静电吸附电极和处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供防止在静电吸附电极的气体流路中的异常放电，并且即便万一在气体流路中发生异常放电时也可以容易地进行修理的静电吸附电极。静电吸盘（５）具有由相互可以分离的第１基材（３０）和第２基材（３１）构成的组合构造。分别在第１基材（３０）上的介电性材料膜（８）内埋入电极（６ａ），在第２基材（３１）上的介电性材料膜（８）内埋入电极（６ｂ）。在组合第１基材（３０）和第２基材（３１）的状态中，在两者之间以包围第１基材（３０）周围的方式形成间隙，该间隙作为供给传热气体的气体供给缝隙（９ｃ）起作用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及静电吸附电极和处理装置，详细地说，涉及在平板显示器(FPD)等的制造过程中，用于载置玻璃基板等的基板的静电吸附电极和备有该静电吸附电极的处理装置。
技术介绍
在FPD的制造过程中，对作为被处理体的玻璃基板进行干蚀刻和溅射、CVD(Chemical Vapor Deposition(化学气相淀积法))等的等离子处理。例如，在腔室内配置一对平行平板电极(上部和下部电极)，将玻璃基板载置在作为下部电极起作用的支持器(基板载置台)上后，将处理气体导入腔室内，并且在至少一方的电极上加上高频功率，在电极间形成高频电场，由该高频电场形成处理气体的等离子体，对玻璃基板施加等离子处理。这时，通过设置在支持器上的静电吸附电极，利用例如库伦力，能够吸附固定玻璃基板。可是，为了促进对玻璃基板的传热，向玻璃基板的背面侧供给He等的传热气体(例如，专利文献1、专利文献2)。经过从支持器侧贯通上述静电吸附电极形成的气体流路，将传热气体导入到支持器表面和载置在那里的玻璃基板背面的间隙中。在该气体流路中，以不露出由Al等构成的支持器的材质的方式对表面施加防蚀铝处理(阳极氧化处理)等。日本特开平9-2本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种静电吸附电极，其特征在于，由相互可以分离的多个基材构成，具有载置被处理体的载置面，在至少两个基材的间隙中，形成达到所述载置面且向被处理体的背面供给传热媒体的传热媒体流路。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：林圣，南雅人，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]