支撑架及应用此支撑架的传送机构制造技术

本发明专利技术是关于一种支撑架及应用此支撑架的传送机构，该支撑架适于支撑一基板。该支撑架主要由一主支撑件、一次支撑件及多个定位块所构成。主支撑件具有一主支撑面，次支撑件是枢设于主支撑件上且具有一次支撑面。次支撑件区分为一第一部分与一第二部分，分别位于次支撑件与主支撑件的枢设处两侧，次支撑件适于在一第一位置及一第二位置间运动。其中，第二部分在第一位置时是高于主支撑面。定位块分别配设于主支撑件的主支撑面上，以及次支撑件的第一部分的次支撑面上。本发明专利技术可确保支撑架离开工作腔体时，次支撑架上的定位块不会碰到基板，不会造成基板偏移或带出工作腔体，减少因基板移位而需停工的机会，进而可提高平面显示器的产能且降低生产成本。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种支撑架(Holder)及应用此支撑架的传送机构，特别是涉及一种适于支撑一基板的支撑架及应用此支撑架的传送机构。
技术介绍
针对多媒体社会的急速进步，多半受惠于半导体元件(Semiconductordevice)或人机显示装置的飞跃性进步。就人机显示装置而言，具有高画质、空间利用率佳、低消耗功率、无辐射等优越特性的平面显示器已逐渐成为市场的主流。在大部分平面显示器的制作过程中，皆会在一基板上进行例如薄膜沉积(Thin film deposition)、微影(photolithography)与蚀刻(Etching)等各种制程。以微影制程为例，其主要包括光阻涂布(Photoresist coating)、曝光(Exposure)、显影(Development)与光阻去除(Photoresist stripping)等制程。为进行上述各类制程，在目前先进的自动化平面显示器生产工厂中，大都同时配置有各式制程设备。以微影制程设备为例，其是将基板置放于一支撑架上，再由一机械手臂(Robot)将支撑架连同基板移入微影制程设备的工作腔体(Operatingchamber)中，并本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种支撑架，适于支撑一基板，其特征在于该支撑架包括：一主支撑件，其具有一主支撑面；一次支撑件，枢设于该主支撑件上，该次支撑件具有一次支撑面，而该次支撑件是区分为一第一部分与一第二部分，其分别位于该次支撑件与该主支撑件的枢设处 的两侧，该次支撑件适于在一第一位置及一第二位置间运动，其中该第二部分在该第一位置时是高于该主支撑面；以及多数个定位块，分别配设于该主支撑件的该主支撑面上与该次支撑件的该第一部分的该次支撑面上。

【技术特征摘要】
1.一种支撑架，适于支撑一基板，其特征在于该支撑架包括一主支撑件，其具有一主支撑面；一次支撑件，枢设于该主支撑件上，该次支撑件具有一次支撑面，而该次支撑件是区分为一第一部分与一第二部分，其分别位于该次支撑件与该主支撑件的枢设处的两侧，该次支撑件适于在一第一位置及一第二位置间运动，其中该第二部分在该第一位置时是高于该主支撑面；以及多数个定位块，分别配设于该主支撑件的该主支撑面上与该次支撑件的该第一部分的该次支撑面上。2.根据权利要求1所述的支撑架，其特征在于其中所述的次支撑件的枢转角度是小于90度。3.根据权利要求1所述的支撑架，其特征在于其中所述的主支撑件更具有一底面与一承靠面，该底面是对应于该主支撑面，该承靠面是位于该次支撑件的枢设处与该底面之间，而该底面与该承靠面的夹角是小于90度。4.根据权利要求1所述的支撑架，其特征在于其更包括一恢复元件，该恢复元件是配设于该主支撑件与该次支撑件之间。5.根据权利要求4所述的支撑架，其特征在于其中所述的恢复元件包括压缩式弹簧(Compression spring)，且该恢复元件的一端是连接于该主支撑件上。6.根据权利要求4所述的支撑架，其特征在于其中所述的恢复元件包括压缩式弹簧，且该恢复元件的一端是连接于该次支撑件上。7.根据权利要求4所述的支撑架，其特征在于其中所述的恢复元件包括扭转式弹簧(Torsion spring)，且该些恢复元件是配设于该次支撑件的枢设处。8.根据权利要求4所述的支撑架，其特征在于其中所述的恢复元件的两端分别连接至该次支撑件与该主支撑件。9.根据权利要求1所述的支撑架，其特征在于其中所述的定位块分别具有一导引面，用以导引该基板至该些定位块之间。10.根据权利要求1所述的支撑架，其特征在于其中所述的次支撑件在受该基板的施力而枢转后，该次支撑面是与该主支撑面共面。11.一种传送机构，适于传送一基板，其特征在于该传送机构包括一基板置放...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐顺龙，枫政国，沈秋威，曾焕均，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]