【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体制造
,尤其涉及一种防止晶圆破碎的 阻挡装置。
技术介绍
在TEL (Tokyo Electron Limited,东京电子有限公司)生产的ACT12 表面预处理组件中,3-顶针结构20作为第一运动部件1 ,保温盖21作 为第二运动部件2,两者组成一个预处理室,用于预处理晶圆22 (见图1、 2),所述保温盖21包括第二运动部件2和硬阻挡装置3,该硬阻挡装置3 安装在第二运动部件2并处于第一运动部件1和第二运动部件2之间。但 是,由于保温盖21上的硬阻挡装置3是由刚性材料(例如铁)制成,当 预处理室的3-顶针结构20和保温盖21的移动速度不一致时,两者就会 发生强烈碰撞,致使3-顶针结构20上的晶圆22产生震动和移位,此时 如果机械手从3-顶针结构20上取放晶圆22时就容易造成晶圆22破碎(见 图2),也有可能损坏机械手。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种防止晶圆破碎的阻挡装置, 能有效阻止预处理室的第一运动部件和第二运动部件的强烈碰撞,使晶圆 不再因移位而摔碎。为了解决上述技术问题,本技术防止晶圆破碎的阻挡装置,设于第二运动部件上,并处于第一运动部件和第二运动部件之间,所述阻挡装 置内设有气缸,该气缸的开口处设有活塞,且该活塞内侧的气缸中设有使 活塞恢复位置的弹簧,在该弹簧所占位置的气缸侧边还开设有出气小孔。本技术的阻挡装置,能有效避免预处理室的第一运动部件和第二 运动部件的强烈碰撞,从而克服了晶圆在预处理过程中易破碎的问题,使 晶圆摔碎的频率由每个月的2 4次降为零。附图说明图1是现有硬阻挡装置的结构示意图2是现有硬阻挡装 ...
【技术保护点】
一种防止晶圆破碎的阻挡装置,该装置设于第二运动部件上,并处于第一运动部件和第二运动部件之间,其特征在于,所述阻挡装置内设有气缸,该气缸的开口处设有活塞,且该活塞内侧的气缸中设有使活塞恢复位置的弹簧,在该弹簧所占位置的气缸侧边还开设有出气小孔。
【技术特征摘要】
1.一种防止晶圆破碎的阻挡装置,该装置设于第二运动部件上,并处于第一运动部件和第二运动部件之间,其特征在于,所述阻挡装置内...
【专利技术属性】
技术研发人员:查源卿,马成伟,
申请(专利权)人:中芯国际集成电路制造上海有限公司,
类型:实用新型
国别省市:31[中国|上海]
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