具有加热罩的真空蒸镀装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术是有关于一种具有加热罩的真空蒸镀装置，包括：本体；蒸发源；镀锅；以及加热罩，其中本体具有真空腔室，而真空腔室内由下而上设置有蒸发源、石英灯、镀锅及加热罩。其中加热罩覆盖在镀锅上方，以确保蒸镀材在蒸镀过程中拥有足够的能量，进而使蒸镀材的晶格排列更为整齐并可提升蒸镀材与晶圆的密实性，从而提高真空蒸镀装置的蒸镀率、蒸镀速率以及蒸镀效果。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种真空蒸镀装置，特别是涉及一种应用于晶圆制作过程中的具 有加热罩的真空蒸镀装置。
技术介绍
简单来说，真空蒸镀就是将蒸镀材气化后，使其在被镀物表面形成薄膜。更详细地 说，可在真空环境下加热蒸镀材，使蒸镀材受热而蒸发气化或升华，并使气态的蒸镀材附着 在被镀物表面，并在被镀物表面形成薄膜。而在真空环境下操作，就是为了避免气化的蒸镀 材在没有接触到被镀物之前即与气体分子碰撞。此外，真空环境下也可降低蒸镀材的蒸发 温度。图1A为现有技术中蒸镀材50吸附在被镀物51上的示意图。图1B为现有技术中 蒸镀材50进行扩散运动的示意图。图1C为现有技术中蒸镀材50紧密堆迭的示意图。图 2为现有技术中蒸镀材50松散堆迭的示意图。如图1A所示，蒸镀材50气化后的原子会吸 附在被镀物51表面，并在被镀物51表面进行化学反应。如图1B所示，于此同时，原子会在 被镀物51表面进行扩散运动。如图1C所示，原子间彼此碰撞并形成原子团，原子团再彼此 聚合扩大并连结，就会形成整个连续且原子间紧密堆迭的薄膜。然而基本上难以掌控蒸镀材50气化后的原子扩散行进的方向，因此使得大部分 的蒸镀材50都不能附着在被镀本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有加热罩的真空蒸镀装置，其特征在于：所述的具有加热罩的真空蒸镀装置包括：一本体，所述的本体具有一真空腔室；一蒸发源，所述的蒸发源设置在所述的真空腔室的底部；一镀锅，所述的镀锅借由一旋转机构设置在所述的真空腔室的顶部；以及一加热罩，所述的加热罩设置在所述的真空腔室内并置于所述镀锅相对于所述蒸发源的另一侧。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：徐琼芳，陈宜杰，白英宏，
申请(专利权)人：聚昌科技股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[]