多个辐射源的等离子体产生和处理制造技术

本发明专利技术提供了使用多个辐射源的等离子体辅助方法和装置。在一个实 施例中，在惰性或活性等离子体催化剂存在的情况下，通过使处理腔中的 气体受到频率低于约333GHz的电磁辐射来激发等离子体。使用控制器来 延迟一个辐射源相对于另一个辐射源的激活。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及等离子体辅助处理的方法和装置，尤其涉及结合使用多个电磁辐射源。
技术介绍
已知通过使气体受到足量的微波辐射，单个微波辐射源可以用来产生等离子体。但是，当一个源把微波能引入会向同一个源反射能量的等离子体腔时，单个微波能量源就被损坏。当腔中没有很强的微波吸收器时，例如当等离子体还没有形成时，这个问题尤其难以解决。并且，当多个微波能量源组合在一起以激发或维持等离子体时更易受到破坏。例如，当第一辐射源把微波能引入腔时由于辐射能可以被引入另一个同时相连的辐射源，第一辐射源可能被损坏。还知道，在气体压力基本上低于大气压时等离子体一般更容易激发。但是，用于降低气体压力的真空装置价格昂贵且效率低下、浪费能源。并且，使用这样的装置会限制制造的灵活性。
技术实现思路
根据本专利技术，提供了使用多个辐射源(例如微波辐射源)的装置和方法。在大约一个大气压或更高的压力下的气体产生的等离子体会强烈吸收微波辐射。强吸收可以用来降低被反射回来的自身辐射或来自其它辐射源的辐射对特定源损坏的可能性。因此，采用耦合到同一等离子体的多个(例如低能量)辐射源可以实现高能等离子体辅助处理。在一个实施例中，辐射装置本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种辐射装置，包括：辐射腔；第一辐射源，用于将频率低于大约３３３ＧＨｚ的电磁辐射引入所述辐射腔，以促进所述辐射腔内的等离子体形成；第二辐射源，用于将频率低于大约３３３ＧＨｚ的电磁辐射引入所述辐射腔；以及控制器，用于在激活所述第一辐射源之后顺序激活所述第二辐射源。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：S·库马尔，D·库马尔，
申请(专利权)人：BTU国际公司，
类型：发明
国别省市：US