【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种承载器晶片保护装置,特别是一种用于半导体行业专用抛光设备 上的真空吸附承载器晶片保护装置。
技术介绍
半导体行业在对晶片的单面抛光工艺流程中,采用专用的抛光设备,该类设备的 承载器晶片盘一般是通过真空吸附在承载器上。在抛光过程中,由于断电等原因会造成真 空气路发生故障,导致真空度减小,就可能使陶瓷质的晶片盘脱落,从而对晶片造成较大的 损伤,甚至报废,一次脱落事故就可能给企业带来上万元的损失。为了保护晶片在气路发生 故障时不受损伤,应采取行之有效的防晶片盘脱落措施,从而进一步提高晶片抛光设备工 作的可靠性。然而,随着抛光工艺的逐步改进,晶片的抛光时间越来越短,目前完成一盘晶 片的抛光大约在半个小时以内,操作方便快捷的真空吸附方式最能适应如此频繁的晶片盘 装卸操作。因此,在不改变真空吸附方式的前提下,改进晶片盘的固定方式,有效地减少气 路故障给晶片造成的损失是抛光行业面临的难题之一。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种结构简单、操作快捷方便的承载器晶片保 护装置。本专利技术采用如下技术方案本专利技术包括主轴、轴承座、固定在轴承座下端的 ...
【技术保护点】
一种承载器晶片保护装置,它包括主轴、轴承座、固定在轴承座下端的吸盘、与吸盘下端面密封固定的盖板和吸附在盖板下端面上的陶瓷盘,其特征是所述吸盘(10)沿径向对称设有二个锁舌(11),且锁舌(11)与吸盘(10)滑动配合,锁舌(11)的里端与吸盘(10)间设有复位弹簧(3),所述陶瓷盘(13)设有防脱防护圈(16),防脱防护圈(16)下端设有供承托陶瓷盘(13)的内凸缘,防脱防护圈(16)上端内侧设有与所述锁舌(11)外端卡接的凹槽。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:高慧莹,刘涛,张领强,
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第四十五研究所,
类型:发明
国别省市:13[中国|河北]
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