【技术实现步骤摘要】
一种10T
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SRAM单元及其数据读写方法、电路结构
[0001]本申请是申请号为CN202210638677.2,申请日为2020/06/08,且专利技术名称为一种基于10T
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SRAM单元的电路结构、芯片及模块的分案申请。
[0002]本专利技术涉及静态随机存储器
,特别是涉及一种10T
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SRAM单元及其数据读写方法、电路结构。
技术介绍
[0003]作为突破冯诺依曼架构的有效策略之一,存内计算(computing in memory,缩写为CIM)引起了广泛关注,存内计算将存储器与运算模块合二为一,大幅减少了数据的搬移,进而节省了这部分的时间和能耗开销。
[0004]内容可寻址存储器(binary content addressable memory,缩写为BCAM)作为存内计算的特殊应用,它通过数据输入与存储数据逐位比较,实现了在存储器内部完成比较操作,提高了搜索效率的同时降低了功耗。现有的BCAM研究主要拘泥于单向数据搜索,有的是数据纵向输入,与阵列存储字逐行比较,结构复杂固化,模块复用性差,功能单一;有的是数据横向输入,与阵列存储字逐列比较,与SRAM数据按行写入方式相悖,不易写入待比较数据。根据公开号为CN102024819A公开的SRAM位单元装置与CAM位单元装置,其具有较低待机漏电流Isb、改善的Vcc,min用以降低待机耗电、与改善的存取速度等优点。但是该装置的10T
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SRAM单元中行列逻辑操作无法 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种10T
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SRAM单元,其包括:NMOS晶体管N0~N7,PMOS晶体管P0~P1;其中,NMOS晶体管N0,N0的源极电连接电压源VSS;NMOS晶体管N1,N1的栅极与N0的漏极电连接,N1的源极与N0的源极电连接,N1的漏极与N0的栅极电连接;PMOS晶体管P0,P0的漏极与N0的漏极电连接,P0的栅极与N0的栅极电连接,P0的源极电连接电压源VDD;PMOS晶体管P1,P1的漏极与N1的漏极电连接,P1的栅极与P0的漏极电连接,P1的源极与P0的源极电连接;其特征在于,NMOS晶体管N2,N2的漏极与N0的漏极电连接,N2的栅极电连接字线WLL,N2的源极电连接位线BLB;NMOS晶体管N3,N3的漏极与N0的栅极电连接,N3的栅极电连接字线WLR,N3的源极电连接位线BL;NMOS晶体管N4,N4的栅极与N0的漏极电连接,N4的源极电连接位线RBLB;NMOS晶体管N5,N5的栅极与N1的漏极电连接,N5的源极与位线RBL电连接;NMOS晶体管N6,N6的漏极与N4的漏极电连接,N6的栅极与字线RWLL电连接,N6的源极电连接电压源VSS;NMOS晶体管N7,N7的漏极与N5的漏极电连接,N7的源极与N6的源极电连接,N7的栅极与字线RWLR电连接;存储节点QB通过N2与字线WLL、位线BLB相连;存储节点Q通过N3与字线WLR、位线BL相连;P0和N0构成一个反相器,P1和N1构成另一个反相器,两个反相器形成交叉耦合结构;N2和N3作为传输管,各自位于交叉耦合结构左右两侧作为左右两个写通路;N4和N6构成左通路,N5和N7构成右通路。2.根据权利要求1所述的10T
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SRAM单元,其特征在于,所述10T
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SRAM单元数据写入时,通过BL和BLB进行写入,字线WLL和字线WLR置为高电平。3.根据权利要求1所述的10T
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SRAM单元,其特征在于,所述10T
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SRAM单元数据读取时,通过RBLB或RBL进行读出,字线RWLL或字线RWLR置为高电平。4.一种根据权利要求1所述的10T
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SRAM单元的数据读写方法,其特征在于,所述数据读写方法在数据写入时,通过BL和BLB进行写入,字线WLL和字线WLR置为高电平;所述数据读写方法在数据读取时,通过RBLB或RBL进行读出,字线RWLL或字线RWLR置为高电平。5.一种基于10T
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SRAM单元的存内布尔逻辑运算和双向BCAM的电路结构,其特征在于,其采用如权利要求1或2或3所述的10T
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SRAM单元,所述基于10T
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SRAM单元的存内布尔逻辑运算和双向BCAM的电路结构包括4
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4个10T
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SRAM单元;其中,位于同一行的10T
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SRAM单元,所有单元晶体管N2的栅极电连接字线WLL,所有单元晶体管N3的栅极电连接字线WLR,所有单元晶体管N4的源极电连接位线RBLB,所有单元晶体管N5的源极电连接位线RBL,每一行共享字线WLL、WLR以及位线RBL、RBLB;位于同一列的1...
【专利技术属性】
技术研发人员:戴成虎,杜园园,高珊,彭春雨,赵强,卢文娟,郝礼才,刘立,蔺智挺,吴秀龙,黎轩,郑好,
申请(专利权)人:安徽大学,
类型:发明
国别省市:
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