相对于支撑台定位基片的方法与设备技术

在本发明专利技术的第一个方式中，一个基片定位系统包括在支撑基片的一个台的周围间隔开设置的多个推块；每个推块适于设置一个回缩位置以使所述基片被装载在所述台上或从其上卸载；向支撑在所述台上的所述基片的一个边缘延伸；接触所述基片的所述边缘；并且持续延伸以使所述基片相对于所述台移动，直到所述基片相对于所述台校准。本发明专利技术还提供了许多其它方式。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本申请一般关于基片处理，尤其关于相对于支撑台定位基片。
技术介绍
在平板显示器的制造过程中，玻璃基片可被放置在支撑台(support stage)上，以进行处理和/或测试。典型的基片处理可包括光刻、沉积、蚀刻、退火等，典型的基片测试可包括检验在基片上形成的薄膜晶体管的工作状态，电子束检查(e-beam inspection)，探伤(defect detection)等。为了准确识别用于进行处理和/或测试的装置和/或基片的位置，和/或为了减少器件/位置的搜索时间，应该确定基片相对于支撑台的位置。因此，需要一种能快速、精确定位基片相对于支撑台位置的改进的方法和设备。
技术实现思路
在本专利技术第一方式中，提供一种基片定位系统(substrate positioning system)，其适于相对于一个基片的支撑台调整所述基片的位置。所述基片定位系统包括多个在支撑台周围的间隔开设置的推块(pusher)。每个推块均适于(1)设置一个回缩位置以使所述基片被装载在所述支撑台上或从其上卸载下来；(2)向支撑在所述台上的所述基片的一个边缘延伸；(3)接触所述基片的所述边缘；以及(4)持续延伸以使所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基片定位系统，其适于相对于一个台，调整一个基片的一个边缘的位置，所述台支撑所述基片，所述基片定位系统包括：多个推动装置和挡块，所述多个推动装置和挡块在一个适于支撑基片的台的周围间隔开设置，其中每个挡块相对于所述台占据一个固定位置 ，并且每个推动装置包括一个可移动的推块，所述推块适于：向由所述台支撑的所述基片的一个边缘延伸；当所述基片支撑在所述台上时，接触所述基片的所述边缘；以及持续延伸以使所述基片相对于所述台向一个或多个挡块移动，直到所述基片 接触所述一个或多个挡块。

【技术特征摘要】
US 2003-2-20 60/448,9721.一种基片定位系统，其适于相对于一个台，调整一个基片的一个边缘的位置，所述台支撑所述基片，所述基片定位系统包括多个推动装置和挡块，所述多个推动装置和挡块在一个适于支撑基片的台的周围间隔开设置，其中每个挡块相对于所述台占据一个固定位置，并且每个推动装置包括一个可移动的推块，所述推块适于向由所述台支撑的所述基片的一个边缘延伸；当所述基片支撑在所述台上时，接触所述基片的所述边缘；以及持续延伸以使所述基片相对于所述台向一个或多个挡块移动，直到所述基片接触所述一个或多个挡块。2.如权利要求1所述的基片定位系统，其中每个推动装置适于使所述推动装置的所述推块向支撑在所述台上的所述基片的所述边缘延伸；使所述推动装置的所述推块在所述基片支撑在所述台上时，接触所述基片的所述边缘；以及使所述推动装置的所述推块持续延伸，以使所述基片相对于所述台向一个或多个挡块移动，直到所述基片接触所述一个或多个挡块。3.如权利要求2所述的基片定位系统，其中每个推动装置的所述推块还适于从所述基片的所述边缘回缩；以及每个推动装置还适于使所述推动装置的所述推块从所述基片的所述边缘回缩。4.如权利要求1所述的基片定位系统，还包括一个与每个推动装置耦合的控制器，并且适于使每个推动装置的所述推块向支撑在所述台上的所述基片的所述边缘延伸；使每个推动装置的所述推块在所述基片支撑在所述台上时，接触所述基片的所述边缘；以及使每个推动装置的所述推块持续延伸，以使所述基片相对于所述台向一个或多个挡块移动，直到所述基片接触所述一个或多个挡块。5.如权利要求1所述的基片定位系统，其中每个推块还适于沿一直线路径，向所述基片的所述边缘延伸。6.如权利要求5所述的基片定位系统，其中所述多个推动装置位于一个包含所述推块的所述直线路径的公共平面上。7.如权利要求6所述的基片定位系统，其中所述多个推动装置包括一个第一推动装置，其这样定位，即使所述第一推动装置的所述推块在第一方向上延伸；以及一个第二推动装置，其这样定位，即使所述第二推动装置的所述推块在一个基本上垂直于所述第一方向的第二方向上延伸。8.如权利要求1所述的基片定位系统，其中每个推动装置还包括一个偏压装置，其与所述推动装置的所述推块连接，并适于将所述推块向所述基片的所述边缘移动。9.如权利要求8所述的基片定位系统，其中所述偏压装置包括一弹簧。10.如权利要求8所述的基片定位系统，其中每个推动装置还包括一个回缩装置，它与所述推动装置的所述推块连接，并适于抵抗所述偏压装置以将所述推块从所述基片的所述边缘移走。11.一种推动装置，包括一推块，该推块适于向支撑在所述台上的所述基片的一个边缘延伸；当所述基片支撑在所述台上时，接触所述基片的所述边缘；以及持续延伸以使所述基片相对于所述台向一个或多个挡块移动，直到所述基片接触所述一个或多个挡块。12.如权利要求11所述的推动装置，还包括一个偏压装置，其适于向所述推块施加一偏压力；以及一个抗偏压装置，其适于向所述推块施加一回缩力，以抵抗所述偏压装置的所述偏压力。13.如权利要求12所述的推动装置，还包括与所述偏压装置和所述抗偏压装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：S栗太，E贝尔，
申请(专利权)人：应用材料有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]