自适应关盖平衡机构制造技术

本实用新型专利技术涉及自适应关盖平衡机构，包括设备外壳，所述设备外壳的内侧设置有升降盖，所述升降盖的下端部固定连接有轴套，所述轴套的内侧滑动连接有端块，所述端块的下端部固定连接有一端贯穿轴套并延伸至设备外壳外侧的升降轴，所述端块的下端部与轴套的内侧之间固定连接有位于升降轴外侧的压缩弹簧，所述升降轴的下端部固定连接有升降板。该自适应关盖平衡机构，通过巧妙的将升降轴、端块、压缩弹簧组装在轴套内，使得升降轴在关闭腔盖的时候有一段压缩弹簧进行缓冲，如果腔盖和设备外壳内腔面不平，压缩弹簧可以左右纠正不平的行程，自适应使得腔盖和腔室无缝隙，从而提高整个腔室的密闭性。的密闭性。的密闭性。

【技术实现步骤摘要】
自适应关盖平衡机构


[0001]本技术涉及原子层沉积设备
，具体为自适应关盖平衡机构。

技术介绍

[0002]原子层沉积(ALD)技术作为化学气相沉积技术的一个特殊形式，是通过将气相前驱体以脉冲的方式交替通入到反应室并在衬底表面发生化学吸附反应形成薄膜的一种方法，它最大的优点是具有自限制性，即当一种前驱体与另一种前驱体反应达到饱和时，反应自动终止。
[0003]原子层沉积设备内腔在关盖时要求腔盖尽量和腔室平行，不平行带来的缝隙会导致工艺气体在内外腔之间流动影响工艺，由于升降动力在外腔底部，从底部伸进去的升降轴带动腔盖很难保证和内腔的平行关盖，从而降低整个腔室的密闭性，故而提出自适应关盖平衡机构来解决上述问题。

技术实现思路

[0004]针对现有技术的不足，本技术提供了自适应关盖平衡机构，具备平行关盖提高密闭性等优点，解决了难以保证平行关盖的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：自适应关盖平衡机构,包括设备外壳，所述设备外壳的内侧设置有升降盖，所述升降盖的下端部固定连接有轴套，所述轴套的内侧本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.自适应关盖平衡机构，包括设备外壳(1)，其特征在于：所述设备外壳(1)的内侧设置有升降盖(2)，所述升降盖(2)的下端部固定连接有轴套(3)，所述轴套(3)的内侧滑动连接有端块(4)，所述端块(4)的下端部固定连接有一端贯穿轴套(3)并延伸至设备外壳(1)外侧的升降轴(6)，所述端块(4)的下端部与轴套(3)的内侧之间固定连接有位于升降轴(6)外侧的压缩弹簧(5)，所述升降轴(6)的下端部固定连接有升降板(7)，所述升降板(7)的上端部固定连接有位于升降轴(6)外侧的连接架(9)，所述连接架(9)靠近设备外壳(1)的一端固定连接有一端贯穿设备外壳(1)的腔盖(8)，所述设备外壳(1)的下端部固定连接有一端贯穿升降板(7)的限位柱(10)。2...

【专利技术属性】
技术研发人员：雍晓龙，张义颖，何奇，
申请(专利权)人：披刻半导体苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：