一种用于平面显示器的基片加工系统中的基片传输设备技术方案

本发明专利技术公开了一种用于平面显示设备的基片加工系统中的基片传输设备，它包括用于传送基片的多个传送轴，这些传送轴位于用于处理基片的工作区中；和位于传送轴下的用于防止传送轴下垂的下垂预防装置。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于平面显示器的基片加工系统中的基片传输设备，特别涉及一种可以通过在基片传输过程中防止用于传送基片的传送轴下垂，从而提高平面显示器成品率的基片传输设备。
技术介绍
一般来讲，作为平面显示器的一种，液晶显示器(LCD)就是通过基片加工系统制备的，该系统包括在具有预定工作空间的燃烧室、热处理池或扩散炉中进行的沉积工序、扩散工序、成型布线以及热处理工序等一系列工艺过程。为了提高生产效率，该基片加工系统中有很多基片传送装置，从而可以在加工基片的过程中传送基片。这些传送装置包括多个对玻璃基片起到支撑和传送作用的传送轴。近年来，随着大屏幕平面显示器的发展，能够传送用于这类大屏幕显示器的大尺寸玻璃基片的基片传送设备也得到了飞速的发展。这些传送轴沿着玻璃基片的纵向呈平行分布。当用于LCD的玻璃基片的尺寸达到1000mm×1200mm时，为了能够平稳地传送玻璃基片，每一个传送轴的长度大于上述玻璃基片的长度。在每个传送轴上等距安装有多个与玻璃基片直接接触的传送辊。传送轴与驱动轴相连，而驱动轴又与马达等驱动设备相接，因而，该传送轴可以从驱动轴获取旋转力。也就是说，当马达开动时，该传送本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于平面显示器的基片加工系统中的基片传送设备，包括：用于传送基片的多个传送轴，所述传送轴位于用于处理基片的工作区中；和用于防止传送轴下垂的下垂预防装置，所述下垂预防装置位于传送轴附近。

【技术特征摘要】
KR 2003-1-27 10-2003-00051891.一种用于平面显示器的基片加工系统中的基片传送设备，包括用于传送基片的多个传送轴，所述传送轴位于用于处理基片的工作区中；和用于防止传送轴下垂的下垂预防装置，所述下垂预防装置位于传送轴附近。2.根据权利要求1所述的基片传送设备，其特征在于，所述轴下垂预防装置包括一个用于向传送轴喷射流体的流体喷射支架。3.根据权利要求2所述的基片传送设备，其特征在于，所述流体喷射支架包括至少两个向传送轴的下半部分喷射流体的喷嘴。4.根据权利要求2所述的基片传送设备，其特征在于，所述流体喷射支架被设计为在多个方向向传送轴喷射流体。5.根据权利要求2所述的基片传送设备，其特征在于，所述流体喷射支架包括上喷嘴、下喷嘴、左喷嘴和右喷嘴，上喷嘴和下喷嘴连接到第一流体发生器，左喷嘴和右喷嘴连接到第二流体发生器，从而通过控制第一和第二流体发生器产生的流体的压力防止传送轴在某一个方向上产生位移。6.根据权利要求1所述的基片传送设备，其特征在于，所述轴下垂预防装置包括和传送轴的外圆周面的相对两侧接触的滚轮。7.根据权利要求1所述的基片传送设备，其特征在于，所述轴下垂预防装置安装在传...

【专利技术属性】
技术研发人员：李东万，
申请(专利权)人：显示器生产服务株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]