具备复合天线线圈组的等离子体反应装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种具备复合天线线圈组的等离子体反应装置。这种等离子体反应装置包括：反应室，其上部设置有圆柱状介电窗，且通过等离子体反应来处理晶片；复合天线线圈组，其设置于所述介电窗的外部及上部，用于产生射频磁场（ＲＦ　　ｍａｇｎｅｔｉｃ　　ｆｉｅｌｄ），且通过所述介电窗向所述反应室内施加射频磁场，藉以诱导射频电场（ＲＦ　　ｅｌｅｃｔｒｉｃｆｉｅｌｄ）；射频电源供给单元，其用于向所述反应室下部（放置晶片的支架）及复合天线线圈组供给射频电源（Ｒａｄｉｏ　　Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ），以使反应室下部（Ｗａｆｅｒ　　ａｎｄ　　Ｐｅｄｅｓｔａｌ）保持负电位带电状态，并使所述复合天线线圈组产生时变的磁场。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种等离子体反应装置，尤其涉及一种应用圓柱状介 电窗及复合天线线圈组，来提高等离子体的离子密度和离子均匀度， 并适当控制离子能量，藉以提高半导体元件制造工艺的效率及产品质 量的等离子体反应装置。
技术介绍
等离子体是固体、液体、气体以外的第四态物质， 一般指气体中 的部分原子被电离的气体。这种等离子体虽然呈电中性，然而因存在 于其内部的正、负带电粒子而具有导电性，而且其对电场反应每文感。因此，通过适当地控制施加于等离子体的电磁场，可以人为地控制等 离子体，因而可应用于半导体元件、平板显示器或其他集成电路的制 造工艺。即，在镀膜和电路图案蚀刻工艺中，将射频等高频电源施加于反 应室的两个电极上，并向反应室内部注入反应气体，藉以产生辉光放 电，从而可对基板、晶片等表面进行蚀刻或镀膜。近年来开发了多种利用等离子体来进行基板处理工艺的反应装置。根据天线及介电窗的形状，这种等离子体反应装置可分为螺线管式(solenoid type )、 平面式(planar type )和圆丁贞式(dome type )。现有的螺线管式等离子体反应装置，是一种将螺线管线圈配置在 介电窗周围，从而本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子体反应装置，其特征在于包括：　　　　反应室，其上部设有圆柱状介电窗，且通过等离子体反应来处理晶片；　　　　复合天线线圈组，其设置于所述介电窗的下部及上部，用于产生射频磁场，并通过所述介电窗对所述反应室内施加射频磁场，藉以产生射频电场；以及　　　　射频电源供给单元，其使所述复合天线线圈组产生时变的磁场。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：李元默，
申请(专利权)人：显示器生产服务株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]