可均匀进气的原子层沉积装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供可均匀进气的原子层沉积装置，涉及原子层沉积技术领域。该可均匀进气的原子层沉积装置转动轴转动带动转动板转动，此时可以使通过进气筒进入到真空反应腔内部的反应气体与真空反应腔内部微粒进行充分的均匀地接触混合，使反应气体布满在真空反应腔内部的各个区域，以此在微粒表面形成一层均匀的薄膜，此结构有益于使反应气体均匀分布在微粒表面形成均匀薄膜。该可均匀进气的原子层沉积装置包括支撑板，所述支撑板顶部设置有转动杆，所述转动杆一侧固定连接有反应槽，所述反应槽内部设置有真空反应腔，所述反应槽内部固定连接有齿圈，所述齿圈内部啮合连接有多个齿轮。轮。轮。

【技术实现步骤摘要】
可均匀进气的原子层沉积装置


[0001]本技术涉及一种原子层沉积装置，具体为可均匀进气的原子层沉积装置，属于原子层沉积


技术介绍

[0002]原子层沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层地镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。
[0003]根据专利号CN 214088659 U的技术提供一种微粒的原子层沉积装置，主要包括一真空腔体、一轴封装置及一驱动单元，其中驱动单元经由轴封装置连接并驱动真空腔体转动。真空腔体包括一反应空间，用以容纳复数个微粒，其中反应空间为多边形柱状体或圆形波浪状柱状体。一抽气管线及一进气管线流体连接真空腔体，其中进气管线用以将前驱物气体及非反应气体输送至反应空间，配合反应空间的特殊形状，可透过非反应气体有效翻搅反应空间内的微粒，以利于透过原子层沉积制程在微粒的表面形成厚度均匀的薄膜。
[0004]以上对比文件中,在原子层沉积的过程中，向反应槽内部进气的气体，通过配合反应空本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.可均匀进气的原子层沉积装置，包括支撑板(1)，其特征在于：所述支撑板(1)顶部设置有转动杆(2)，所述转动杆(2)一侧固定连接有反应槽(3)，所述反应槽(3)内部设置有真空反应腔，所述反应槽(3)内部固定连接有齿圈(4)，所述齿圈(4)内部啮合连接有多个齿轮(5)，所述齿轮(5)内部固定连接有进气均匀组件。2.根据权利要求1所述的可均匀进气的原子层沉积装置，其特征在于：所述进气均匀组件包括转动轴(6)，所述转动轴(6)固定连接于齿轮(5)内部，所述转动轴(6)外侧固定连接有转动板(7)。3.根据权利要求2所述的可均匀进气的原子层沉积装置，其特征在于：所述反应槽(3)内部转动连接有圆形盘(8)，所述转动轴(6)转动连接于圆形盘(8)内壁，所述圆形盘(8)设置于反应槽(3)内部。4.根据权利要求3所述的可...

【专利技术属性】
技术研发人员：张义颖，张良，雍晓龙，何奇，
申请(专利权)人：披刻半导体苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：