【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体器件生产应用领域，尤其涉及一种静电卡盘边缘清洁装置。
技术介绍
1、e-chuck(静电卡盘)是晶圆在腔体内镀膜承载晶圆的平台，在晶圆进行镀膜的时候会由机械手臂将晶圆传送至e-chuck的平台上，为防止晶圆在镀膜的过程中因受到气体流动而发生位置偏移，e-chuck会通过静电吸附的方式将晶圆牢牢的吸附在e-chuck的表面，使晶圆的位置不发生偏移。在镀膜时晶圆的温度会升高，为防止晶圆温度过高，增加一个单独的氦气降温系统。在e-chuck的边缘留有内外两圈氦气孔，氦气可以在晶圆的背部流动对晶圆进行降温，从而使整个镀膜过程能够安全顺利完成。
2、然而，在将晶圆放入腔室内的e-chuck进行镀膜时，随着镀膜次数的增多，晶圆与平台边缘的交界处会形成脏污堆积，若堆积的脏污崩落到e-chuck表面，会使e-chuck表面不平整，导致后续晶圆与e-chuck表面无法完全贴合，流动氦气对晶圆进行降温时，会导致氦气泄漏，影响氦气降温系统正常运行。通常采用开腔人工清洁的方式去除脏污，但人工介入清洁效率低，且会影响设备正常生产进度和效率。
技术实现思路
1、鉴于以上现有技术存在的问题，本技术提出一种静电卡盘边缘清洁装置，主要解决现有静电卡盘边缘清洁依赖人工，清洁效率低且影响生产顺行的问题。
2、为了实现上述目的及其他目的，本技术采用的技术方案如下。
3、本申请提供一种静电卡盘边缘清洁装置，所述静电卡盘至少包括用于承载晶圆的载物台以及设置于所述载物台外侧的
4、载体，其被配置为在进行清洁时放置于所述载物台上；
5、静电吸附组件，其设置于所述载体背离所述载物台的一侧，通过所述静电吸附组件靠近所述环状台阶结构，以吸附所述环状台阶结构上堆积的生成物。
6、在本申请一实施例中，所述载体的尺寸与所述载物台上承载的晶圆的尺寸相同。
7、在本申请一实施例中，所述载体包括晶圆。
8、在本申请一实施例中，所述静电吸附组件包括：
9、电源单元；
10、驱动单元，其设置于所述载体背离所述载物台的一侧，所述驱动单元与所述电源单元连接；
11、吸附转轮，与所述驱动单元连接，以使所述吸附转轮在所述驱动单元的转动作用下沿所述环状台阶结构的台阶转动。
12、在本申请一实施例中，所述静电吸附组件还包括：伸缩单元，其设置于所述驱动单元与所述吸附转轮之间，以通过所述驱动单元驱动所述伸缩单元运动，带动所述吸附转轮靠近或远离所述环状台阶结构的台阶。
13、在本申请一实施例中，所述伸缩单元的一端与所述吸附转轮连接，以独立驱动所述吸附转轮靠近或远离所述台阶。
14、在本申请一实施例中，所述吸附转轮与所述伸缩单元的一端转动连接。
15、在本申请一实施例中，所述驱动单元与所述吸附转轮之间设置有导向槽，所述伸缩单元设置于所述导向槽内。
16、在本申请一实施例中，所述吸附转轮包括多个，每个所述吸附转轮设置于所述载体的平面上的不同位置，且各所述吸附转轮分别与所述驱动单元连接。
17、在本申请一实施例中，所述电源单元包括蓄电池。
18、如上所述，本技术一种静电卡盘边缘清洁装置，具有以下有益效果。
19、本申请的静电卡盘边缘清洁装置通过在载体上设置静电吸附组件，只需要将载体置于静电卡盘用于承载晶圆的平台上，就可以通过静电吸附组件吸附平台边缘堆积的脏污，且清洁过程中不需要人工开腔，可利用将晶圆放入平台相同的方式，将载体放入平台完成清洁过程，减少人工干预，不影响晶圆正常生产工艺流程。
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1.一种静电卡盘边缘清洁装置，所述静电卡盘至少包括用于承载晶圆的载物台以及设置于所述载物台外侧的环状台阶结构，其特征在于，所述边缘清洁装置包括：
2.根据权利要求1所述的静电卡盘边缘清洁装置，其特征在于，所述载体的尺寸与所述载物台上承载的晶圆的尺寸相同。
3.根据权利要求2所述的静电卡盘边缘清洁装置，其特征在于，所述载体包括晶圆。
4.根据权利要求1所述的静电卡盘边缘清洁装置，其特征在于，所述静电吸附组件包括：
5.根据权利要求4所述的静电卡盘边缘清洁装置，其特征在于，所述静电吸附组件还包括：伸缩单元，其设置于所述驱动单元与所述吸附转轮之间，以通过所述驱动单元驱动所述伸缩单元运动，带动所述吸附转轮靠近或远离所述环状台阶结构的台阶。
6.根据权利要求5所述的静电卡盘边缘清洁装置，其特征在于，所述伸缩单元的一端与所述吸附转轮连接，以独立驱动所述吸附转轮靠近或远离所述台阶。
7.根据权利要求6所述的静电卡盘边缘清洁装置，其特征在于，所述吸附转轮与所述伸缩单元的一端转动连接。
8.根据权利要求5所述的静电
9.根据权利要求4-8任一所述的静电卡盘边缘清洁装置，其特征在于，所述吸附转轮包括多个，每个所述吸附转轮设置于所述载体的平面上的不同位置，且各所述吸附转轮分别与所述驱动单元连接。
10.根据权利要求4所述的静电卡盘边缘清洁装置，其特征在于，所述电源单元包括蓄电池。
...【技术特征摘要】
1.一种静电卡盘边缘清洁装置，所述静电卡盘至少包括用于承载晶圆的载物台以及设置于所述载物台外侧的环状台阶结构，其特征在于，所述边缘清洁装置包括：
2.根据权利要求1所述的静电卡盘边缘清洁装置，其特征在于，所述载体的尺寸与所述载物台上承载的晶圆的尺寸相同。
3.根据权利要求2所述的静电卡盘边缘清洁装置，其特征在于，所述载体包括晶圆。
4.根据权利要求1所述的静电卡盘边缘清洁装置，其特征在于，所述静电吸附组件包括：
5.根据权利要求4所述的静电卡盘边缘清洁装置，其特征在于，所述静电吸附组件还包括：伸缩单元，其设置于所述驱动单元与所述吸附转轮之间，以通过所述驱动单元驱动所述伸缩单元运动，带动所述吸附转轮靠近或远离所述环状台阶结构的台阶。
<...【专利技术属性】
技术研发人员：张贵财，张振，吴数林，
申请(专利权)人：合肥晶合集成电路股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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