成膜装置、成膜方法及蒸发源单元制造方法及图纸

本发明专利技术提供抑制成膜装置的大型化的成膜装置、成膜方法及蒸发源单元。成膜装置具备对在移动方向上相对地移动的基板进行成膜的成膜单元。成膜单元包括：多个蒸发源，分别具有加热部件和独立的材料容器，并放出蒸镀物质；以及多个监视部件，分别监视来自多个蒸发源的蒸镀物质的放出状态。多个蒸发源包括在与移动方向交叉的第一方向上排列的第一蒸发源及第二蒸发源。多个监视部件包括在与第一方向交叉的第二方向上排列的第一监视部件及第二监视部件。第一监视部件监视来自第一蒸发源的蒸镀物质的放出状态，第二监视部件监视来自第二蒸发源的蒸镀物质的放出状态。源的蒸镀物质的放出状态。源的蒸镀物质的放出状态。

【技术实现步骤摘要】
成膜装置、成膜方法及蒸发源单元


[0001]本专利技术涉及成膜装置、成膜方法及蒸发源单元。

技术介绍

[0002]在有机EL显示器等的制造中，通过从蒸发源放出的蒸镀物质附着在基板上，在基板上形成薄膜。在专利文献1中公开了使用多个蒸发源进行成膜的技术。
[0003]在先技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2019
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218623号公报

技术实现思路

[0006]本专利技术要解决的课题
[0007]在使用多个蒸发源进行成膜的情况下，有时对多个蒸发源分别设置监视蒸镀物质的放出状态的成膜速率监视器等监视装置。这有时导致成膜装置的大型化。
[0008]本专利技术提供一种抑制成膜装置的大型化的技术。
[0009]用于解决课题的方案
[0010]根据本专利技术的一技术方案，提供一种成膜装置，具备对在移动方向上相对地移动的基板进行成膜的成膜单元，其特征在于，
[0011]所述成膜单元包括：
[0012]多个蒸发源，分别具有加热部件和独立的材料容器，并放出蒸镀物质；以及
[0013]多个监视部件，分别监视来自所述多个蒸发源的蒸镀物质的放出状态，
[0014]所述多个蒸发源包括在与所述移动方向交叉的第一方向上排列的第一蒸发源及第二蒸发源，
[0015]所述多个监视部件包括在与所述第一方向交叉的第二方向上排列的第一监视部件及第二监视部件，
[0016]所述第一监视部件监视来自所述第一蒸发源的蒸镀物质的放出状态，
[0017]所述第二监视部件监视来自所述第二蒸发源的蒸镀物质的放出状态。
[0018]另外，根据本专利技术的另一技术方案，提供一种成膜方法，其特征在于，
[0019]该成膜方法具备使用上述成膜装置在基板上成膜的工序。
[0020]另外，根据本专利技术的另一技术方案，提供一种蒸发源单元，用于对在移动方向上相对地移动的基板成膜，其特征在于，
[0021]该蒸发源单元具备：
[0022]多个蒸发源，分别具有加热部件和独立的材料容器，并放出蒸镀物质；以及
[0023]多个监视部件，分别监视来自所述多个蒸发源的蒸镀物质的放出状态，
[0024]所述多个蒸发源包括在与所述移动方向交叉的第一方向上排列的第一蒸发源及第二蒸发源，
[0025]所述多个监视部件包括在与所述第一方向交叉的第二方向上排列的第一监视部件及第二监视部件，
[0026]所述第一监视部件监视来自所述第一蒸发源的蒸镀物质的放出状态，
[0027]所述第二监视部件监视来自所述第二蒸发源的蒸镀物质的放出状态。
[0028]专利技术的效果
[0029]根据本专利技术，能够抑制成膜装置的大型化。
附图说明
[0030]图1是示意性地表示一实施方式的成膜装置的结构的俯视图。
[0031]图2是示意性地表示图1的成膜装置的结构的主视图。
[0032]图3是示意性地表示成膜单元的结构的立体图。
[0033]图4是示意性地表示蒸发源的结构的剖视图。
[0034]图5是说明蒸发源和监视装置的配置的图。
[0035]图6是示意性地表示一实施方式的成膜单元的结构的俯视图。
[0036]图7(A)和(B)是图6的I
‑
I线剖视图，是说明基于成膜单元的成膜动作的图。
[0037]图8是说明基板的移动方向的膜厚分布的图。
[0038]图9是成膜装置的动作说明图。
[0039]图10是成膜装置的动作说明图。
[0040]图11(A)是有机EL显示装置的整体图，(B)是表示一个像素的截面构造的图。
[0041]附图标记的说明
[0042]1：成膜装置、10：成膜单元、12：蒸发源、14：监视装置、20：移动单元、30：支承单元、100：基板、101：掩模。
具体实施方式
[0043]以下，参照附图详细说明实施方式。另外，以下的实施方式并不限定权利要求书所涉及的专利技术。虽然在实施方式中记载了多个特征，但这些多个特征并不全部限定于专利技术所必需的特征，另外，也可以任意地组合多个特征。并且，在附图中，对相同或相应的结构标注相同的附图标记，省略重复的说明。
[0044][第一实施方式][0045][成膜装置的概要][0046]图1是示意性地表示一实施方式所涉及的成膜装置1的结构的俯视图。图2是示意性地表示图1的成膜装置1的结构的主视图。另外，在各图中，箭头X及Y表示相互正交的水平方向，箭头Z表示垂直方向(铅垂方向)。
[0047]成膜装置1是一边使蒸发源相对于基板移动一边进行蒸镀的成膜装置。成膜装置1例如用于制造智能手机用的有机EL显示装置的显示面板，并排配置多台而构成其生产线。作为在成膜装置1中进行蒸镀的基板的材质，能够适当选择玻璃、树脂、金属等，优选使用在玻璃上形成有聚酰亚胺等的树脂层的材质。作为蒸镀物质，可使用有机材料、无机材料(金属、金属氧化物等)等。成膜装置1能够应用于制造例如显示装置(平板显示器等)、薄膜太阳能电池、有机光电转换元件(有机薄膜摄像元件)等电子设备、光学构件等的制造装置，特别
是能够应用于制造有机EL面板的制造装置。另外，在本实施方式中，成膜装置1对G8H尺寸的玻璃基板(1100mm
×
2500mm、1250mm
×
2200mm)进行成膜，但成膜装置1进行成膜的基板的尺寸能够适当设定。
[0048]成膜装置1具备成膜单元10(蒸发源单元)、移动单元20、多个支承单元30A及30B(以下，在统称它们的情况下表示为支承单元30，对于它们的构成要素等也同样)。成膜单元10、移动单元20以及支承单元30配置于在使用时维持为真空的腔室45的内部。在本实施方式中，多个支承单元30A及30B在Y方向上分离设置在腔室45内的上部，在其下方设置有成膜单元10及移动单元20。另外，在腔室45中设置有用于进行基板100的搬入、搬出的多个基板搬入口44A及44B。另外，在本实施方式中，“真空”是指被压力比大气压低的气体充满的状态，换言之是指减压状态。
[0049]另外，成膜装置1包括向成膜单元10供给电力的电源41、和将成膜单元10及电源41电连接的电连接部42。电连接部42构成为电配线在水平方向上穿过可动的臂的内部，如后所述，能够使来自电源41的电力对在XY方向上移动的成膜单元10供给。
[0050]另外，成膜装置1包括控制各构成要素的动作的控制部43。例如，控制部43能够包括以CPU为代表的处理器、RAM、ROM等存储器以及各种接口而构成。例如，控制部43通过将存储于ROM的程序读出到RAM并执行，来实现成膜装置1的各种处理。
[0051][支承单元][0052]支承单元30支承基板100和掩模101，并且进行它们的位置调整。支承单元30包括基板支承部32、位置调整部34和掩模支承部本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种成膜装置，具备对在移动方向上相对地移动的基板进行成膜的成膜单元，其特征在于，所述成膜单元包括：多个蒸发源，分别具有加热部件和独立的材料容器，并放出蒸镀物质；以及多个监视部件，分别监视来自所述多个蒸发源的蒸镀物质的放出状态，所述多个蒸发源包括在与所述移动方向交叉的第一方向上排列的第一蒸发源及第二蒸发源，所述多个监视部件包括在与所述第一方向交叉的第二方向上排列的第一监视部件及第二监视部件，所述第一监视部件监视来自所述第一蒸发源的蒸镀物质的放出状态，所述第二监视部件监视来自所述第二蒸发源的蒸镀物质的放出状态。2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述第二方向是所述移动方向。3.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，所述成膜单元包括抑制蒸镀物质从所述第二蒸发源向所述第一监视部件的飞散的抑制板。4.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，在所述第一方向上，从所述第二蒸发源到所述第一监视部件的距离比从所述第一蒸发源到所述第一监视部件的距离长，在所述第一方向上，从所述第二蒸发源到所述第二监视部件的距离比从所述第一蒸发源到所述第二监视部件的距离长，所述抑制板在所述第一方向上配置在所述第一蒸发源与所述第二蒸发源之间，在所述抑制板上形成有容许蒸镀物质从所述第二蒸发源向所述第二监视部件飞散的容许部。5.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，在所述第一方向上，从所述第二蒸发源到所述第一监视部件的距离比从所述第一蒸发源到所述第一监视部件的距离长，在所述第一方向上，从所述第二蒸发源到所述第二监视部件的距离比从所述第一蒸发源到所述第二监视部件的距离长，所述抑制板在所述第一方向上配置在所述第一蒸发源与所述第二蒸发源之间，在所述抑制板上，在包括连结所述第二蒸发源的蒸镀物质的放出部和所述第二监视部件的蒸镀物质的附着部的假想直线通过的位置在内的区域形成有开口。6.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，在所述抑制板的所述开口的周围设置有包围所述假想直线的筒形状部。7.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，所述多个蒸发源包括放出蒸镀物质的第三蒸发源，所述第二蒸发源在所述第一方向上配置在所述第一蒸发源与所述第三蒸发源之间，所述第二蒸发源的成膜速率比所述第一蒸发源及所述第三蒸发源的成膜速率小。8.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，
所述多个蒸发源包括放出蒸镀物质的第三蒸发源，所述多个监视部件包括监视来自所述第三蒸发源的蒸镀物质的放出状态的第三监视部件，所述第二蒸发源在所述第一方向上配置在所述第一蒸发源与所述第三蒸发源之间，所述第一监视部件及所述第二监视部件在所述第一方向上配置在设置有所述第一蒸发源的所在侧且比所述第一蒸发源靠外侧的位置...

【专利技术属性】
技术研发人员：风间良秋，山田美悠，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：