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本实用新型提供可均匀进气的原子层沉积装置，涉及原子层沉积技术领域。该可均匀进气的原子层沉积装置转动轴转动带动转动板转动，此时可以使通过进气筒进入到真空反应腔内部的反应气体与真空反应腔内部微粒进行充分的均匀地接触混合，使反应气体布满在真空反应...
该专利属于披刻半导体（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过披刻半导体（苏州）有限公司授权不得商用。

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