透明导电膜和其形成方法、电光学装置及电子仪器制造方法及图纸

提供对于透明导电膜微细的图案形成可能而且防止由气体或水分的影响造成的透光率降低的透明导电膜和其形成方法及具备这样的透明导电膜的电光学装置、电子仪器。其透明导电膜的形成方法具备：用以聚硅氧烷作为骨架的材质在基板（Ｐ）上形成与像素电极（透明导电膜）（１９）的形成区域相对应的围堰（Ｂ４）的工序；用液滴喷出法在由围堰（Ｂ４）划分的区域内配置含有透明导电性微粒子的第１功能液的工序；干燥处理第１功能液而作成第１层膜（１９ｃ）的工序；用液滴喷出法在第１层膜（１９ｃ）上配置含有金属化合物的第２功能液的工序；和一起烧成第１层膜（１９ｃ）和第２功能液形成由第１层膜（１９ｃ）和埋住该膜中的空隙的金属氧化物构成的透明导电层（１９ａ）的工序。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及透明导电膜和其形成方法及具备该透明导电膜的电光学装置、电子仪器。
技术介绍
液晶显示装置等电光学装置在显示侧形成像素电极的情况下，该像素电极需要透过光，并由ITO(铟锡氧化物)等构成的透明导电膜形成了像素电极。形成由这样的ITO构成的透明导电膜的情况下，一般多采用溅射法或真空镀膜法等气相法。用溅射法等的气相法时，由于成膜后需要进行图案形成，所以通常用光刻法进行图案形成。但是，用光刻法的图案形成存在成膜处理及蚀刻处理时需要有真空装置等的大规模的设备和复杂的工序，另外以使用率数％左右和而不得不废弃其大部分到材料，不仅制造成本高，而且生产率也低。鉴于这样的背景，提供用液相法形成透明导电膜的技术。例如，众所周知有用浸渍、旋转、移动(floating)、网版、凹版、胶版等的涂布方法或印刷法涂布将ITO的微粒子分散在树脂及有机溶剂中所得到的分散液，然后干燥·烧成而形成透明导电膜的方法(例如，参照专利文献1)。由于用这样的方法特别是由ITO微粒子得到的膜具有空隙，所以需要防止受气体或水分的影响而改变导电性(比电阻)，形成用于埋住空隙的金属氧化膜，从而难以受到气体或水分的影响。专利本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透明导电膜的形成方法，在基板上形成透明导电膜，其中，具备：用以聚硅氧烷作为骨架的材质，在基板上形成与上述透明导电膜的形成区域相对应的围堰的工序；用液滴喷出法在由上述围堰划分的区域内配置含有透明导电性微粒子的第１功能液的工 序；干燥处理上述第１功能液而作成第１层膜的工序；用液滴喷出法在上述第１层膜上配置含有金属化合物的第２功能液的工序；和一起烧成上述第１层膜和第２功能液，形成由上述第１层膜和埋住该第１层膜中的空隙的金属氧化物构成的透明导 电层的工序。

【技术特征摘要】
JP 2005-5-23 2005-1491001.一种透明导电膜的形成方法，在基板上形成透明导电膜，其中，具备用以聚硅氧烷作为骨架的材质，在基板上形成与上述透明导电膜的形成区域相对应的围堰的工序；用液滴喷出法在由上述围堰划分的区域内配置含有透明导电性微粒子的第1功能液的工序；干燥处理上述第1功能液而作成第1层膜的工序；用液滴喷出法在上述第1层膜上配置含有金属化合物的第2功能液的工序；和一起烧成上述第1层膜和第2功能液，形成由上述第1层膜和埋住该第1层膜中的空隙的金属氧化物构成的透明导电层的工序。2.根据权利要求1所述的透明导电膜的形成方法，其中，在惰性气氛中或者还原性气氛中进行一起烧成上述第1层膜和第2功能液的工序。3.根据权利要求1或2所述的透明导电膜的形成方法，其中，在大气中进行干燥处理上述第1功能液的工序。4.根据权利要求1～3的任一项所述的透明导电膜的形成方法，其中，通过涂布含有光酸发生剂并作为正型抗蚀剂发挥功能的感光性聚硅氮烷液或者感光性聚硅氧烷液，然后使其曝光、显影、图案形成后烧成而进行上述形成围堰的工序。5.根据权利要求1～4的任一项所述的透明导电膜的形成方法，其中，在上述第1层膜上配置第2...

【专利技术属性】
技术研发人员：平井利充，守屋克之，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]