非易失性存储装置中的检测方法及读取系统制造方法及图纸

技术编号:3899938 阅读:140 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
源极线偏压是一种由读取/写入电路的接地环路中的非零电阻引入的误差。在检测过程中,一存储单元的控制栅极电压会被一所述电阻两端的电压降错误地偏置。该误差会在流经接地环路的电流减小时得以最小化。一种用于降低源极线偏压的方法是通过具有多遍式检测特性和技术的读取/写入电路来实现。在并行检测一页存储单元时,每一遍均有助于识别并关断那些导电电流高于一给定分界电流值的存储单元。详言之,在已完成当前遍中的所有检测后关断所识别出的存储单元。通过这种方式,使关断作业不会干扰检测作业。由于通过消除较高电流单元的贡献而使总电流量得以显著降低,因此后续各遍检测将更小地受到源极线偏压的影响。在另一个检测改良方面中,使用一参考检测放大器来控制多个检测放大器,以降低其对电源及环境变化的依赖性。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术概言之涉及非易失性半导体存储器,例如电可擦可编程只读存储器 (EEPROM)和闪速EEPROM ,具体而言,本专利技术涉及具有改良检测电路的非 易失性半导体存储器。
技术介绍
最近,具有电荷非易失性存储能力的固态存储器,尤其是作为小形体因数 插件封装的EEPROM及闪速EEPROM形式的固态存储器,成为各种移动及手 持装置、尤其是信息用具和消费电子产品中的首选存储装置。与亦为固态存储 器的RAM (随机存取存储器)不同,闪速存储器具有非易失性,即使在电源关 闭之后也能保留其所存储数据。闪速存储器尽管成本较高,但目前却越来越多 地应用于大容量存储应用中。基于旋转磁性介质的传统大容量存储装置,例如 硬盘驱动器及软盘,不适用于移动及手持环境。原因在于磁盘驱动器通常较为 笨重,易于发生机械故障,且具有高的延时和高功率需求。这些不受欢迎的特 性使得基于磁盘的存储装置不适用于大多数移动及便携式应用。相反,闪速存 储器,无论是嵌入式还是可拆插件形式,均可理想地适用于移动及手持环境, 原因是其具有尺寸小、功率消耗低、速度高及可靠性高的特点。EEPROM及电可编程只读存储器(EPROM)为可进行擦除并将新数据写入 或"编程"输入其存储单元内的非易失性存储器。二者均利用一位于一场效应晶体管结构中的浮动(未连接的)导电栅极,该浮动导电栅极定位于一半导体 衬底的一沟道区上方、源极区与漏极区之间。然后在浮动栅极之上设置有一控 制栅极。晶体管的阈电压特性受控于浮动栅极上所保持的电荷量。也就是说, 对于浮动栅极上一给定的电荷电平,必须在控制栅极上施加一对应的电压(阈 值)后,晶体管方会导通来允许其源极区与漏极区之间导电。浮动栅极可保持一电荷范围,因此可编程至一阔电压窗口内的任一阈电压 电平。阈电压窗口的尺寸是由器件的最低及最高阈电平来定界,而器件的最低 及最高阈电平又对应于可编程到浮动栅极上的电荷范围。阈值窗口通常取决于 存储器件的特性、工作条件及历史。原则上,该窗口内每一不同的可分辨的阈 电压电平均可用于标识该单元的一确定的存储状态。用作一存储单元的晶体管通常通过两种机理之一编程为一 "已编程"状态。 在"热电子注入"中,施加至漏极的高电压会使电子加速穿过衬底沟道区。同 时,施加至控制栅极的高电压会将热电子通过一薄的栅极介电层拉至浮动栅极 上。在"隧穿注入"中,则是相对于衬底在控制片册极上施加一高电压。通过这 种方式,将电子自所述村底拉至中间浮动栅极。存储器件可通过多种机理进行擦除。对于EPROM,可通过紫外线辐射移除 浮动栅极上的电荷,来对存储器进行整体擦除。对于EEPROM,可通过相对于 控制栅极在村底上施加一高电压以促使浮动栅极中的电子隧穿一薄氧化层到达 衬底的沟道区(即Fowler-Nordheim隧穿),来对一存储单元进行电擦除。通常, EEPROM可逐一字节地擦除。对于闪速EEPROM,可一次电擦除整个存储器或 每次电擦除一个或多个块,其中一个块可由512个或更多存储字节组成。非易失性存储单元实例存储装置通常包含一个或多个可安装在一个插件上的存储芯片。每一存储 芯片包含一由例如译码器和擦除、写入和读取电路等外围电路支持的存储单元 阵列。更为复杂的存储装置还带有一控制器,该控制器执行智能和更高级存储 器作业及介接。目前有许多种在商业上很成功的非易失性固态存储装置正为人们所用。这些存储装置可采用不同类型的存储单元,其中每一类型存储单元均具有一个或多个电荷存储元件。图1A-1E以图解方式示意性地显示非易失性存储单元的不同实例。图1A以图解方式示意性地显示一非易失性存储器,其为一具有一用于存储电荷的浮动栅极的EEPROM单元的形式。电可擦可编程只读存储器(EEPROM) 具有与EPROM类似的结构,但是其另外还提供一种在施加适当的电压时无需 曝光至紫外线辐射即会以电方式加载或自其浮动栅极移除电荷的机理。该类单 元的实例及其制造方法在第5,595,924号美国专利中给出。图1B以图解方式示意性地显示一兼具有一选择栅极及一控制或引导栅极 二者的闪速EEPROM单元。该存储单元IO具有一位于源极扩散区14与漏极扩 散区16之间的"分裂沟道,,12。 一个单元事实上由两个晶体管Tl及T2串联构 成。Tl用作一具有一浮动栅极20及一控制栅极30的存储晶体管。浮动栅极能 够存储一可选数量的电荷。可流经沟道的Tl部分的电流量取决于控制栅极30 上的电压及驻留在中间浮动栅极20上的电荷量。T2用作一具有一选择栅极40 的选择晶体管。当选择栅极40上的电压使T2导通时,其会允许沟道的T1郜分 中的电流流过源极与漏极之间。选择晶体管提供一沿源极-漏极沟道的开关,该 开关独立于控制栅极的电压。其一优点在于,其可用于关断那些因其浮动栅极 处的电荷耗尽(正)而在零控制栅极电压下仍然导通的单元。另一优点在于, 其4吏源极侧注入编程更易于实施。分裂沟道存储器单元的一个简单的实施例是选择栅极和控制栅极连接至同 一字线,如图1B中的虚线所示意性显示。这通过将一电荷存储元件(浮动栅极) 定位在沟道的一部分上方、并将一控制栅极结构(其为一字线的一部分)定位 在另 一沟道部分上方及所述电荷存储元件上方来实现。由此会有效地构成一具 有两个串联晶体管的单元,其中一个晶体管(存储晶体管)使用所述电荷存储元件上的电荷量与所述字线上的电压的组合来控制可流经其沟道部分的电流 量,另一晶体管(选择晶体管)则仅以字线作为其栅极。该类单元的实例、其在存储系统中的应用及其制造方法在第5,070,032、 5,095,344、 5,315,541、 5,343,063及5,661,053号美国专利中给出。图1B所示分裂沟道单元的一更佳的实施例是选择栅极与控制栅极相互独 立,而不通过其间的虚线相连。在一种实施方案中,将一单元阵列中一列单元 的控制栅极连接至一垂直于字线的控制(或引导)线。其作用在于在对一选定 单元进行读取或编程时无需使字线同时执行两种功能。这两种功能是(l)用 作选择晶体管的栅极,因此需要一适当的电压使选择晶体管导通或关断,(2) 通过一耦合于字线与电荷存储元件之间的电场(容性)将电荷存储元件的电压 驱动至一所期望电平。通常难以使用一单一电压以最佳方式执行这两种功能。 通过分别控制控制栅极和选择栅极,字线只需执行功能(l),而由附加的控制 线执行功能(2)。这种能力使人们能够设计其中编程电压适合于目标数据的更 高性能的编程。独立控制(或引导)栅极在闪速EEPROM阵列中的应用在第 5,313,421及6,222,762号美国专利(举例而言)中进行了阐述。图1C以图解方式示意性地显示另一具有双浮动栅极及独立选择栅极和控 制栅极的闪速EEPROM单元。存储单元10与图1B中的存储单元10类似,只 是其事实上具有三个串联晶体管。在该类型单元中,在其源极扩散区与漏极扩 散区之间的其沟道上方包含两个存储元件(即Tl-左和Tl-右),其间为一选择晶 体管Tl。这些存储晶体管分别具有浮动栅极20和20'、及控制4册极30和30'。 选择晶体管T2是通过一选择栅极40控制。在任一时刻,仅对该对存储晶体管 中的一个进行读取或写入访问。在访问存储单元Tl-左时,T2及T本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种非易失性存储器,其包含: 一存储器存储单元阵列; 复数个检测放大器,其用于并行检测一组存储器存储单元; 所述复数个检测放大器中的每一检测放大器均具有取决于一共用参数集合及一控制信号集合的预定特性;及 一参考电路, 其与所述复数个检测放大器共享一共用环境,所述参考电路用于根据所述共用环境来校准所述共用参数集合并相应地产生所述控制信号集合,以控制所述复数个检测放大器,将其预定特性付诸实施。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:若尔安德里安瑟尼李彦
申请(专利权)人:桑迪士克股份有限公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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