用于在小物件上沉积薄膜的装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于在小物件上沉积薄膜的装置，包括真空炉、第一运输车以及第二运输车，所述真空炉内设有一个或多个真空泵；第一运输车通过真空嵌入装置连接第一真空法兰和桶状容器，桶状容器内壁上设有若干长条棒，桶状容器内可放置待镀膜小物件，桶状容器外设有一个电机驱动装置，电机驱动装置固定在第一真空法兰上；第二运输车通过真空嵌入装置连接第二真空法兰、电极以及磁控溅射源或电弧蒸发源，磁控溅射源或电弧蒸发源的上面装有涂层材料。本发明专利技术的有益效果为：镀层耐磨、防腐蚀；镀层结合力强；工艺温度低，工件一般无受热变形或材料变质的问题；镀层成分准确、组织致密；工艺过程易于控制、调节；对环境无污染。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于在小物件上沉积薄膜的装置。
技术介绍
物理气相沉积(PVD)是通过热蒸发或辉光放电、弧光放电等物理过程，产生金属 粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面。PVD镀膜技术主要分为三类，它们分别 是真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。本专利技术采用真空蒸发镀膜和真空溅射镀膜， 在一个真空设备中对容器内待镀膜小物件在旋转的过程中进行均勻全面镀膜，使镀膜小物 件获得高密度、高结合力的涂层。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种用于在小物件上沉积薄膜的装置，使产品耐磨，防腐蚀， 同时达到对这些小物件进行大批量，高效率工业化处理。本专利技术的目的是通过以下技术方案来实现一种用于在小物件上沉积薄膜的装 置，包括真空炉、载有第一真空法兰和桶状容器的第一运输车以及载有第二真空法兰和磁 控溅射源或电弧蒸发源的第二运输车，所述真空炉内设有一个或多个真空泵；第一运输车 通过真空嵌入装置连接第一真空法兰和桶状容器，桶状容器内壁上设有若干长条棒，桶状 容器内可放置待镀膜小物件，桶状容器外设有一个电机驱动装置，电机驱动装置固定在第 一真空法兰上；第二运输车通过真空嵌入装置连接第二真空法兰、电极以及磁控溅射源或 电弧蒸发源，磁控溅射源或电弧蒸发源的上面装有涂层材料。其中第一真空法兰与真空炉 连接，桶状容器则置于真空炉内，第二真空法兰和桶状容器的开口端连接，电极和磁控溅射 源或电弧蒸发源置于桶状容器内。本装置采用物理气相沉积(PVD)方法在真空条件下对待镀膜小物件完成镀膜，特 别是采用电弧沉积法或磁控溅射法。沉积的膜层为单层或复合层或纳米机构膜层，其厚度 范围一般在0. 05-10微米。装在桶状容器内的小物件的直径和长度均在0. 5-1. 5m之间，桶 状容器以0. Ol-IOrmp的转速进行旋转。在桶壁上装有若干长木棒，长木棒在随着桶状容器 旋转时可使小物件翻滚，使小物件能够以不同的表面对着涂层材料，确保小物件涂层均勻 和全面。桶状容器内带有一个单独的电极作为偏压，使桶状容器内部达到负偏压环境。本专利技术的有益效果为镀层材料广泛，可以采用各种金属、合金、氧化物、氮化物、 碳化物等化合物镀层，也可以镀金属、化合物的多层和复合层；镀层耐磨、防腐蚀；镀层结 合力强；工艺温度低，工件一般无受热变形或材料变质的问题；镀层成分准确、组织致密； 工艺过程易于控制、调节；对环境无污染。附图说明下面根据附图对本专利技术作进一步详细说明。图1是第一运输车的结构示意图；图2是第二运输车的结构示意图；图3是真空炉的结构示意图；图4是真空炉的侧面图；图5是桶状容器的剖视图；图6是用于在小物件上 沉积薄膜的装置的整体结构示意图。图中1、真空炉；2、第一运输车；3、第二运输车；4、第一真空法兰；5、桶状容器； 6、第二真空法兰；7、磁控溅射源或电弧蒸发源；8、真空泵；9、长条棒；10、小物件；11、电机 驱动装置；12、电极；13、涂层材料。具体实施例方式如图1-6所示，本专利技术实施例所述的一种用于在小物件上沉积薄膜的装置，包括 真空炉1、载有第一真空法兰4和桶状容器5的第一运输车2以及载有第二真空法兰6和磁 控溅射源或电弧蒸发源7的第二运输车3，所述真空炉1内设有一个或多个真空泵8 ；第一 运输车2通过真空嵌入装置连接第一真空法兰4和桶状容器5，桶状容器5内壁上设有若干 长条棒9，桶状容器5内可放置待镀膜小物件10，桶状容器5外设有一个电机驱动装置11， 电机驱动装置11固定在第一真空法兰4上；第二运输车3通过真空嵌入装置连接第二真空 法兰6、电极12以及磁控溅射源或电弧蒸发源7，磁控溅射源或电弧蒸发源7的上面装有涂 层材料13。其中第一真空法兰4与真空炉1连接，桶状容器5则置于真空炉1内，第二真空 法兰6和桶状容器5的开口端连接，电极12和磁控溅射源或电弧蒸发源7置于桶状容器5 内。本专利技术实施例所述的一种用于在小物件上沉积薄膜的装置采用物理气相沉积 (PVD)方法在真空条件下对待镀膜小物件10完成镀膜，特别是采用电弧沉积法或磁控溅射 法。沉积的膜层为单层或复合层或纳米机构膜层，其厚度范围一般在0.05-10微米。装在 桶状容器5内的小物件10的直径和长度均在0. 5-1. 5m之间，桶状容器5以0. Ol-IOrmp的 转速进行旋转。在桶壁上装有若干长木棒9，长木棒9在随着桶状容器5旋转时可使小物件 10翻滚，使小物件10能够以不同的表面对着涂层材料13，确保小物件10涂层均勻和全面。 桶状容器5内带有一个单独的电极12作为偏压，使桶状容器5内部达到负偏压环境。工作原理为1、载有第一真空法兰4和桶状容器5的第一运输车2从真空炉1左 侧推进，将桶状容器5推入真空炉室直到第一真空法兰4接触到真空炉室并与炉室连接；载 有第二真空法兰6和磁控溅射源或电弧蒸发源7的第二运输车3从真空炉1右侧推进，将 电极12和磁控溅射源或电弧蒸发源7推入真空炉1内的桶状容器5直到第二真空法兰6 接触到桶状容器5并与容器连接；2、打开真空炉1内的真空泵8，抽出真空炉室内的大气， 使得炉室内的真空范围低于10E-4mbar;3、抽空后，桶状容器5开始旋转并且同时内部的待 镀膜小物件10由于一个单独的加热器随着在抽空过程中开始预热；4、在一定时间后，旋转 的小物件10通过一个由电极12产生的辉光放电在桶状容器5内被刻蚀；5、刻蚀后，由一个 或多个磁控溅射源或电弧蒸发源7被轰击激活后产生的涂层材料13释放后用于沉积在旋 转的小物件10上；6、当要求的膜层厚度达到后，磁控溅射源或电弧蒸发源7被关闭，小物件 10被冷却并且真空炉1内充入气体后打开，桶状容器5被拉出后将涂好的小物件10取出即 可。权利要求一种用于在小物件上沉积薄膜的装置，包括真空炉(1)、载有第一真空法兰(4)和桶状容器(5)的第一运输车(2)以及载有第二真空法兰(6)和磁控溅射源或电弧蒸发源(7)的第二运输车(3)，其特征在于所述真空炉(1)内设有一个或多个真空泵(8)；第一运输车(2)通过真空嵌入装置连接第一真空法兰(4)和桶状容器(5)，桶状容器(5)内壁上设有若干长条棒(9)，桶状容器(5)外设有电机驱动装置(11)，电机驱动装置(11)固定在第一真空法兰(4)上；第二运输车(3)通过真空嵌入装置连接第二真空法兰(6)、电极(12)以及磁控溅射源或电弧蒸发源(7)，磁控溅射源或电弧蒸发源(7)的上面装有涂层材料(13)。2.根据权利要求1所述的用于在小物件上沉积薄膜的装置，其特征在于所述第一真 空法兰(4)与真空炉(1)连接，桶状容器(5)置于真空炉(1)内；第二真空法兰(6)和桶状 容器(5)的开口端连接，电极(12)和磁控溅射源或电弧蒸发源(7)置于桶状容器(5)内。全文摘要本专利技术涉及一种用于在小物件上沉积薄膜的装置，包括真空炉、第一运输车以及第二运输车，所述真空炉内设有一个或多个真空泵；第一运输车通过真空嵌入装置连接第一真空法兰和桶状容器，桶状容器内壁上设有若干长条棒，桶状容器内可放置待镀膜小物件，桶状容器外设有一个电机驱动装置，电机驱动装置固定在第一真空法兰上；第二运输车通过真空嵌入装置连接第二真空法兰、电极以及磁控溅射源或电弧蒸发源，磁控溅射源或电弧蒸发源的上面装有涂层材料。本专利技术的有益效本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在小物件上沉积薄膜的装置，包括真空炉（１）、载有第一真空法兰（４）和桶状容器（５）的第一运输车（２）以及载有第二真空法兰（６）和磁控溅射源或电弧蒸发源（７）的第二运输车（３），其特征在于：所述真空炉（１）内设有一个或多个真空泵（８）；第一运输车（２）通过真空嵌入装置连接第一真空法兰（４）和桶状容器（５），桶状容器（５）内壁上设有若干长条棒（９），桶状容器（５）外设有电机驱动装置（１１），电机驱动装置（１１）固定在第一真空法兰（４）上；第二运输车（３）通过真空嵌入装置连接第二真空法兰（６）、电极（１２）以及磁控溅射源或电弧蒸发源（７），磁控溅射源或电弧蒸发源（７）的上面装有涂层材料（１３）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：加百利赫伯特，路景珍，
申请(专利权)人：哈尔滨一工普威特镀膜有限公司，
类型：发明
国别省市：93[中国|哈尔滨]