具有间接加热平台的衬锅结构制造技术

本发明专利技术提供一种具有间接加热平台的衬锅结构，其包括：锅体，其为碗状结构，并具有容置空间；以及至少一个加热平台，其是形成于该容置空间。借由本发明专利技术的实施，可以达成避免镀膜材料喷溅、蒸镀面积最大化、镀膜材料温度更一致以及汽化后所产生的镀率随之稳定的功效。致以及汽化后所产生的镀率随之稳定的功效。致以及汽化后所产生的镀率随之稳定的功效。

【技术实现步骤摘要】
具有间接加热平台的衬锅结构


[0001]本专利技术为一种具有间接加热平台的衬锅结构，其特别是一种应用于镀膜设备的具有间接加热平台的衬锅结构。

技术介绍

[0002]如图1所示，现有习知衬锅结构P100，是利用电子枪P10产生的电子束 P11直接轰击靶材/镀膜材料P20，使靶材熔化，进而蒸发后附着到待镀基板上。早期蒸镀大多使用热电阻加热法，但靶材和坩锅与加热源直接接触，能蒸镀的镀膜材料P20种类有限，靶材耗损量大，得到的薄膜纯度也不足。
[0003]而电子束蒸镀法，则可有效地改善热蒸镀法的限制。电子束蒸镀法，是利用高能电子束的动能，转换为熔化靶材的热能，并利用靶材在接近熔点时的饱和蒸汽压进行镀膜。此法除了有很好的热转换效率外，蒸镀速率亦能精准控制，靶材种类选择的限制较少，除部分化合物及合金外，多数镀膜材料P20皆能蒸镀。
[0004]如图2A及图2B所示，现有习知的电子枪P10产生的电子束P11，经磁吸控制元件P30产生180或270度偏向直接发射到蒸发物的表面。此时，针对较为活泼的物质在使用电子枪直接对镀膜材料P20加热时，会造成镀膜材料 P20喷溅或火花四射的状况，此外，现有习知加热的温度以打点为中心散开，因此镀率都很难控制的稳定。

技术实现思路

[0005]本专利技术为一种具有间接加热平台的衬锅结构，其是要解决现有习知直接加热的衬锅结构，其所产生的喷溅问题、蒸镀面积较小、镀膜材料溶解不完整、被加热镀膜材料温度不一致、以及汽化后所产生的镀率不稳定
…
等问题。
>[0006]本专利技术间接式加热方式，亦可适用于高导热的镀膜材料，例如银(Ag)、铜(Cu)、金(Au)、铂(Pt)，以避免因为电子枪加热功率过高，造成喷溅问题。
[0007]本专利技术提供一种具有间接加热平台的衬锅结构，其包括：锅体，其为碗状结构，并具有容置空间；以及至少一个加热平台，其是形成于该容置空间内。
[0008]较佳地，其中该加热平台是形成于该容置空间的中央部位。
[0009]较佳地，其中该至少一个加热平台与该锅体为一体成型的结构。
[0010]较佳地，其中该加热平台为底面积大于或等于顶面积的结构。
[0011]较佳地，其中该加热平台为圆锥体、圆柱体、多边形柱体、或多边形锥体的结构。
[0012]较佳地，其中该加热平台的周边，进一步向外延伸形成有至少一个延伸鳍部。
[0013]较佳地，其中该加热平台及/或该锅体是以钼或钨所制成。
[0014]借由本专利技术的实施，至少可以达成下列的进步功效：
[0015]一、本专利技术间接式加热方式，可用于低沸点镀膜材料蒸镀，例如砷(As)，以避免电子枪直接照射，造成喷溅问题。
[0016]二、本专利技术间接式加热方式，亦可适用于高导热的镀膜材料，例如银 (Ag)、铜
(Cu)、金(Au)、铂(Pt)，以避免因为电子枪加热功率过高，造成喷溅问题。
[0017]三、因为加热是由衬埚间接加热镀膜材料，所以镀膜材料溶解更为完整，且镀率控制更为稳定。
[0018]四、可使蒸镀面积最大化，而非传统的单点高温蒸镀源。
[0019]五、使用本专利技术间接加热式衬锅结构，可以完整的加热镀膜材料，让被加热镀膜材料的温度更一致。以及
[0020]六、被加热镀膜材料温度控制越稳定，汽化后所产生的镀率也就越稳定。
[0021]为了使任何熟习相关技艺者了解本专利技术的
技术实现思路
并据以实施，且根据本说明书所揭露的内容、申请专利范围及图式，任何熟习相关技艺者可轻易的理解本专利技术相关的目的及优点，因此将在实施方式中详细叙述本专利技术的详细特征以及优点。
附图说明
[0022]图1为现有习知电子枪电子束直接发射到蒸发物表面的衬锅结构。
[0023]图2A为现有习知衬锅结构其镀率随着镀膜材料的受热时间而跳动的示意图。
[0024]图2B为现有习知衬锅结构其加热的温度是以打点为中心散开的示意图。
[0025]图3A为本专利技术的一种衬锅结构的立体实施例图剖视实施例图。
[0026]图3B为本专利技术的一种衬锅结构的立体实施例图。
[0027]图4为本专利技术的一种多个加热平台的衬锅结构实施例图。
[0028]图5A为一种圆柱体加热平台的实施例图。
[0029]图5B为一种多边形锥体加热平台的实施例图。
[0030]图5C为一种多边形柱体加热平台的实施例图。
[0031]图6为加热平台进一步具有延伸鳍部的衬锅结构实施例图。
[0032]图7A为衬锅结构以加热平台进行均匀温度加热的实施例图。
[0033]图7B为衬锅结构其镀率因镀膜材料受热稳定而稳定镀率的特性曲线图。
[0034]【主要元件符号说明】
[0035]P100：现有习知衬锅结构
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P10：电子枪
[0036]P11：电子束
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P20：镀膜材料
[0037]P30：磁吸控制元件
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100：具有间接加热平台的衬锅结构
[0038]10：锅体
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110：容置空间
[0039]20：加热平台
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211：圆锥体
[0040]212：圆柱体
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213：多边形柱体
[0041]214：多边形锥体
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220：延伸鳍部
具体实施方式
[0042]如图3A至图3B所示，本实施例为一种具有间接加热平台的衬锅结构100，其包括：锅体10；以及至少一个加热平台20。本实施例的衬锅结构是要改变传统电子枪P10只能直接加热镀膜材料P20的使用方式，又本实施例的衬锅结构100同样可以适用于一般市售的180度、 270度电子枪P10。
[0043]锅体10，其为碗状结构，并具有容置空间110，以容置待加热的镀膜材料P20，例如
是金属的钛(Ti)、银(Ag)、铜(Cu)、金(Au)、铂(Pt)
…
等、或者非金属的氟化物、砷(As)
…
.等。
[0044]如图4所示，加热平台20可以是单一或多个加热平台20，且形成于锅体10的容置空间110内。又为了使热能够平均传导，当只有单一加热平台20时，加热平台20，特别可以形成于容置空间110的中央部位，以使热能够更均匀的向四周传导。
[0045]为了使热也能够借由锅体10进行传导，因此加热平台20与锅体 10可以为一体成型的结构。又其中加热平台20及/或锅体10可以是以耐高温金属材质，例如钼(Mo)或钨(W)
…
等所制成。
[0046]如图5A至图5C所示，为了因应不同的产品，因此加本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有间接加热平台的衬锅结构，其特征在于，其包括：锅体，其为碗状结构，并具有容置空间；以及至少一个加热平台，其是形成于该容置空间。2.根据权利要求1所述的衬锅结构，其特征在于，其中该加热平台是形成于该容置空间的中央部位。3.根据权利要求1所述的衬锅结构，其特征在于，其中该至少一个加热平台与该锅体为一体成型的结构。4.根据权利要求1所述的衬锅结构，其特征在于，其中该加热平台...

【专利技术属性】
技术研发人员：张嘉彧，李峯钧，罗世欣，
申请(专利权)人：聚昌科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：