清洗系统技术方案

本实用新型专利技术提供一种清洗系统，其包括：输送基板的输送装置；配置在该输送装置的下方的清洗单元；控制输送装置、清洗单元的控制装置。输送装置包括沿着输送方向隔开规定间隔地配置有多排的辊。清洗单元包括：在上端具有矩形的开口部的壳体；配置在该壳体的内部的振动板；和振动子，对该振动板赋予超声波振动而对壳体内的清洗液赋予振动。以使壳体的开口部的长度方向沿着输送方向的朝向将辊的下部容纳在壳体的上部而能够清洗该辊。另外，通过增加清洗单元，将壳体的开口部的长度方向朝向基板的宽度方向配置，也能够清洗该基板的背面。也能够清洗该基板的背面。也能够清洗该基板的背面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】清洗系统


[0001]本技术涉及使用超声波的清洗系统和清洗方法，特别涉及在输送玻璃等基板时，防止输送装置的污垢附着在基板上，并且根据需要能够清洗基板的清洗系统和清洗方法。

技术介绍

[0002]构成平板显示器的玻璃基板在以水平姿态输送该基板时使用超声波清洗装置进行清洗。
[0003]在专利文献1中，公开了一边以水平姿态或倾斜姿态输送玻璃基板，一边清洗基板的下表面和上表面的清洗方法。实施该清洗方法的清洗装置包括：振荡容器，其在上端具有开口部，并且设置成能够向内部供给清洗液；振动子，其通过配置在该振荡容器的底部的振动板对清洗液传递超声波振动；输送装置，其在振荡容器的上方输送基板；和喷嘴，向基板的上表面喷射清洗液。
[0004]专利技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开平10
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296200号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的技术课题
[0008]专利文献1记载的清洗方法与使用输送装置输送基板的动作同步地对供给到所述振荡容器内的清洗液传递超声波振动，将振荡容器的开口部的液面部分地推起而使其与基板接触，由此一边向基板传递超声波振动一边清洗下表面侧。另外，通过对基板的上表面喷出清洗液，也能够同时进行上表面侧的清洗。
[0009]但是，例如，在输送装置作为用于输送已清洗的基板的装置使用时，在由于某种原因而在先前被输送的基板的下表面附着有微小的尘埃、灰尘、碎屑、异物等粒子(微粒)时，可能产生微粒从该基板转而附着在辊上的情况。在该情况下，会导致附着在辊的外周面的微粒再次移附在下一个被输送的基板的下表面上而污损该基板的不良情况发生。
[0010]这样的基板、辊间的微粒的转移附着对于位于输送装置的最上游侧的辊特别明显。
[0011]另外，专利文献1记载的清洗装置不将辊作为清洗对象，而将基板作为清洗对象，是使用具有基板的宽度尺寸以上的上端开口长度的大型振荡容器的结构。
[0012]因此，在专利文献1记载的清洗装置中，除了存在使系统大型化的不良情况之外，还难以灵活地应对基板的尺寸变更，缺乏通用性。
[0013]本技术是着眼于这样的不良情况而提出的，其目的在于提供一种能够利用清洗单元清洗输送装置的辊，能够防止微粒从该辊转移附着到基板上的清洗系统和清洗方法。
[0014]本技术的另一目的在于提供一种能够添加所述清洗单元，此时仅通过变更清洗单元的朝向就能够清洗基板的下表面的清洗系统和清洗方法。
[0015]本技术的又一目的在于提供一种能够实现清洗单元的小型化的清洗系统和清洗方法。
[0016]另外，本技术的另一目的在于提供一种清洗系统和清洗方法，其具有通用性，根据清洗部位或区域使用所需数量的清洗单元，能够应对输送装置中辊的不同布局、基板尺寸等的变化。
[0017]用于解决技术课题的方案
[0018]为了实现所述目的，本技术采用如下结构：一种清洗系统，其包括：
[0019]输送装置，其支承基板的下表面侧而在规定的输送方向上输送所述基板；
[0020]清洗单元，其配置在所述输送装置的下方而进行超声波清洗；和
[0021]控制装置，其以规定的时刻控制所述清洗单元，
[0022]所述清洗系统中，
[0023]所述输送装置包括在横穿所述输送方向的方向上与所述基板的宽度方向两侧相对的辊，
[0024]所述清洗单元包括：壳体，其在上端具有开口部，并且设置成能够向内部供给清洗液；和振动子，其通过配置在所述壳体内的振动板对所述清洗液施加超声波振动，
[0025]在将所述开口部的长度方向配置成沿着所述输送方向的朝向的状态下，在所述开口部内容纳所述辊的下部而能够清洗所述辊。
[0026]在本技术中，优选采用如下结构：所述辊沿着所述输送方向隔开规定间隔地配置有多排，
[0027]所述清洗单元配置在对所述输送方向的最上游侧的辊进行清洗的位置。
[0028]可以采用如下结构：所述壳体在形成所述壳体的周壁部分具有将所述清洗液向外部排出的孔。
[0029]另外，本技术还采用如下结构：还具有将所述开口部的长度方向配置成沿着基板的宽度方向的朝向而清洗所述基板的下表面侧的洗清单元。
[0030]此时，优选采用如下结构：清洗单元设置成所述壳体能够相对于基板的面进行角度移位，设置成超声波相对于所述基板的入射角度能够变更。在变更入射角度时，可以设置成使所述开口部的开口边缘与基板的下表面保持平行。
[0031]另外，本技术采用如下方法：一种清洗方法，其使用包括支承基板的下表面侧的辊的输送装置，在沿规定的输送方向输送所述基板的期间进行规定的清洗，所述清洗方法包括下述步骤：
[0032]使用具有在上端具有开口部的壳体的清洗单元，使所述开口部的长度方向沿着所述输送方向的朝向，将所述辊的下部分容纳在所述开口部内而对所述辊进行超声波清洗。
[0033]在所述清洗方法中，采用如下方法：所述辊分别配置在与基板的宽度方向的两侧相对的位置，
[0034]在与两侧的辊对应的位置配置所述清洗单元，而清洗各个辊。
[0035]另外，在所述清洗方法中，优选采用如下方法：所述辊沿着所述输送方向隔开规定间隔地配置有多排，
[0036]所述清洗单元至少清洗最上游侧的辊。
[0037]进而，还能够采用如下方法：还包括下述步骤：通过添加将所述开口部的长度方向的朝向配置成沿着基板的宽度方向的朝向的清洗单元，清洗所述基板的下表面。
[0038]此时，优选使壳体成为相对于与基板的面正交的面倾斜的姿态，使超声波相对于所述基板的入射角度变化。
[0039]专利技术效果
[0040]本技术提供一种以壳体的开口部长度方向沿着基板的输送方向的方式配置清洗单元，在该状态下将辊的下部容纳在开口部内进行清洗的结构，因此即使从被输送的基板向辊转移附着微粒，也能够防止该微粒移附在下一个被输送的基板上，从而能够有效地避免该基板的污损。特别是，由于这种移附大多发生在位于输送方向的上游侧的辊上，因此通过采用清洗最上游侧的辊的结构，能够减少使用的清洗单元的数量，实现清洗系统的简化。
[0041]另外，根据在壳体的周壁部分设置孔的结构，即使微粒沉降在壳体内，也能够通过所述的孔向外部释放，不会产生微粒残留在壳体的底部的不良情况。这种效果在微粒与清洗液的比重相比较重的情况下变得显著。
[0042]进而，在添加清洗单元，并且变更其开口部的朝向而配置在基板的下表面侧的情况下，也能够应对需要清洗基板的下表面的情况。另外，通过调整清洗单元的使用数量，也能够应对宽度尺寸不同的基板，能够提高本技术的清洗系统的通用性。
[0043]另外，在清洗基板下表面时，在能够改变超声波相对于基板的面的入射角度的情况下，即使超声波振动波被基板反射，也能够避免反射的振动波集中返回到超声波振动子，防止该振动本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种清洗系统，其包括：输送装置，其支承基板的下表面侧而在规定的输送方向上输送所述基板；清洗单元，其配置在所述输送装置的下方而进行超声波清洗；和控制装置，其以规定的时刻控制所述清洗单元，所述清洗系统的特征在于：所述输送装置包括在横穿所述输送方向的方向上与所述基板的宽度方向两侧相对的辊，所述清洗单元包括：壳体，其在上端具有开口部，并且设置成能够向内部供给清洗液；和振动子，其通过配置在所述壳体内的振动板对所述清洗液施加超声波振动，在将所述开口部的长度方向配置成沿着所述输送方向的朝向的状态下，在所述开口部内容纳所述辊的下部而能够清洗所述辊。2.如权利要求1所述的清洗系统，其特征在于：所述辊沿着所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：大畑桂辅，新井和明，
申请(专利权)人：株式会社海上，
类型：新型
国别省市：