【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于集成电路
,涉及集成电路的静电防护。技术背景静电放电(Electrostatic Discharge, ESD)是造成集成电路失效 的一个主要原因。芯片在制造、生产、组装、测试、运输过程中,往 往由于种种外界原因,静电会积累在人体、仪器、芯片内部,人们在 无意中,使带电体与芯片管脚相互接触,形成了放电回路。如果芯片 内部没有有效的静电放电保护电路,放电瞬间产生的巨大电流会轻易 的将芯片永久性烧毁。所以在芯片设计过程中,设计者一般在芯片内 部都会设计专门ESD保护电路。ESD保护电路为静电放电瞬间产生的 巨大电流提供了专门的泄放通路,以避免电流流入芯片内部造成损 坏。表1.集成电路ESD防护规格<table>table see original document page 5</column></row><table>集成电路ESD防护规格如表1所示。随着CMOS工艺特征尺寸的 不断縮小和先进工艺的使用,例如更薄的栅氧层,更短的沟道长度, 更浅的源极和漏极深度,LDD结构和silicided结构,使得集成电路 中的晶体管对于高电压和大电流的承受能力不断降低,但是外界环境 产生的静电并未减少,CMOS集成电路对静电防护的规格也没有变化, 例如0, 18y m CMOS工艺下的晶体管栅氧层的厚度只有4nm左右,只能承受10V左右的静态电压。所以,在先进成熟的深亚微米COMS 工艺下,更需要芯片具有可靠的静电放电保护电路。传统的ESD防护设计中,静电防护器件一般是设计在I/O焊盘 (I/O ...
【技术保护点】
一种具有静电防护结构的集成电路,其特征在于,包括:输入端口静电放电保护单元(1),用于将输入端口引入的静电放电电流泄放到I/O电源轨线上;输出端口静电放电保护单元(2),用于将输出端口引入的静电放电电流泄放到I/O电源轨线上;输入/输出双向端口静电放电保护单元(3),用于将输出/输出双向端口带来的静电放电电流泄放到I/O电源轨线上;I/O电源静电放电保护单元(4),用于将I/O电源端口引入的静电放电电流以及被输入端口静电放电保护单元(1)、输出端口静电放电保护单元(2)、输入/输出双向端口静电放电保护单元(5)泄放到I/O电源轨线上的静电放电电流泄放到静电放电的接地端;内核电源静电放电保护单元(5),用于将内核电源端口引入的静电放电电流泄放到静电放电的接地端;内核逻辑单元(6),由输入端口静电放电保护单元(1)、输出端口静电放电保护单元(2)、输入/输出双向端口静电放电保护单元(3)、I/O电源静电放电保护单元(4)和内核电源静电放电保护单元(5)提供静电放电保护。
【技术特征摘要】
1. 一种具有静电防护结构的集成电路,其特征在于,包括输入端口静电放电保护单元(1),用于将输入端口引入的静电放电电流泄放到I/O电源轨线上;输出端口静电放电保护单元(2),用于将输出端口引入的静电放电电流泄放到I/O电源轨线上;输入/输出双向端口静电放电保护单元(3),用于将输出/输出双向端口带来的静电放电电流泄放到I/O电源轨线上;I/O电源静电放电保护单元(4),用于将I/O电源端口引入的静电放电电流以及被输入端口静电放电保护单元(1)、输出端口静电放电保护单元(2)、输入/输出双向端口静电放电保护单元(5)泄放到I/O电源轨线上的静电放电电流泄放到静电放电的接地端;内核电源静电放电保护单元(5),用于将内核电源端口引入的静电放电电流泄放到静电放电的接地端;内核逻辑单元(6),由输入端口静电放电保护单元(1)、输出端口静电放电保护单元(2)、输入/输出双向端口静电放电保护单元(3)、I/O电源静电放电保护单元(4)和内核电源静电放电保护单元(5)提供静电放电保护。2、 根据权利要求1所述的集成电路,其特征在于,输入端口静 电放电保护单元(1),包括-第一PMOS管(Pl)'的栅极和源极与电源端(VCC1)连接于节点(Jl);第一PMOS管(Pl)的漏极与第一限流电阻(Rl)的一端、第一 丽0S管(Nl)的漏极和输入端口 (INPAD1)连接于节点(J2);第一NM0S管(Nl)的栅极和漏极与接地端(VSS1)连接于节点 (J3》第一限流电阻(Rl)的另一端连接于输入信号端(DATA—IN1)。3、 根据权利要求l所述的集成电路,其特征在于,输出端口静 电放电保护单元(2),包括第二PM0S管(P2)的栅极和源极与电源端(VCC2)连接于节点(J4);第二PM0S管(P2)的漏极、第二丽0S管(N2)的漏极、输出端 口 (0UTPAD1)和输出信号端(DATA—0UT1)连接于节点(J5);第二歷0S管(N2)的栅极和漏极与接地端(VSS2)连接于节点 (J6)。4、 根据权利要求l所述的集成电路,其特征在于,输入/输出双 向端口静电放电保护单元(3),包括第三PM0S管(P3)的栅极和源极与第四PMOS管(P4)的栅极和 源极、...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨海钢,孙嘉斌,
申请(专利权)人:中国科学院电子学研究所,
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]
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