元件衬底的制造方法及衬底保持装置制造方法及图纸

在对会因电荷而产生不良的衬底实施预定处理的工序中，防止该衬底带电，并且进行控制使得在从该衬底除去电荷时流动的电流不超过预定值，结果能提高制造的器件的成品率。本发明专利技术的衬底保持装置具有保持衬底２０１的卡盘１０１和支撑卡盘１０１的旋转轴１０４，用１０↑［５］Ωｃｍ～１０↑［１０］Ωｃｍ的电阻率值的材料形成卡盘１０１的和衬底２０１的接触部中电阻率值最低的部分，该电阻率值最低的部分通过旋转轴１０４接地。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及元件衬底的制造方法及衬底保持装置。
技术介绍
近几年，半导体装置及液晶显示装置等的制造中使用绝缘性的玻璃(glass)衬底，在该衬底上形成TFT(Thin Film Transistor薄膜晶体管)等电子器件(device)。在衬底上形成电子器件时，例如，使用光刻法(photolithographic method)。在光刻法中，例如，用湿法蚀刻(wet etching)进行构图(patterning)。在湿法蚀刻工序中，在图形(pattern)形成的预定薄膜上形成保护膜(抗蚀剂(resist))。而且，用酸等的药液除去没有保护膜的地方。然后，用冲洗(rinse)液充分除掉多余的酸。这种冲洗液主要使用纯水。即，为了洗去衬底上的药液而进行水洗。衬底上形成的电子器件，往往层叠多个层而构成。因而，要用上述的光刻法进行多次构图，与其相应，要用冲洗液进行多次水洗。这时，由于绝缘性的玻璃衬底和绝缘性的纯水的摩擦，产生静电。有因这种产生的电荷而使在衬底上形成的电子器件发生静电破坏的问题。以前，作为解决这样的问题的方法，例如，在专利文献1中提出了在纯水中导入二氧化碳(carbon dioxide gas)等，以使其电阻率值下降的技术。此外，在专利文献2中提出了用导电性材料构成保持衬底的卡盘(chuck)，通过该卡盘使衬底上带电的电荷放电的技术。进而，在专利文献3中，通过调整使得保持衬底的卡盘的表面电阻值和电阻率值(文献中的体积固有电阻值)成为预定的范围，从而防止静电破坏、和使用中粉尘等的附着。专利文献1特开平9-1093号公报专利文献2特开2003-92343号公报专利文献3特开2000-195932号公报如专利文献1公开的那样，为了在纯水中导入二氧化碳等，必须改良纯水供给设备，这需要高额的成本(cost)。而且，需要控制纯水的电阻率值，存在所谓发生工艺方法(process)管理上的限制的问题。而且，在照相制版的显影工序中，显影处理后的纯水冲洗液使用导入了二氧化碳的纯水，这会使显影液的碱(alkalis)浓度急剧下降。因此，会产生抗蚀剂的残渣，存在成为图形不良原因的问题。在使用专利文献2公开的方法时，由于用导电性材料形成卡盘，所以有在衬底上带电的电荷顺着卡盘急剧放电的情况。存在所谓因该放电时流动的电流破坏在衬底上形成的电子器件的问题。此外，专利文献3公开的卡盘，由于电阻率值太低，同样也存在衬底上带电的电荷顺着卡盘急剧放电的情况。
技术实现思路
本专利技术是以上述情况为背景而研制的，其目的在于，在对会因电荷而产生不良的衬底实施预定处理的工序中，抑制该衬底的带电，并且进行控制使得在从该衬底除去电荷时流动的电流不超过预定值，结果能提高制造的器件的成品率。本专利技术的衬底保持装置具有保持衬底的卡盘和支撑上述卡盘的卡盘支撑构件，用105Ωcm～1010Ωcm电阻率值的材料形成上述卡盘的和上述衬底的接触部中电阻率值最低的部分，上述电阻率值最低的部分通过上述卡盘支撑构件接地。因此，在对因电荷而发生不良的衬底实施预定的处理的工序中，能防止该衬底带电，并且能进行控制使得在从该衬底除去电荷时流动的电流不超过预定值。因而，结果能谋求提高制造的器件的成品率。这里，上述电阻率值最低的部分，最好用在绝缘性材料中混合了碳纳米管(carbon nano tube)的材料形成。因此，能用绝缘性材料中混合的碳纳米管的混合比率调整电阻率。而且，由于是碳纳米管，所以能用少的混合比实现希望的电阻率。而且，最好是上述碳纳米管的纤维排列在大致一个方向上，上述电阻率值最低的部分具有电的各向异性。因此，能仅在必要的方向形成电流通路(path)，能使在绝缘性材料中混合的碳纳米管的比率更少。最好是上述绝缘性材料用以聚碳酸酯(polycarbonate)、氟(fluorine)树脂及氯乙烯(vinyl chloride)中的至少1种以上为主成分的材料形成。若是聚碳酸酯，则能容易混合碳纳米管。若是氟树脂，则能在用上述卡盘保持玻璃衬底的情况下抑制带电。若是氯乙烯，则能容易加工。而且，最好是上述支撑部在上述卡盘的和衬底保持面相反侧的面支撑上述卡盘，在上述电阻率值最低的部分中，与上述衬底平行的方向的电阻率值比与上述衬底垂直的方向的电阻率值大。因此，衬底沿着卡盘与导电性构件电连接，并且可使卡盘和与其侧面抵接的其他构件绝缘。本专利技术的元件衬底的制造方法是在该衬底上形成有电子元件的元件衬底的制造方法，通过卡盘保持上述衬底，以便对衬底的带电电荷除电，其中该卡盘用和上述衬底的接触部中电阻率值最低的部分是105Ωcm～1010Ωcm的电阻率值的材料形成，在用上述卡盘保持上述衬底的状态下处理该衬底。因此，在对会因电荷而发生不良的衬底实施预定处理的工序中，能防止该衬底带电，并且能进行控制使得在从该衬底除去电荷时流动的电流不超过预定值，结果能提高制造的器件的成品率。这里，上述电阻率值最低的部分，最好用在绝缘性材料中混合碳纳米管的材料形成。因此，能用绝缘性材料中混合的碳纳米管的混合比率调整电阻率。而且，由于是碳纳米管，所以能用少的混合比实现希望的电阻率。而且，最好是上述碳纳米管的纤维排列在大致一个方向上，上述电阻率值最低的部分具有电的各向异性。因此，能仅在必要的方向形成电流通路，能使在绝缘性材料中混合的碳纳米管的比率更少。而且，上述衬底是绝缘性衬底，在用上述卡盘保持上述衬底的状态下，能用纯水洗净该衬底。因此，能避免使用纯水以外作为洗净液时的不良情况，能合适地除去因绝缘性衬底和绝缘性的纯水的摩擦而产生的电荷。导电性构件在上述卡盘的和衬底保持面相反侧的面保持上述卡盘，对上述衬底的带电电荷通过上述导电性构件进行除电，在上述电阻率值最低的部分，最好使与上述衬底平行的方向的电阻率值比与上述衬底垂直的方向的电阻率值大。因此，衬底沿着卡盘与导电性构件电连接，并且可使卡盘和与其侧面抵接的其他构件绝缘。通过本专利技术，在对会因电荷而发生不良的衬底实施预定处理的工序中，能防止该衬底的带电，并且能进行控制使得在从该衬底除去电荷时流动的电流不超过预定值，结果能提高制造的器件的成品率。附图说明图1是本专利技术实施方式的液晶面板的示意剖面图。图2是本专利技术实施方式的卡盘的示意平面图。图3是本专利技术实施方式的卡盘及衬底处理装置的示意剖面图。图4是示意地表示在本专利技术实施方式的卡盘中混合的物质的状态的图。图5是表示电阻率值相对于本专利技术实施方式的卡盘中的聚碳酸酯所含有的碳纳米管及石墨粉末的含有量的曲线图。图6是示意地表示本专利技术实施方式的静电带电量测定装置的图。图7是示意地表示在本专利技术实施方式的卡盘中混合的物质的状态的图。具体实施例方式实施方式1以下，说明能应用本专利技术的实施方式。为了说明的明确化，对以下的记载及附图进行适当省略及简化。在各附图中，同一要素附加同一符号，根据需要省略重复说明。对于以下的实施方式，在液晶显示装置的制造工序中，以制造在绝缘性的玻璃衬底上形成TFT元件和像素电极等的阵列(array)衬底的工序为例进行说明。首先，用图1说明液晶面板(panel)的整体结构。图1作为液晶显示装置的一例是表示TN(Twisted Nematic扭转向列)型(type)的有源矩阵(active matrix)液晶面板200的结构的示意本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种衬底保持装置，其特征是，具有：保持衬底的卡盘；支撑上述卡盘的卡盘支撑构件，用１０↑［５］Ωｃｍ～１０↑［１０］Ωｃｍ的电阻率值的材料形成上述卡盘的和上述衬底的接触部中电阻率值最低的部分，上述电阻率 值最低的部分通过上述卡盘支撑构件接地。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：阪本弘和，荒木利夫，青木理，森田浩正，
申请(专利权)人：三菱电机株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]