光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质技术方案

一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，光学邻近修正方法包括：提供设计图形；沿设计图形的轮廓，获取具有台阶的边作为折线边，折线边由多个沿折线边的延伸方向延伸的第一线段、以及连接相邻第一线段的第二线段交替构成；对设计图形的折线边进行台阶消除处理，将折线边替换为与第一线段的延伸方向相同的直线型参考边，并围成与设计图形相对应的参考图形；在参考边上设立多个初始评价点；将多个初始评价点沿垂直于参考边的方向映射至折线边上，形成位于折线边上的评价点；对设计图形进行光学邻近修正处理，直至评价点处的边缘放置误差满足预设条件，形成修正后图形。本发明专利技术提高光学邻近修正的精准度。本发明专利技术提高光学邻近修正的精准度。本发明专利技术提高光学邻近修正的精准度。

【技术实现步骤摘要】
光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质


[0001]本专利技术实施例涉及半导体制造领域，尤其涉及一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质。

技术介绍

[0002]随着工艺越来越先进，器件的尺寸日益缩小，相应形成器件的掩膜版中图形的线宽和间距也越来越小，图形的种类和形状也愈发复杂，在经过光刻制程之后，芯片表面的图形与原始光罩图形之间的差异也随之增大。为了避免光学邻近效应造成芯片上的图形与掩膜版图形不一致，目前解决的方法通常是对掩膜版图形进行光学邻近修正(optical proximity correction，OPC)，然后再依据修正过的掩膜版图形进行图形转移。
[0003]在一些掩膜版中可能会出现存在含有台阶的图形，例如SRAM的插塞图层中的互连插塞图形。图形出现台阶的边在评价点(merit points)或采样点(site)的放置上很难处理，通常还需要做很多特殊处理，特殊处理不到位还容易导致对图形的光学邻近修正难以控制，也导致了图形的修正不合理，与理想线宽差距较大，造成良率下降。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例解决的问题是提供一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，提高光学邻近修正的效果。
[0005]为解决上述问题，本专利技术实施例提供一种光学邻近修正方法，包括：提供设计图形；沿所述设计图形的轮廓，获取具有台阶的边作为折线边，所述折线边由多个沿所述折线边的延伸方向延伸的第一线段、以及连接相邻所述第一线段的第二线段交替构成；对所述设计图形的折线边进行台阶消除处理，将所述折线边替换为与所述第一线段的延伸方向相同的直线型参考边，并围成与所述设计图形相对应的参考图形；在所述参考边上设立多个初始评价点；将多个所述初始评价点沿垂直于参考边的方向映射至所述折线边上，形成位于所述折线边上的评价点；对所述设计图形进行光学邻近修正处理，直至所述评价点处的边缘放置误差满足预设条件，形成修正后图形。
[0006]相应的，本专利技术实施例还提供一种光学邻近修正系统，包括：图形提供模块，用于提供设计图形；折线边获取模块，用于沿所述设计图形的轮廓，获取具有台阶的边作为折线边，所述折线边由多个沿所述折线边的延伸方向延伸的第一线段、以及连接相邻所述第一线段的第二线段交替构成；参考边形成模块，用于对所述设计图形的折线边进行台阶消除处理，将所述折线边替换为与所述第一线段的延伸方向相同的直线型参考边，并围成与所述设计图形相对应的参考图形；初始评价点生成模块，用于在所述参考边上设立多个初始评价点；评价点生成模块，用于将多个所述初始评价点沿垂直于参考边的方向映射至所述折线边上，形成位于所述折线边上的评价点；光学邻近修正模块，用于对所述目标图形进行光学邻近修正处理，直至所述评价点处的边缘放置误差满足预设条件，形成修正后图形。
[0007]相应的，本专利技术实施例还提供一种掩膜版，包括利用本专利技术实施例提供的光学邻
近修正方法获得的图形。
[0008]相应的，本专利技术实施例还提供一种设备，包括至少一个存储器和至少一个处理器，所述存储器存储有一条或多条计算机指令，其中，所述一条或多条计算机指令被所述处理器执行以实现本专利技术实施例提供的光学邻近修正方法。
[0009]相应的，本专利技术实施例还提供一种存储介质，所述存储介质存储有一条或多条计算机指令，所述一条或多条计算机指令用于实现本专利技术实施例提供的光学邻近修正方法。
[0010]与现有技术相比，本专利技术实施例的技术方案具有以下优点：
[0011]本专利技术实施例提供的光学邻近修正方法中，对所述设计图形的折线边进行台阶消除处理，将折线边替换为与所述第一线段的延伸方向相同的直线型参考边，并围成与所述设计图形相对应的参考图形；本专利技术实施例中，形成与设计图形的折线边相对应的直线型参考边，则在设立初始评价点时，以直线型的参考边为基准，所述初始评价点为针对参考边整体较为均匀的设立，相应的，映射至折线边上的评价点也为针对折线边整体较为均匀的设立，相比于直接在折线边上设立评价点的方案，本专利技术实施例有利于避免修正模型因识别了折线边的台阶位置，而将第一线段误认为不同的边，并分别针对每个第一线段设立评价点的问题，从而有利于避免评价点设立不均匀、且在台阶位置附近容易缺失评价点的问题，同时，本专利技术实施例还节约了为了防止评价点设立不均匀、以及在台阶位置附近缺失评价点的问题，而在台阶位置附近进行特殊处理的时间，提高了光学邻近修正处理的效率，而且，针对折线边整体较为均匀的设立评价点，有利于通过控制评价点处的边缘放置误差，使得所述折线边的修正更为精准，从而提高所述光学邻近修正的精准度。
附图说明
[0012]图1是一种光学邻近修正方法的流程图；
[0013]图2至图3是一种光学邻近修正方法对应的示意图；
[0014]图4是本专利技术光学邻近修正方法一实施例的流程图；
[0015]图5至图10是本专利技术光学邻近修正方法一实施例中各步骤对应的示意图；
[0016]图11是本专利技术光学邻近修正系统一实施例的功能框图；
[0017]图12是本专利技术提供的设备一实施例的硬件结构图。
具体实施方式
[0018]目前光学邻近修正的效果有待提高。现结合一种光学邻近修正方法分析光学邻近修正的效果有待提高的原因。
[0019]图1是一种光学邻近修正方法的流程图。结合参考图2至图3，示出了所述光学邻近修正方法对应的示意图，所述光学邻近修正方法包括：
[0020]参考图2，执行步骤s1：提供设计图形10，设计图形10包括具有台阶(如图2中虚线圈所示)的折线边10j。
[0021]结合参考图2和图3，执行步骤s2：在设计图形10的边上设立评价点P。
[0022]继续参考图2和图3，执行步骤s3：对设计图形10进行光学邻近修正处理，直至评价点P处的边缘放置误差(edge placement error，EPE)满足预设条件，形成修正后图形。
[0023]由于设计图形10包括具有台阶的折线边10j，在设立评价点P时，修正模型因识别
了折线边10j的台阶位置，而将折线边10j从台阶处打断，误将折线边10j分为不同的边，并分别针对打断后的每个部分折线边10j设立评价点P，如图2所示，从而容易造成评价点P设立不均匀、且在台阶位置处附近容易缺失评价点P的问题。
[0024]尤其，在光学邻近修正过程中，通常还会形成设计图形10对应的理想模拟图形20，用于作为测量评价点P处的边缘放置误差的基准，此时评价点P通常设立在一个边的中部位置附近，从而折线边10j被打断后，分别针对打断后的每个部分折线边10j设立评价点P，更容易造成评价点P设立不均匀、且在台阶位置处附近容易缺失评价点P的问题。
[0025]参考图3，为了在折线边10j处设立合适的评价点P，将折线边10j选出进行特殊处理，需要针对每个设计图形10做相对应的评价点P特殊设定，例如，设定评价点P设立在距离台阶为，被打断的部分折线边总长的10％、30％和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：提供设计图形；沿所述设计图形的轮廓，获取具有台阶的边作为折线边，所述折线边由多个沿所述折线边的延伸方向延伸的第一线段、以及连接相邻所述第一线段的第二线段交替构成；对所述设计图形的折线边进行台阶消除处理，将所述折线边替换为与所述第一线段的延伸方向相同的直线型参考边，并围成与所述设计图形相对应的参考图形；在所述参考边上设立多个初始评价点；将多个所述初始评价点沿垂直于参考边的方向映射至所述折线边上，形成位于所述折线边上的评价点；对所述设计图形进行光学邻近修正处理，直至所述评价点处的边缘放置误差满足预设条件，形成修正后图形。2.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，对所述设计图形的折线边进行台阶消除处理的步骤包括：在所述折线边中，选择任一个所述第一线段作为定位线段；将所述折线边中的其余第一线段，均沿垂直于所述第一线段的方向平移至与所述定位线段齐平的位置，平移后的所述第一线段与所述定位线段连接构成所述直线型参考边。3.如权利要求2所述的光学邻近修正方法，其特征在于，在所述折线边中，选择任一个所述第一线段作为定位线段的步骤中，选择位于所述设计图形最外侧的第一线段作为所述定位线段。4.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，在所述参考边上设立多个初始评价点的步骤中，相邻所述初始评价点的间距均相等。5.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，沿所述设计图形的轮廓，获取具有台阶的边作为折线边的步骤中，所述第二线段的长度与所述第一线段的长度的比值小于或等于1:3。6.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，对所述设计图形进行光学邻近修正处理之前，还包括：对所述设计图形的边进行分割处理，获得依次相连的多个第三线段；对所述设计图形进行光学邻近修正处理的步骤包括：调整所述评价点所在的第三线段的位置。7.如权利要求6所述的光学邻近修正方法，其特征在于，在所述参考边上设立多个初始评价点之前，还包括：对所述设计图形进行基于经验的设置，获得理想模拟图形；对所述设计图形进行光学邻近修正处理的步骤包括：进行一次或多次修正操作，直至所述评价点位置处的边缘放置误差满足预设条件，所述修正操作包括：对所述设计图形进行模拟曝光，获得模拟图形；计算在所述评价点的位置处，所述模拟图形与理想模拟图形的边缘放置误差；根据所述边缘放置误差，调整所述评价点所在的第三线段的位置；其中，当所述评价点所在的边缘放置误差满足预设条件时，以调整所述第三线段的位置后的设计图形作为修正后图形。8.如权利要求7所述的光学邻近修正方法，其特征在于，对所述设计图形进行基于经验的设置，获得所述理想模拟图形的步骤包括：对所述设计图形的相邻边的拐角进行圆角处
理，其中，所述折线边两端用于进行圆角处理的长度分别为第一长度和第二长度；在所述参考边上...

【专利技术属性】
技术研发人员：游林，张婉娟，严中稳，李文浩，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造北京有限公司，
类型：发明
国别省市：