相对于支撑台定位基片的方法与设备技术

一种对准装置，包括：（１）第一推块，其适于接触支撑于支撑台上的基片的边缘，并适于沿第一平移路径横向平移；（２）第二推块，其适于接触所述基片的所述边缘并适于沿第二平移路径横向平移，所述第二平移路径与所述第一平移路径成一定角度并与所述第一平移路径相交；（３）一框架，所述第一和第二推块可移动地连接于其上，所述框架适于将所述第一和第二推块保持在所述基片的所述边缘的高度上；（４）第一偏置元件，其连接到所述第一推块与所述框架之间并适于将所述第一推块压靠在所述基片的所述边缘上；（５）第二偏置元件，其连接到所述第二推块与所述框架之间并适合独立于所述第一推块的偏压作用而将所述第二推块压靠在所述基片的所述边缘上。本发明专利技术还提供了其它方式。

【技术实现步骤摘要】

本申请一般关于基片处理，尤其关于相对于支撑台定位基片。
技术介绍
在平板显示器的制造过程中，玻璃基片可被放置在支撑台(support stage)上，以进行处理和/或测试。典型的基片处理可包括光刻、沉积、蚀刻、退火等，典型的基片测试可包括检验在基片上形成的薄膜晶体管的工作状态，电子束检查(e-beam inspection)，探伤(defect detection)等。为了准确识别用于进行处理和/或测试的装置和/或基片的位置，和/或为了减少器件/位置的搜索时间，应该确定基片相对于支撑台的位置。因此，需要一种能快速、精确定位基片相对于支撑台位置的改进的方法和设备。
技术实现思路
在本专利技术第一方式中，提供了一种对准装置(alignment device)，其适于横向推动支撑于支撑台上的基片，以使所述基片相对于所述支撑台滑动。所述对准装置包括(1)第一推块(pusher)，其适于接触支撑于所述支撑台上的基片的一个边缘，并适于沿第一平移路径(path of translation)横向平移；(2)第二推块，其适于接触所述基片的所述边缘并适于沿第二平移路径横向平移，所述第二平移路径与所述第一平移路径成一定角度并在一路径交接点与所述第一平移路径相交；(3)一个框架，所述第一和第二推块可移动地连接于其上，所述框架适于将所述第一和第二推块保持在支撑于所述支撑台上的所述基片的所述边缘的高度上；(4)第一偏置元件(biasing element)，其连接在所述第一推块与所述框架之间并适于将所述第一推块压靠(bias against)在所述基片的所述边缘上；(5)第二偏置元件，其连接在所述第二推块与所述框架之间并适合独立于所述第一推块的偏压作用而将所述第二推块压靠在所述基片的所述边缘上。在本专利技术的第二方式中，提供了一种基片校准系统(substrate calibrationsystem)，其包括在支撑台周围间隔开设置的多个对准装置(alignment device)。所述多个对准装置中的每一个均包括(1)第一推块，其适于接触支撑于所述支撑台上的基片的一个边缘，并适于沿第一平移路径横向平移；(2)第二推块，其适于接触所述基片的所述边缘并适于沿第二平移路径横向平移，所述第二平移路径与所述第一平移路径成一定角度并在一路径交接点与所述第一平移路径相交；(3)一个框架，所述第一和第二推块可移动地连接于其上，所述框架适于将所述第一和第二推块保持在支撑于所述支撑台上的所述基片的所述边缘的高度上；(4)第一偏置元件，其连接于所述第一推块与所述框架之间并适于将所述第一推块压靠在所述基片的所述边缘上；(5)第二偏置元件，其连接于所述第二推块与所述框架之间并适合独立于所述第一推块的偏压作用而将所述第二推块压靠在所述基片的所述边缘上。本专利技术也提供了许多其它方式，比如与本专利技术这些或其它方式相应的方法和设备。通过下面对示例性实施例的详细描述、所附权利要求以及附图，本专利技术的其它特征和方式将更为清楚。附图说明图1是根据本专利技术的基片校准系统示例性实施例的示意性俯视图。图2A是图1中推动装置之一的示意性俯视图，其中该推动装置(pushingdevice)中的推块远离该推动装置框架上的毂部回缩。图2B是图1中推动装置之一的示意性俯视图，其中该推动装置中的推块在该基片相对于支撑台校准前与基片的边缘发生接触。图2C是图1中推动装置之一的示意性俯视图，其中基片已经相对于支撑台被校准。图3和4分别是一个推动装置的分解装配立体图和侧剖视图，该推动装置包括图1和图2A-2C中所示的推动装置的一个示例性实施例。具体实施例方式用于玻璃基片生产的传统制造方法可以生产尺寸不同的基片，该玻璃基片例如用于平板显示器和其它应用。例如，具有标称宽度和长度为1米×1.2米的玻璃基片每侧可有+/-0.5mm或更大的偏差(variation)。玻璃基片尺寸的这种偏差在器件处理和/或测试中可能产生问题。例如，在掩模对齐(mask alignment)过程中，光刻系统(lithographic system)可能依赖一个或多个电子束(e-beams)搜索位于基片表面上的注册号(registration mark)。当基片上期望电子束在其内进行扫描的表面区域被最小化时，电子束会运行(function)得最好，所述扫描例如是为了查找其中的特定注册号。然而，基片尺寸如上文所述的偏差往往会增加电子束必须在其内扫描以便定位注册号的面积。电子束扫描面积的任何增加均可能增加查找注册号所需的时间。由于在基片表面上的掩模印刷必须被延迟，直至建立合适的对齐状态，因此较长的扫描时间会直接影响光刻处理的效率。而且，较长的电子束扫描时间会由于电子束扫描过程中出现的过量电荷积累而损坏形成于基片上的器件(device)。在本专利技术第一方式中，此处所公开的方法和设备适于使放置于支撑台上的基片相对于该支撑台进行定位和/或定向调节(adjustment)，该支撑台可以是检测台或其它类型的基片处理台。优选，根据本专利技术第一方式进行的基片定位和/或定向会使相对于支撑台的已知位置和方向对基片至少进行粗对准(roughalignment)。在一特定实施例中，尽管基片尺寸有偏差，但这种粗对准可以进行，从而在光刻处理过程中减少和/或最小化电子束的扫描面积和/或扫描时间。如下文进一步描述的，这种基片对准(substrate alignment)操作可以快速完成，并且成本也不高，并可以与其它基片处理步骤一起采用和/或在器件测试过程中采用。图1是根据本专利技术的基片校准系统(substrate calibration system)101的示例性实施例的示意性俯视图。所示出的基片校准系统101位于支撑台103的附近，支撑台103支撑着具有一边缘107的基片105。在图1所示出的实施例中，该基片校准系统101包括在支撑台103周围间隔开设置的四个对准装置(例如推动装置109)。也可以使用或少或多的推动装置。每个推动装置109均邻近支撑台103的拐角设置(其它位置也可接受，诸如邻近支撑台103的一侧)。每个推动装置109均可以包括一第一推块支撑件113a和一第二推块支撑件113b，第一推块支撑件113a适合相对于推动装置109的框架111沿第一平移路径115a移动(借助第一推块117a接触基片105)，第二推块支撑件113b适合相对于推动装置109的框架111沿第二平移路径115b移动(借助第二推块117b接触基片105)。每个推动装置109的框架111均可以包括一毂部(hubportion)119(例如，通常位于第一平移路径115a与第二平移路径115b相交的路径交叉点121处)。推动装置109的框架111也可以使用其它的结构，例如框架111可以没有任何部分位于路径交叉点121处。仍如图1所示，推动装置109的框架111上的毂部119可被定位和构造成整体或部分位于基片105的下方。此外，毂部119可被定位和构造成整体或部分位于支撑台103的下方。因此，显然，如果基片校准系统101的存在增加了整个系统的所占面积(footprint)(例如该所占面积在给定的处理或检查工具内，主要是由支撑台103的宽度和长度所确定)，那么这种增加相对于该支撑台103的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对准装置，其适于横向推动支撑于支撑台上的基片，以使所述基片相对于所述支撑台滑动，所述对准装置包括：　　　　第一推块，所述第一推近器适于接触支撑于所述支撑台上的基片的一个边缘，并适于沿第一平移路径横向平移；　　　　第二推块，所述第二推块适于接触所述基片的所述边缘并适于沿第二平移路径横向平移，所述第二平移路径与所述第一平移路径成一定角度并在一路径交接点与所述第一平移路径相交；　　　　一个框架，所述第一和第二推块可移动地连接于其上，所述框架适于将所述第一和第二推块保持在支撑于所述支撑台上的所述基片的所述边缘的高度上；　　　　第一偏置元件，其连接在所述第一推块与所述框架之间并适于将所述第一推块压靠在所述基片的所述边缘上；　　　　第二偏置元件，其连接在所述第二推块与所述框架之间并适合独立于所述第一推块的偏压作用而将所述第二推块压靠在所述基片的所述边缘上。

【技术特征摘要】
US 2003-2-20 60/448,8551.一种对准装置，其适于横向推动支撑于支撑台上的基片，以使所述基片相对于所述支撑台滑动，所述对准装置包括第一推块，所述第一推近器适于接触支撑于所述支撑台上的基片的一个边缘，并适于沿第一平移路径横向平移；第二推块，所述第二推块适于接触所述基片的所述边缘并适于沿第二平移路径横向平移，所述第二平移路径与所述第一平移路径成一定角度并在一路径交接点与所述第一平移路径相交；一个框架，所述第一和第二推块可移动地连接于其上，所述框架适于将所述第一和第二推块保持在支撑于所述支撑台上的所述基片的所述边缘的高度上；第一偏置元件，其连接在所述第一推块与所述框架之间并适于将所述第一推块压靠在所述基片的所述边缘上；第二偏置元件，其连接在所述第二推块与所述框架之间并适合独立于所述第一推块的偏压作用而将所述第二推块压靠在所述基片的所述边缘上。2.如权利要求1所述的对准装置，其中所述第二平移路径的至少一部分垂直于所述第一平移路径的至少一部分。3.如权利要求1所述的对准装置，还包括适于使所述第一和第二推块中的至少一个移离所述支撑台的推块回缩装置。4.如权利要求3所述的对准装置，其中所述推块回缩装置还适于使所述第一和第二推块都移离所述支撑台。5.如权利要求1所述的对准装置，其中所述第一和第二推块均适于相对于所述框架横向平移。6.如权利要求1所述的对准装置，还包括第一导轴，其适于限定所述第一平移路径；以及第二导轴，其适于限定所述第二平移路径。7.如权利要求1所述的对准装置，还包括第一推块支撑件，其连接到所述第一推块上并可移动地连接到所述框架上，并且其适于沿所述第一平移路径移动；第二推块支撑件，其连接到所述第二推块上并可移动地连接到所述框架上，并且其适于沿所述第二平移路径移动；第一挡板，其连接到所述框架上并适于限制所述第一推块支撑件沿所述第一平移路径离开所述支撑台的运动；第二挡板，其连接到所述框架上并适于限制所述第二推块支撑件沿所述第二平移路径离开所述支撑台的运动。8.如权利要求1所述的对准装置，其中所述第一和第二推块还适于通过平移离开所述支撑台而将所述基片装载在所述支撑台上。9.如权利要求8所述的对准装置，还包括第一推块支撑件，其连接到所述第一推块上并可移动地连接到所述框架上，并且其适于沿所述第一平移路径移动；第二推块支撑件，其连接到所述第二推块上并可移动地连接到所述框架上，并且其适于沿所述第二平移路径移动；第一间隔机构，其适于形成一限制所述第一推块支撑件可能沿着所述导轴向所述支撑台移动的一个限制；第二间隔机构，其适于形成一限制所述第二推块支撑件可能沿着所述导轴向所述支撑台移动的一个限制。10.如权利要求1所述的对准装置，还包括第一推块支撑件，其连接到所述第一推动装置上并可移动地连接到所述框架上，并且其适于沿所述第一平移路径移动；第二推块支撑件，其连接到所述第二推动装置上并可移动地连接到所述框架上，并且其适于沿所述第二平移...

【专利技术属性】
技术研发人员：S栗太，R库斯勒，
申请(专利权)人：应用材料有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]