用于接触检验对象的装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及定位基底（１４０）以及为了用具有光轴或相应设备的检验装置检验而接触检验对象（３０１）的方法。从而，基底被放置在支撑台（１３０）上。相对于光轴定位基底。接触单元（１５０）也相对于光轴被定位，其中接触单元的定位与基底的定位操作无关。因此可以实现基底上检验对象的灵活接触。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及检验大的面积。因此，使用采用粒子束的特别检验作 为检验方法。本专利技术尤其涉及接触检验对象。具体地，本专利技术涉及定 位与接触基底的方法、用于检验基底的方法、以及用于接触至少一个 用于检验的检验对象的装置和检验系统。
技术介绍
随着对没有显像管的显示器元件需求的增加，液晶显示器(LCD) 和其他显示器元件(其中使用控制元件，例如薄膜晶体管(TFT))的 标准也越来越多地被使用。这些显示器元件的像素排列成矩阵。而且，在其他一些领域中也必须检验越来越多的元件。举例来说， 这可能是例如微电子的或微观结构的元件。这些元件是例如薄膜晶体 管、芯片的连接网络、晶体管、射极阵列的电子发射极、显示器像素 的电极、阵列的微观结构镜面以及其他元件，这些元件区别于其它组件 的独特之处在于被表示为多个单元(100.000a到几个1.000.000)，由 此每一元件是电可控的。为了获得例如显示器元件的良好画面品质，只允许几百万个像素 中的少部分有缺陷。为保证成本有效的生产，因此提供高性能现场检 验方法很重要，尤其是对于大小持续增长的显示器元件。例如在文献 EP523594中公开了这样一种检验方法。这种检验方法中，采用粒子束 检验单个像素。粒子束能够用于检测经过电源线施加的电荷和/或用于对于这样的检验方法，使用接触单元，接触单元一方面允许到外 部设备的信号传送，另一方面允许电子束扫描。因此，根据现有技术， 存在着不同的解决方案。如果显示器被检验，则可能在显示器区域周围安放框架，其提供 与显示器的电接触。 一个基底上通常安放着多个显示器。由于考虑到 电子束系统有限的测量范围，每次只能检验一个显示器，为了检验另 外一个显示器，接触单元被提升，然后基底被移动，接触单元置于下 一个显示器上。然而，使用这样的装置，只有能够通过粒子束扫描到 达到其整个表面的显示器能够被检验。此外，存在这祥的基础框架，其同时接触玻璃基底上的所有显示 器。如果要检验其他显示器，则这样的接触框架与基底一起移动。这种用于整个基底的接触框架的一个缺点是，在显示器大小变化 的情况下必须更换整个接触框架。因此，在不同批次的情况下系统必 须被开口，这就降低了生产效率。此外，必须为不同的显示器类型和 显示器大小存储接触框架，以备需要的时候使用。
技术实现思路
本专利技术的目标是至少部分地解决现有技术中的问题。特别地，应 该提供这样的可能性，即在检验过程中，用一个装置检验具有不同检 验对象尺寸的不同检验对象。因此，本专利技术的上下文中的检验对象是例如显示器、显示器组、 其他微电子或微观结构元件阵列、以及例如检验短路及电路区域间断 开接触的单个电路。现有技术中的上述问题由根据权利要求17， 19, 21, 35， 40以 及42所述的装置以及根据权利要求1， 6和36所述的方法至少得到 部分的解决。本专利技术的优选实施例以及特殊方面在从属权利要求中表示。 根据一个方面，本专利技术的目标是通过在使用具有光轴的检验装置检验的过程中定位接触单元的方法来解决的。因此，具有多个检验对 象的基底被定位在样品支架，即基底支撑台上。基底相对于光轴移动， 使得检验对象的区域位于检验装置的测量范围之内。定位一个用于接 触检验对象的接触单元，由此，接触单元的定位至少部分地不和基底 的定位耦合。接触单元的定位适用于使接触单元同检验对象的一个连 接装置或几个连接装置接触。根据本专利技术的另一个方面，通过用检验装置检验带多个检验对象 的基底的方法，进一步解决目标。基底放置于样品支架上。基底上检 验对象中第一检验对象的接触装置与接触单元接触。定位支撑台，并 因此定位基底，以便能够在检验装置的检验范围内测量第 一检验对象 的第一区域。于是，第一检验对象的第一区域被检验。重新定位支撑 台，并因此定位基底，以便在检验装置的检验范围内至少检验检验对 象的另外一个区域。定位接触单元，使得相对于基底的位置基本不变。 检验对象的所述至少另外一个区域被检验。基底再次被重新定位，以 检验第二检验对象的一个区域。为了检验第二检验对象的该区域，接触单元相对于基底移动。用本专利技术的上述方面可能接触不同形式的检验对象，而不是必需 更换接触单元。另外，可能用检验装置检验大小超过检验装置检验范围的检验对象。在上文中，用于产生测量信号的部件被理解为检验装置。这些部件是用于产生基本粒子束的源、用于将粒子束定向到表 面上的束整形及束偏转部件(这个表面用于获得检验信号)、用于定 向及/或成像测量信号到检测单元上的部件、以及检测单元。与以下事实无关地，即在与现有技术比较时，应该避免更换接触 单元，但是，偶然的更换可能会有利于维护等。接触单元典型地为可 更换单元。在上述方面的范围内，特别优选的是如果接触单元的定位是通过 对应于接触单元的驱动器来进行。因此，接触单元可以快速灵活地从 一个位置移动到下一个位置。这提高了整个基底的检验速度，并且因 此提高了检验系统的吞吐量。根据另外一个方面，专利技术目标通过用于接触的装置(该装置用于 检验系统)来解决。这个系统包括带有定位单元的样品支架。定位单 元在与检验装置的光轴垂直的两个方向上都有移动范围。接触单元在 与检验装置的光轴垂直的两个方向上都有移动范围。因此，接触单元 发至少一个移动范围小于样品支架相应的移动范围。根据本专利技术的一个方面，揭示了一种用于接触的装置。这个装置 包括基底的支撑台和相应的移动单元。此外，还存在可移动的接触单 元，这个可移动的接触单元在至少一个与粒子束检验器的光轴垂直的 方向上的尺寸小于支撑台在这个方向上的尺寸。本专利技术的主要方面是用于接触的装置。这个装置包括基底的支架 和相应的移动单元。此外，还存在可移动的接触单元，这个可移动的 接触单元在至少一个与粒子束检验器的光轴垂直的方向上的尺寸最大 为支撑台在这个方向上尺寸的一半。因此，支撑台可以是辊子装置上的基底面，基底安放在这个基底 面上。支撑台是基底支撑单元。也就是说，基底位于支撑台上或者说 支撑台支撑着基底。根据本专利技术的另外一个方面，揭示了一种用于接触的装置。这个 装置包括基底的支撑台和相应的移动单元。此外，还存在可移动的接 触单元，这个可移动的接触单元在至少一个与粒子束检验器的光轴垂 直的方向上比基底小或者最大为基底在这个方向上尺寸的一半。通过本专利技术能够改进的装置通常都有大于基底的支撑台。在基底 应该大于支撑台的情况下，接触单元和支架之间的上述相对大小至少 参考待检验的基底。这就表示，相对于基底提供接触单元的相对尺寸。因此，特别优选的是如果接触单元在垂直于粒子束检验器光轴的 两个方向上最大是支架在这个方向上尺寸的一半。本专利技术也可以做如下简短表述。根据本专利技术的一个方面，通过检 验系统中用于接触的装置解决本专利技术的目标。这个检验系统包括支撑 台(其可相对于检验装置的光轴移动)以及接触单元(其也可以相对 于光轴移动)。接触单元在检验基底期间也可以相对于基底移动。根据这个方面，优选的是如果接触单元在检验基底的检验对象期间可移动至少10cm,尤其优选的是移动至少25cm。根据另外一个方面，本专利技术的目标通过检验系统来解决。这个检 验系统包括粒子束管、检验室以及根据上述方面之一的用于接触基底 上至少一个检验对象的装置。因此，优选的是如果检验室能够被抽气。而且，优本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于接触位于基底上的电子设备的装置，包括：　位于基底和具有光轴的光学检验设备之间的接触单元，所述接触单元包括具有第一尺寸的框架以及用于在垂直于所述光轴的方向上相对于所述基底和所述光学检验设备移动所述框架的电机，其中所述第一尺寸为所 述基底的长度的一半或者更小。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：马蒂亚斯布伦纳，
申请(专利权)人：应用材料有限公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]