下移动,以分别将自旋转转盘上晶圆表面因离心力飞散的液体收集排出。其由一组转盘、一组泄液槽及使泄液槽之一移至转盘水平上的升降装置构成。转盘是供吸住晶圆以进行清洗蚀刻及清洗之用,转盘能以各种速度旋转并供应蚀刻液及纯水。多个泄液槽可视蚀刻液的种类或纯水而决定其数,以排出废液。另由排气装置将酸性气体排出。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术有关于一种晶圆的清洗蚀刻机台,特别是关于一种具有移动式泄液槽的清 洗蚀刻机台,使转盘仅需旋转而勿需升降,泄液槽可视蚀刻液的种类或纯水而升降至转盘 处以排出酸液及酸性气体。
技术介绍
一般旋转机台可用于涂布光阻,清洗或蚀刻晶圆或基片。清洗或蚀刻晶圆时,自转 盘飞溅出来的酸液由泄液槽收集排出,气体则由排气装置排出。一般泄液槽皆固定不动,而 转盘可以上下移动,如授予?1^皿51111111^叱11等人的美国专利第4/903,717号专利揭示一种 清洗蚀刻机台,其转盘即可上下移动,以选择不同的泄液槽来排出酸液,而排气装置则集中 将所有泄液槽的酸性气体排出,各泄液槽容易互相污染。转盘上下移动也须带动转盘上的 酸液及纯水导管、喷嘴等,增加构造的复杂性。因此有一种需求,能使转盘勿需升降,而泄液 槽可视蚀刻液的种类或纯水而升降至转盘处以排出酸液及酸性气体。本专利技术即针对此一需求,提出一种能解决以上缺点的清洗蚀刻机台以将转盘的各 种蚀刻酸液或清洗的纯水经由泄液槽排出。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种具有移动式泄液槽的清洗蚀刻机台,使转盘保持在固 定水平上,而泄液槽可视蚀刻液的种类或纯水而升降至转盘处以排出酸液及酸性气体,以 减少转盘构造的复杂性。本专利技术的次一目的在于提供一种具有移动式泄液槽的清洗蚀刻机台,以更简单的 方式,使蚀刻酸液或清洗的纯水可分别经由泄液槽收集后排出。为达成上述目的及其它目的,本专利技术的第一观点教导一种具有移动式泄液槽的清 洗蚀刻机台,使转盘保持在固定水平上,而泄液槽可视蚀刻液的种类或纯水而升降至转盘 处以排出酸液及酸性气体,包括一组转盘,保持在固定水平上,有一个圆形表面以固定一 片晶圆,转盘可旋转以蚀刻或清洗该晶圆;一个泄液槽,位于靠近转盘外的同心圆上,泄液 槽至少有两组圆形液槽,视蚀刻液的种类或纯水而将适当的圆形液槽升降至转盘处对准, 以将转盘排出的酸液分别排放,每一组圆形液槽有一组圆形抽气口连接至一个固定风箱的 抽风口以将酸性气体排出;一组固定风箱,具有数个抽风口,一个主抽风排气管,一个次抽 风排气管;一个使泄液槽升降至转盘处的升降装置,使其中圆形液槽的一组与转盘在同一 水平上,以承接转盘排出的酸液,升降装置为旋转马达带动的升降齿轮或一组气动工具。附图说明图1为依据本专利技术实施例清洗蚀刻机台的示意图。图2为显示依据本专利技术实施例清洗蚀刻机台的剖面及透视图。主要组件符号说明102转盘106旋转马达110旋转轴114圆形液槽104晶圆108真空吸着机构112泄液槽 116限制器 120连接口 124固定风箱118 抽气口122 抽风口126主抽风排气管130次抽风排气管128主排气流道 132次排气流道134、136、138、140 导管 142、144、146、148 储槽150、152、154、156 三向阀 160、162、164、166 排液导管202升降齿轮具体实施例方式本专利技术的以上及其它目的及优点参考以下的参照图示及最佳实施例的说明而更 易完全了解。请参考图1,图1为依据本专利技术实施例清洗蚀刻机台的示意图。转盘102保持在 固定水平上,有一个圆形表面以固定一片晶圆104,转盘102由旋转轴110使其旋转以蚀刻 或清洗该晶圆104,晶圆104由真空吸着机构108吸住,或用其它方式如机械握持固定在转 盘102上。旋转马达106提供旋转的动力。蚀刻所需的酸性液体或清洗所需的纯水由导管 134、136、138、140自储槽142、144、146、148提供。泄液槽112位于靠近转盘外的同心圆上, 泄液槽112至少有两组圆形液槽114,本实施例有四组圆形液槽114、115,视蚀刻液的种类 或纯水而定。四组圆形液槽114、115由升降装置(见图2)延箭头117升降,将适当的圆形 液槽114升降至转盘102的水平处对准,以将转盘102排出的酸液分别排放,本实施例的第 二组圆形液槽114对准转盘102。每一组圆形液槽114有一组圆形抽气口 118连接至一个 固定风箱124的抽风口 122以将酸性气体排出,限制器116使飞溅的酸液或纯水不致进入 圆形抽气口 118而落入圆形液槽114,酸液或纯水则由排液导管160、162、164、166经三向 阀150、152、154、156回收至储槽142、144、146、148或进入废液排放管158而排放。如此可 充分利用酸液或清洁的纯水。圆形液槽114的一侧有连接口 120与固定风箱124的抽风口 122连接。酸液产生的酸性气体由圆形抽气口 118经由主排气流道128进入主抽风排气管 126而排出。其它圆形液槽115的酸性气体由圆形抽气口 118经由次排气流道132进入次 抽风排气管130而排出,如此可将较强的酸性气体由主抽风排气管126排出,较不易互相污^fe ο请参考图2,图2为显示依据本专利技术实施例清洗蚀刻机台的剖面及透视图。转盘 102由旋转马达106提供旋转的动力。如图所示,四组泄液槽112由升降装置202使其升 降,本实施例的第120对准固定风箱124的抽风口 122,使酸性气体由主排气流道128经由 主抽风排气管126排出。圆形抽气口 118使酸性气体流出。限制器116使飞溅的酸液或纯 水不致进入圆形抽气口 118而落入圆形液槽114,酸液或纯水则由排液导管(未图示,见图 1)排放或回收。藉由以上较佳的具体实施例的详述,是希望能更加清楚描述本专利技术的特征与精神,而并非以上述所揭露的较佳具体实例来对本专利技术的范畴加以限制。相反的,其目的是希 望能涵盖各种改变及具相等性的安排于本专利技术所欲申请的专利范畴内。权利要求一种具有移动式泄液槽的清洗蚀刻机台,使转盘保持在固定水平上,而泄液槽可视蚀刻液的种类或纯水而升降至转盘处以排出酸液及酸性气体,至少包含一组转盘,保持在固定水平上,有一个圆形表面以固定一片晶圆,转盘可旋转以蚀刻或清洗该晶圆;一个泄液槽,位于靠近转盘外的同心圆上,该泄液槽至少有两组圆形液槽,视蚀刻液的种类或纯水而将适当的一组圆形液槽升降至转盘处对准,以将该转盘排出的酸液分别排放,每一组圆形液槽有一组圆形抽气口连接至一个固定风箱的抽风口以将酸性气体排出;一组固定风箱,具有数个抽风口,一个主抽风排气管,一个次抽风排气管;一个使该泄液槽升降至该转盘处的升降装置,使其中该圆形液槽的一组与该转盘在同一水平上,以承接该转盘排出的酸液。2.如权利要求1所述的清洗蚀刻机台,其特征在于该升降装置为旋转马达带动的升 降齿轮。3.如权利要求1所述的清洗蚀刻机台,其特征在于该升降装置为一组气动工具。全文摘要本专利技术提供一种具有移动式泄液槽的清洗蚀刻机台。清洗蚀刻机台的转盘保持在固定水平上,而泄液槽(drain tank)则可以上下移动,以分别将自旋转转盘上晶圆表面因离心力飞散的液体收集排出。其由一组转盘、一组泄液槽及使泄液槽之一移至转盘水平上的升降装置构成。转盘是供吸住晶圆以进行清洗蚀刻及清洗之用,转盘能以各种速度旋转并供应蚀刻液及纯水。多个泄液槽可视蚀刻液的种类或纯水而决定其数,以排出废液。另由排气装置将酸性气体排出。文档编号H01L21/00GK101958228SQ200910158698公开日2011年1月26日 申请日期2009年7月13日 优先权日200本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有移动式泄液槽的清洗蚀刻机台,使转盘保持在固定水平上,而泄液槽可视蚀刻液的种类或纯水而升降至转盘处以排出酸液及酸性气体,至少包含:一组转盘,保持在固定水平上,有一个圆形表面以固定一片晶圆,转盘可旋转以蚀刻或清洗该晶圆;一个泄液槽,位于靠近转盘外的同心圆上,该泄液槽至少有两组圆形液槽,视蚀刻液的种类或纯水而将适当的一组圆形液槽升降至转盘处对准,以将该转盘排出的酸液分别排放,每一组圆形液槽有一组圆形抽气口连接至一个固定风箱的抽风口以将酸性气体排出;一组固定风箱,具有数个抽风口,一个主抽风排气管,一个次抽风排气管;一个使该泄液槽升降至该转盘处的升降装置,使其中该圆形液槽的一组与该转盘在同一水平上,以承接该转盘排出的酸液。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王家康陈贤鸿张宏文吴志鸿
申请(专利权)人:弘塑科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]

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